加量如表1示出來改變。除此以外，通過與實(shí)施例1相同的方法來生產(chǎn)和 評價電子照相感光構(gòu)件。結(jié)果在表1中示出。
[0177] 實(shí)施例16
[0178] 在實(shí)施例1中，用于制備底涂層用涂布液的18份的聚乙烯醇縮醛改變?yōu)?8份的 聚丙稀酰基多元醇（商品名：Burnock WE-300, DIC Corporation制造）。進(jìn)一步，20份的 具有由式⑵表示的基團(tuán)的化合物的溶液改變?yōu)?6份的具有由式⑵表示的基團(tuán)的化合 物（X:氧原子，R 1:乙基，R2:乙基）（具有異氰脲酸酯型三異氰脲酸酯作為中心骨架的化合 物（包括聚合物，例如五聚物以上的聚合物），該化合物的含量：75質(zhì)量％ (余量：溶劑）） 的溶液。除此以外，通過與實(shí)施例1相同的方法來生產(chǎn)和評價電子照相感光構(gòu)件。結(jié)果在 表1中示出。
[0179] 實(shí)施例17
[0180] 在實(shí)施例1中，氧化鋅顆粒改變?yōu)檠趸侇w粒（平均粒徑：70nm，BET值：15m2/g， 粉末電阻：3. 2Χ105Ω · cm)。除此以外，通過與實(shí)施例1相同的方法來生產(chǎn)和評價電子照 相感光構(gòu)件。結(jié)果在表1中不出。
[0181] 實(shí)施例18
[0182] 在實(shí)施例1中，氧化鋅顆粒改變?yōu)殇R摻雜的氧化錫顆粒（平均粒徑：50nm，比表面 積：20m 2/g，粉末電阻：6.9Χ106Ω μπι)。除此以外，通過與實(shí)施例1相同的方法來生產(chǎn)和 評價電子照相感光構(gòu)件。結(jié)果在表1中示出。
[0183] 實(shí)施例19
[0184] 在實(shí)施例1中，不添加0.8份的2,3, 4-三羥基二苯甲酮。除此以外，通過與實(shí)施 例1相同的方法來生產(chǎn)和評價電子照相感光構(gòu)件。結(jié)果在表1中示出。
[0185] 實(shí)施例20
[0186] 在實(shí)施例1中，0. 8份的2, 3, 4-三羥基二苯甲酮改變?yōu)?. 8份的茜素（1，2-二羥 基蒽醌）（Tokyo Chemical Industries, Inc.制造）。除此以外。通過與實(shí)施例1相同的方 法來生產(chǎn)和評價電子照相感光構(gòu)件。結(jié)果在表1中示出。
[0187] 實(shí)施例21和22
[0188] 在實(shí)施例1中，用于底涂層用涂布液的1- 丁醇改變?yōu)楸?示出的醇。除此以外， 通過與實(shí)施例1相同的方法來生產(chǎn)和評價電子照相感光構(gòu)件。結(jié)果在表1中示出。
[0189] 比較例1
[0190] 在實(shí)施例1中，表面處理劑從異丁基三甲氧基硅烷改變?yōu)镹-2_(氨乙基）-3_氨丙 基三甲氧基硅烷（商品名：KBM-603, Shin-Etsu Chemical Co. ,Ltd.制造）。除此以外，通 過與實(shí)施例1相同的方法來生產(chǎn)和評價電子照相感光構(gòu)件。結(jié)果在表2中示出。
[0191] 比較例2
[0192] 在實(shí)施例17中，表面處理劑從異丁基三甲氧基硅烷改變?yōu)镹-2_(氨乙基）-3_氨 丙基三甲氧基硅烷（商品名：KBM-603)。除此以外，通過與實(shí)施例17相同的方法來生產(chǎn)和 評價電子照相感光構(gòu)件。結(jié)果在表2中示出。
[0193] 比較例3
[0194] 在實(shí)施例1中，表面處理劑從異丁基三甲氧基硅烷改變?yōu)?-巰基丙基三甲氧基硅 燒（商品名：KBM-803，Shin-Etsu Chemical Co. ,Ltd.制造）。除此以外，通過與實(shí)施例1 相同的方法來生產(chǎn)和評價電子照相感光構(gòu)件。結(jié)果在表2中示出。
[0195] 比較例4
[0196] 在實(shí)施例1中，不表面處理氧化鋅顆粒。除此以外，通過與實(shí)施例1相同的方法來 生產(chǎn)和評價電子照相感光構(gòu)件。結(jié)果在表2中示出。
[0197] 比較例5
[0198] 在實(shí)施例1中，20份的具有由式（2)表示的基團(tuán)的化合物的溶液改變?yōu)?6份的不 具有由式（2)表示的基團(tuán)但具有用甲基乙基酮肟封端的異氰酸酯基的封端異氰酸酯（具有 異氰脲酸酯型三異氰脲酸酯作為中心骨架的異氰酸酯（包括聚合物，例如五聚物以上的聚 合物），該化合物的含量：75質(zhì)量％ (余量：溶劑），下文中稱為"異氰酸酯1"）的溶液。進(jìn) 一步，底涂層用涂布液的膜的干燥條件從150°C和30分鐘改變?yōu)?65°C和30分鐘。除此以 外，通過與實(shí)施例1相同的方法來生產(chǎn)和評價電子照相感光構(gòu)件。結(jié)果在表2中示出。
[0199] 比較例6
[0200] 在實(shí)施例1中，20份的具有由式（2)表示的基團(tuán)的化合物的溶液改變?yōu)?6份的不 具有由式（2)表示的基團(tuán)但具有用二甲基吡唑封端的異氰酸酯基的封端異氰酸酯（具有異 氰脲酸酯型三異氰脲酸酯作為中心骨架的異氰酸酯（包括聚合物，例如五聚物以上的聚合 物），該化合物的含量：75質(zhì)量％ (余量：溶劑），下文中稱為"異氰酸酯2"）的溶液。除此 以外，通過與實(shí)施例1相同的方法來生產(chǎn)和評價電子照相感光構(gòu)件。結(jié)果在表2中示出。
[0201] 比較例7
[0202] 在實(shí)施例1中，18份的聚乙烯醇縮醛（商品名：BM-1)和20份的具有由式（2)表 示的基團(tuán)的化合物的溶液改變?yōu)?0份的酸醛樹脂（商品名：Pryophen J325, Dainippon Ink&Chemicals Inc.制造）。除此以外，通過與實(shí)施例1相同的方法來生產(chǎn)和評價電子照 相感光構(gòu)件。結(jié)果在表2中不出。
[0203] 比較例8
[0204] 在實(shí)施例1中，18份的聚乙烯醇縮醛（商品名：BM-1)和20份的具有由式（2)表 示的基團(tuán)的化合物的溶液改變?yōu)?5份的N-甲氧基尼龍和3份的共聚的尼龍。進(jìn)一步，底 涂層用涂布液的膜的干燥條件從150°C和30分鐘改變?yōu)?00°C和20分鐘，并且底涂層的厚 度改變?yōu)?. 0 μ m。除此以外，通過與實(shí)施例1相同的方法來生產(chǎn)和評價電子照相感光構(gòu)件。 結(jié)果在表2中不出。
[0205]

[0207] 表1和2表明：在高溫高濕環(huán)境中的亮區(qū)電位的變動和黑點(diǎn)可以通過使用由式 (1)表示的化合物來表面處理的金屬氧化物、與含有具有由式（2)表示的基團(tuán)的化合物和 多元醇的組合物的聚合物來同時得到抑制。
[0208] 雖然本發(fā)明已經(jīng)參考示例性實(shí)施方案描述，但要理解的是，本發(fā)明不限于公開的 示例性實(shí)施方案。以下權(quán)利要求的范圍符合最廣泛的解釋從而涵蓋全部這樣的修改以及等 同的結(jié)構(gòu)和功能。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種電子照相感光構(gòu)件，其特征在于，其包括： 支承體； 在所述支承體上的底涂層；和 在所述底涂層上的感光層， 其中所述底涂層包括： 樹脂訊 表面已經(jīng)使用由W下式（1)表示的化合物處理的金屬氧化物顆粒： 所述樹脂是包含具有由W下式（2)表示的基團(tuán)的化合物和多元醇的組合物的聚合物，其中，在所述式（1)中，R呀日R4各自獨(dú)立地表示具有1至2個碳原子的烷基或苯基；R5 表示具有1至10個碳原子的烷基、乙締基、甲基丙締酷氧基或丙締酷氧基；m和η各自表示 整數(shù)，m+n= 3 和m= 0、l或 2，其中，在所述式（2)中，X表示單鍵或氧原子；并且Ri和R2各自獨(dú)立地表示具有1至4 個碳原子的烷基。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子照相感光構(gòu)件，其中，在所述式（1)中，R5表示具有1至 10個碳原子的烷基。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子照相感光構(gòu)件，其中所述金屬氧化物顆粒是含有選自由 氧化鋒、氧化鐵和氧化錫組成的組的至少一種金屬氧化物的顆粒。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子照相感光構(gòu)件，其中，在所述式（2)中，X表示單鍵。5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子照相感光構(gòu)件，其中在所述底涂層中所述金屬氧化物顆 粒的質(zhì)量Mm與含有所述具有由式（2)表示的基團(tuán)的化合物和所述多元醇的組合物的總質(zhì) 量Mu的質(zhì)量比Mm/Mu是2/1W上且4/1W下。6. -種處理盒，其是從電子照相設(shè)備主體可拆卸的，所述處理盒的特征在于包括： 根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的電子照相感光構(gòu)件；和 選自充電單元、顯影單元、轉(zhuǎn)印單元和清潔單元的至少一個單元， 其中將所述電子照相感光構(gòu)件和所述至少一個單元一體化支承。7. -種電子照相設(shè)備，其特征在于，其包括：根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的電子照 相感光構(gòu)件、充電單元、曝光單元、顯影單元和轉(zhuǎn)印單元。8. -種電子照相感光構(gòu)件的制造方法，所述電子照相感光構(gòu)件包括支承體、在所述支 承體上的底涂層、和在所述底涂層上的感光層，所述方法的特征在于包括W下步驟： 制備含有表面已經(jīng)使用由W下式（1)表示的化合物處理的金屬氧化物顆粒、具有由W下式（2)表示的基團(tuán)的化合物和多元醇的底涂層用涂布液；和 形成所述底涂層用涂布液的膜，并且干燥和固化所述膜從而形成所述底涂層，其中，在所述式（1)中，R呀日R4各自獨(dú)立地表示具有1至2個碳原子的烷基或苯基；R5 表示具有1至10個碳原子的烷基、乙締基、甲基丙締酷氧基或丙締酷氧基；m和η各自表示 整數(shù)，m+n= 3 和m= 0、l或 2，其中，在所述式（2)中，X表示單鍵或氧原子；并且Ri和R2各自獨(dú)立地表示具有1至4 個碳原子的烷基。9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中所述底涂層用涂布液含有醇。10. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中，在所述式（1)中，R5表示具有1至10個碳原子 的烷基。11. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中所述金屬氧化物顆粒是含有選自由氧化鋒、氧化 鐵和氧化錫組成的組的至少一種金屬氧化物的顆粒。12. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中，在所述式（2)中，X表示單鍵。13. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中在所述底涂層中所述金屬氧化物顆粒的質(zhì)量Mm 與含有所述具有由式（2)表示的基團(tuán)的所述化合物和所述多元醇的組合物的總質(zhì)量Mu的 質(zhì)量比Mm/Mu是2/1W上且4/1W下。
【專利摘要】本發(fā)明涉及電子照相感光構(gòu)件及其制造方法、處理盒和電子照相設(shè)備。一種電子照相感光構(gòu)件，其包括：含有樹脂和表面已經(jīng)使用由式(1)表示的化合物處理的金屬氧化物顆粒的底涂層；并且所述樹脂是含有具有由式(2)表示的基團(tuán)的化合物和多元醇的組合物的聚合物。
【IPC分類】G03G5/07, G03G21/18, G03G15/00
【公開號】CN105319878
【申請?zhí)枴緾N201510401674
【發(fā)明人】杉山和道, 田中大介, 村上健, 川口大輔
【申請人】佳能株式會社
【公開日】2016年2月10日
【申請日】2015年7月9日
【公告號】DE102015111065A1, US20160011530