光取向處理裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及在液晶顯示元件的制造中使用的光取向處理裝置，此外詳細(xì)地講，涉及在通過紫外線照射進行的取向膜的光取向處理中使用的光取向處理裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]以往，在液晶顯示元件中，通過電場等的作用使液晶的分子排列的狀態(tài)變化，并在光學(xué)上利用該變化而應(yīng)用到顯示中。為了使液晶在特定的方向上排列而實施取向處理，但近年來，進行了對取向膜照射偏振紫外線而進行取向處理的光取向處理。
[0003]以往的光取向處理裝置1如圖5所示，使載置著在其表面形成有取向膜的基板S的基板支承體7在基臺3上，例如通過線性馬達等的周知的驅(qū)動機構(gòu)向箭頭MD的方向行駛固定于基臺3上的由光源和偏振板構(gòu)成的紫外線照射裝置9之下。結(jié)果，對在紫外線照射裝置9的下方被輸送的基板S照射紫外線而進行取向處理。
[0004]在以往的光取向處理裝置中，由于不能對基板連續(xù)地進行取向處理，所以作為對1個基板進行取向處理所需要的時間的節(jié)拍時間較長，所以有生產(chǎn)性較低的問題。
[0005]所以，提出了具備兩個基板支承體(臺)的光取向處理裝置(例如，參照專利文獻1)。這樣的光取向處理裝置與圖5所示的僅具有1個基板支承體的光取向處理裝置相比，能夠一邊在一個基板支承體上對基板進行光取向處理，一邊在另一個基板支承體上進行基板的更換作業(yè)，所以節(jié)拍時間縮短。
[0006]但是，在這樣具備兩個基板支承體的光取向處理裝置中，如專利文獻1的圖6所示，至少需要5個臺位置。結(jié)果，在隔著紫外線照射裝置(照射單元)的光取向處理裝置的兩側(cè)需要兩個基板支承體的空間。因此，專利文獻1所公開的光取向處理裝置為非常長的
目.ο
[0007]專利文獻1:日本專利第5344105號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]所以，本發(fā)明的目的是提供一種在光取向處理裝置中通過縮小裝置的設(shè)置面積并進一步縮短節(jié)拍時間來提高吞吐量(生產(chǎn)量)的光取向處理裝置。
[0009]為了達到上述目的，本發(fā)明提供一種光取向處理裝置，通過對構(gòu)成液晶顯示元件的基板上形成的取向膜照射紫外線，對上述取向膜進行取向處理，具備:多個基板支承體，支承上述基板；行駛機構(gòu)，使各個上述基板支承體沿著相同的行駛路徑行駛；紫外線照射裝置，對由沿著上述行駛路徑行駛的上述基板支承體支承的上述基板照射紫外線；以及退避機構(gòu)，使上述基板支承體從上述行駛路徑退避，以免行駛中的上述基板支承體彼此碰撞。
[0010]發(fā)明效果
[0011]根據(jù)本發(fā)明，通過上述退避機構(gòu)，由于能夠?qū)鍘缀踹B續(xù)地進行光取向處理，所以能夠提供一種縮小裝置的設(shè)置面積并提高吞吐量的光取向處理裝置。
【附圖說明】
[0012]圖1是有關(guān)本發(fā)明的實施方式的光取向處理裝置的立體圖。
[0013]圖2是圖1的光取向處理裝置的側(cè)視圖。
[0014]圖3是說明圖1的光取向處理裝置的取向處理的順序的概略俯視圖。
[0015]圖4是說明圖1的光取向處理裝置的取向處理的順序的概略縱截面圖。
[0016]圖5是以往的光取向處理裝置的立體圖。
[0017]附圖標(biāo)記說明
[0018]1光取向處理裝置
[0019]5行駛機構(gòu)
[0020]7、7’、7”基板支承體
[0021]9紫外線照射裝置
[0022]11升降裝置(退避機構(gòu))
[0023]RR行駛路徑
[0024]S 基板
【具體實施方式】
[0025]以下，參照圖1及圖2對有關(guān)本發(fā)明的實施方式的光取向處理裝置的結(jié)構(gòu)進行說明。參照圖1及圖2，光取向處理裝置1具備分別在大致相同方向上延伸而設(shè)置的兩個基臺3、以及在基臺3的相互對置的側(cè)面3S安裝成例如通過線性馬達等的周知的驅(qū)動機構(gòu)能夠在光取向處理裝置1的長度方向DL上行駛的行駛機構(gòu)5。
[0026]具體而言，行駛機構(gòu)5可滑動地安裝于從側(cè)面3S突出且沿著光取向處理裝置1的長度方向DL延伸的各兩個突出部3P。
[0027]光取向處理裝置1還在基臺3彼此之間具備支承基板S的兩個基板支承體7?；逯С畜w7由與各個行駛機構(gòu)5連接的底部7B、以及安裝在底部7B上且上表面在大致水平方向上展開的臺7S構(gòu)成。
[0028]在本實施方式中，臺7S具有銷型的基板保持機構(gòu)，用于保持基板S的許多銷7SP從臺7S的上表面突出。此外，優(yōu)選的是在一部分銷7SP的前端形成有與通過真空泵等抽真空的真空線路(line)(未圖示)連通的開口(未圖示)，能夠?qū)⑤d置在銷7SP上的基板S真空吸附而保持。
[0029]光取向處理裝置1還在光取向處理裝置1的長度方向DL的大致中央部分具備架設(shè)在兩個基臺3上的紫外線照射裝置9。紫外線照射裝置9是由1個或多個至少包括光源(未圖示)和偏振板(未圖示)的紫外線照射單元構(gòu)成的裝置。在本實施方式中，紫外線照射裝置9將偏振后的紫外線朝下照射。
[0030]通過將光取向材料涂敷在其表面上而形成有取向膜的基板S在紫外線照射裝置9的下方行駛，并被照射偏振的紫外線，從而進行取向處理。這里，在本發(fā)明中，所謂“進行取向處理”，具體而言，是指通過對涂敷在基板S上的例如由各向同性的聚合物構(gòu)成的光取向材料照射偏振后的紫外線，取向為偏振方向的聚合物分解，由此僅在與偏振方向正交的方向上形成聚合物鏈。
[0031]本實施方式的光取向處理裝置1還具備作為本發(fā)明的退避機構(gòu)的升降機構(gòu)11，該升降機構(gòu)11能夠通過例如滾珠絲杠驅(qū)動機構(gòu)等的周知的驅(qū)動機構(gòu)使基板支承體7在大致鉛直方向上升降。
[0032]以下，參照圖3及圖4，對通過有關(guān)實施方式的光取向處理裝置1對形成在基板S上的取向膜進行取向處理的順序進行說明。圖3(a)?圖3(h)及圖4(a)?圖4(e)分別沿著時間序列記載。另外，在圖3及圖4及以下的順序的說明中，請留意關(guān)于兩個基板支承體7識別為第一基板支承體V及第二基板支承體7”。
[0033]首先，如圖3(a)及圖4(a)所示，將第一基板支承體V在光取向處理裝置1的長度方向DL的一方的端部側(cè)，配置在作為接受取向處理前的基板S的位置的接受位置PR處。
[0034]接著，如圖3(b)及圖4(b)所示，將在上游工序中通過在表面上涂敷光取向材料而形成了取向膜的基板S例如通過機械臂等載置到位于接受位置PR的第一基板支承體7’上。具體而言，在本實施方式中，將基板S載置到在第一基板支承體V的臺7S上設(shè)置的銷7SP的前端上，經(jīng)由設(shè)置在與真空線路(未圖示)連通的一部分銷7SP的前端部上的開口(未圖示)吸引固定。此時，將第一基板支承體7’通過升降裝置11調(diào)節(jié)其高度位置，以使紫外線照射裝置9與基板S距離適合于取向處理。
[0035]接著，如圖3(c)所示，通過例如伺服馬達等的周知的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)(未圖示)使臺7S相對于底部7B旋轉(zhuǎn)，以使基板S能夠取希望的偏振角度。此時，也可以通過照相機等檢測基板S的旋轉(zhuǎn)角度，進行基板S的旋轉(zhuǎn)角度的校準(zhǔn)(微調(diào))。
[0036]接著，如圖3 (d)?圖3 (f)及圖4 (c)所示，通過行駛機構(gòu)5使第一基板支承體V在光取向處理裝置1的長度方向DL的另一方端部側(cè)朝向?qū)⑷∠蛱幚砗蟮幕錝排出的排出位置ro沿著基板支承體的行駛路徑RR行駛。由此，對第一基板支承體7’上的基板S在穿過紫外線照射裝置9的下方時用紫外線照射裝置9照射紫外線而進行取向處理。