彩色濾光基板的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種彩色濾光基板的制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來，隨著科技的發(fā)展，液晶顯示器技術(shù)也隨之不斷完善。TFT-1XD(Thin FilmTransistor-Liquid Crystal Display，薄膜場(chǎng)效應(yīng)晶體管-液晶顯示器)以其圖像顯示品質(zhì)好、能耗低、環(huán)保等優(yōu)勢(shì)占據(jù)著顯示器領(lǐng)域的重要位置，但是其色彩很難覆蓋完全的色域。近幾年興起的基于有機(jī)發(fā)光二極管(0LED)的顯示技術(shù)也日益成熟，其構(gòu)造簡(jiǎn)單，厚度薄，響應(yīng)速度快，可以實(shí)現(xiàn)更加豐富的色彩。同時(shí)，隨著量子點(diǎn)的誕生，量子點(diǎn)顯示器也應(yīng)運(yùn)而生，由于量子點(diǎn)(Quantum Dots)發(fā)光波長(zhǎng)范圍極窄，顏色非常純粹，還可實(shí)現(xiàn)精細(xì)調(diào)節(jié)，與目前的顯示屏相比，新顯示屏在大大提高了亮度和畫面鮮艷度的同時(shí)，還減少了能耗。
[0003]量子點(diǎn)(Quantum Dots，QDs)又可以稱納米晶，是一種由II 一 VI族或III 一 V族元素組成的納米顆粒。量子點(diǎn)的粒徑一般介于1?20nm之間，由于電子和空穴被量子限域，連續(xù)的能帶結(jié)構(gòu)變成具有分子特性的分立能級(jí)結(jié)構(gòu)。因此，量子點(diǎn)受到藍(lán)紫光激發(fā)后，可轉(zhuǎn)換成高純度的單色光，顏色可通過量子點(diǎn)的直徑控制，應(yīng)用于面板顯示技術(shù)可有效地提高面板的色域，即色彩再現(xiàn)能力。
[0004]目前量子點(diǎn)已被廣泛應(yīng)用于面板顯示技術(shù)，用來提升顯示面板的色域。其中，將量子點(diǎn)與光刻膠結(jié)合，制作成新型的彩色濾光片成為一種主流趨勢(shì)。然而，量子點(diǎn)單價(jià)高，使用現(xiàn)有的黃光蝕刻技術(shù)制作量子點(diǎn)彩色濾光片的成本太高，因?yàn)榱孔狱c(diǎn)的利用率較低，而且量子點(diǎn)容易被光起始劑淬滅，失去光轉(zhuǎn)換功能。因此，利用噴墨打印技術(shù)(Ink-JetPrinting，IJP)來制作量子點(diǎn)彩色濾光片被視為可行性最高的技術(shù)。
[0005]請(qǐng)參閱圖1至圖3，IJP制程中，為了防止量子點(diǎn)膠300自由流動(dòng)導(dǎo)致混色，一般需要用到擋墻。如圖1所示，已有許多專利利用在基板100上形成黑色矩陣(Black Matrix,BM) 200、光阻間隔物(Photo Spacer，PS)、或者其他負(fù)型光阻作為擋墻，如圖2所示，如果黑色矩陣200擋墻過低則易發(fā)生混色問題，如圖3所示，如果黑色矩陣200擋墻過高則會(huì)影響到附近的液晶排布。
[0006]因此，有必要提供一種彩色濾光基板的制作方法，以解決上述問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明的目的在于提供一種彩色濾光基板的制作方法，可有效解決由于量子點(diǎn)膠自由流動(dòng)導(dǎo)致的混色問題以及液晶排布紊亂導(dǎo)致的漏光問題，且所制得的彩色濾光基板的平坦度較好。
[0008]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種彩色濾光基板的制作方法，包括如下步驟:
[0009]步驟1、提供基板，在所述基板上形成黑色矩陣，所述黑色矩陣在所述基板上圍出數(shù)個(gè)子像素區(qū)域；
[0010]步驟2、在所述黑色矩陣及基板上涂布正型光阻，并對(duì)所述正型光阻進(jìn)行光刻制程，形成位于所述黑色矩陣上的光阻擋墻；
[0011]步驟3、提供量子點(diǎn)膠，將所述量子點(diǎn)膠分別滴入所述數(shù)個(gè)子像素區(qū)域；
[0012]步驟4、對(duì)所述數(shù)個(gè)子像素區(qū)域內(nèi)的量子點(diǎn)膠進(jìn)行初步固化；
[0013]步驟5、對(duì)所述光阻擋墻進(jìn)行紫外光照射及顯影制程，將所述光阻擋墻去除，并將所述數(shù)個(gè)子像素區(qū)域內(nèi)的量子點(diǎn)膠固化，形成量子點(diǎn)層；
[0014]步驟6、在所述基板、黑色矩陣、及量子點(diǎn)層表面涂布平坦層，從而完成彩色濾光基板的制作。
[0015]所述步驟1中的基板為透明基板。
[0016]所述步驟1中的數(shù)個(gè)子像素區(qū)域包括數(shù)個(gè)紅色子像素區(qū)域、數(shù)個(gè)綠色子像素區(qū)域、及數(shù)個(gè)藍(lán)色子像素區(qū)域。
[0017]所述步驟3提供的量子點(diǎn)膠包括紅色量子點(diǎn)膠、及綠色量子點(diǎn)膠；分別向所述紅、綠色子像素區(qū)域滴入紅色量子點(diǎn)膠、及綠色量子點(diǎn)膠，所述藍(lán)色子像素區(qū)域保持空白。
[0018]所述步驟5中的量子點(diǎn)層包括位于數(shù)個(gè)紅色子像素區(qū)域內(nèi)的數(shù)個(gè)紅色量子點(diǎn)層、及位于數(shù)個(gè)綠色子像素區(qū)域內(nèi)的數(shù)個(gè)綠色量子點(diǎn)層。
[0019]所述彩色濾光基板與一藍(lán)色背光源搭配使用，所述紅色量子點(diǎn)層、及綠色量子點(diǎn)層在藍(lán)色背光的激發(fā)下分別發(fā)出紅光和綠光；所述藍(lán)色背光直接透過藍(lán)色子像素區(qū)域發(fā)出藍(lán)光，從而實(shí)現(xiàn)紅綠藍(lán)三基色，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)彩色顯示。
[0020]所述步驟3通過噴墨打印工藝將所述量子點(diǎn)膠滴入所述數(shù)個(gè)子像素區(qū)域。
[0021]所述步驟4利用真空干燥工藝或者預(yù)烘烤工藝將量子點(diǎn)膠中的溶劑去除以實(shí)現(xiàn)對(duì)量子點(diǎn)膠的初步固化。
[0022]所述預(yù)烘烤工藝的溫度為80?100°C。
[0023]所述步驟5采用烘烤工藝對(duì)量子點(diǎn)膠進(jìn)行固化。
[0024]本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明的彩色濾光基板的制作方法，在向子像素區(qū)域滴加量子點(diǎn)膠之前，利用正型光阻在黑色矩陣上形成光阻擋墻，以在滴加量子點(diǎn)膠時(shí)起到擋墻功能，并在實(shí)現(xiàn)擋墻功能之后將光阻擋墻去除，避免了現(xiàn)有彩色濾光基板的制作方法中由于擋墻高度過低造成量子點(diǎn)膠自由流動(dòng)而導(dǎo)致的混色問題，以及由于擋墻高度過高造成液晶排布紊亂而導(dǎo)致的漏光問題，工藝簡(jiǎn)單，所制得的彩色濾光基板的平坦度較好。
【附圖說明】
[0025]為了能更進(jìn)一步了解本發(fā)明的特征以及技術(shù)內(nèi)容，請(qǐng)參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細(xì)說明與附圖，然而附圖僅提供參考與說明用，并非用來對(duì)本發(fā)明加以限制。
[0026]附圖中，
[0027]圖1為現(xiàn)有的彩色濾光基板的制作方法的示意圖；
[0028]圖2為現(xiàn)有的彩色濾光基板的制作方法中量子點(diǎn)膠自由流動(dòng)導(dǎo)致混色的示意圖；
[0029]圖3為現(xiàn)有的彩色濾光基板導(dǎo)致液晶排布紊亂導(dǎo)致漏光的示意圖；
[0030]圖4為本發(fā)明的彩色濾光基板的制作方法的流程圖；
[0031]圖5為本發(fā)明的彩色濾光基板的制作方法的步驟1的示意圖；
[0032]圖6為本發(fā)明的彩色濾光基板的制作方法的步驟2的示意圖；
[0033]圖7為本發(fā)明的彩色濾光基板的制作方法的步驟3的示意圖；
[0034]圖8為本發(fā)明的彩色濾光基板的制作方法的步驟4的示意圖；
[0035]圖9為本發(fā)明的彩色濾光基板的制作方法的步驟5的示意圖；
[0036]圖10為本發(fā)明的彩色濾光基板的制作方法的步驟6的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0037]為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明所采取的技術(shù)手段及其效果，以下結(jié)合本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例及其附圖進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0038]請(qǐng)參閱圖4，本發(fā)明提供一種彩色濾光基板的制作方法，包括如下步驟:
[0039]步驟1、如圖5所示，提供基板1，在所述基板1上形成黑色矩陣2，所述黑色矩陣2在所述基板1上圍出數(shù)個(gè)子像素區(qū)域10。
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