一種殺菌防炫增透耐磨鏡片及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種鏡片技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種殺菌防炫增透耐磨鏡片及其制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著人們文化、生活水平的不斷提高，視力保健工作的開展，眼鏡作為矯正視力或保護眼睛而制作的簡單光學(xué)器件，在人們生活領(lǐng)域中發(fā)揮了重要的作用。眼鏡通常是由鏡片和鏡架組成，從鏡片的功能上講，它具有調(diào)節(jié)進入眼睛之光量，增加視力，保護眼睛安全和臨床治療眼病等作用。
[0003]目前鏡片的種類繁多，如目前常見的TAC偏光鏡片，其可100%阻隔有害光線，因此頗受消費者的青睞，特別適于戶外運動使用，然而，在運動過程中鏡片難免發(fā)生刮擦，因此鏡片的耐磨程度也是消費者選購的一個考慮因素，目前市售的TAC偏光鏡片，其表面的硬度只能達到H，其耐磨性為1.5級，很容易被硬物刮花或摔壞，影響使用者觀察事物的效果，既給使用者帶來不便，而且還需經(jīng)常更換，增加使用成本，有待改進。
[0004]夜間行車時，對面行駛車輛若違規(guī)采用大功率的車燈，司機就會產(chǎn)生炫目的感覺，而且在較長一段時間內(nèi)視覺難以恢復(fù)正常狀態(tài)，極易造成交通事故。人在此情況下，產(chǎn)生炫目的機理是:當(dāng)人從強光環(huán)境下進入暗處，或從暗處到明處，眼睛都需要經(jīng)歷一段適應(yīng)時間才能看清周圍物體，相應(yīng)地稱為暗適應(yīng)和明適應(yīng)。有關(guān)科學(xué)資料表明，這種適應(yīng)需要的時間大約為5-10min，而完全適應(yīng)新的亮度環(huán)境需要20—30min。夜間行車過程中，當(dāng)對面車輛迎面駛來時，司機就會有一個明適應(yīng)的過程，而車輛駛過時，又有一個暗適應(yīng)的過程，極易造成人眼疲勞。為解決此安全隱患，人們通常采用電子學(xué)與光學(xué)相結(jié)合的方法，例如ADS晶望鏡，此產(chǎn)品是汽車遮陽板的升級換代產(chǎn)品，可以有效防止炫目，并且有隨外界光強自動調(diào)整透射率的優(yōu)點，但它是與車型相匹配的，其他車型若想采用此產(chǎn)品必須另行安裝，大大降低了其通用性，而且此類產(chǎn)品的價格偏高。
[0005]此外，眼鏡在長期佩戴后，鏡片不僅容易滋生細菌，而且還容易吸附周圍環(huán)境中的灰塵等細小顆粒，從而不利于佩戴者的身體健康，污染鏡片，影響其透光性。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的目的在于針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種耐磨性好，透光性好，增透性強，具有殺菌抗菌和防炫目功能，適于夜間使用的殺菌防炫增透耐磨鏡片及其制備方法。
[0007]為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
一種殺菌防炫增透耐磨鏡片，包括基片，所述基片的內(nèi)、外兩個表面從里到外對稱依序設(shè)有第一膜層、第二膜層、第三膜層、第四膜層、第五膜層和第六膜層;所述第一膜層和第三膜層均為五氧化三鈦層，厚度均為10-100nm;所述第二膜層和第四膜層均為二氧化硅層，厚度均為50-100nm;所述第五膜層為納米銀層，厚度為5_20nm;所述第六膜層為高硬度層，厚度為 10_50nm。
[0008]所述納米銀層的膜材為銀的氧化物，并由電子槍蒸鍍成型；所述銀的氧化物為Ag20、Ag0 或 Ag2〇3。
[0009]所述高硬度層的膜材為三氧化二鋁、氧化鋯、二氧化硅晶體或一氧化硅晶體，并由電子槍蒸鍍成型。
[0010]所述基片由樹脂或玻璃成型。
[0011]—種殺菌防炫增透耐磨鏡片的制備方法，所述基片由樹脂成型時，所述制備方法具體包括以下步驟:
1)對基片進行清洗、干燥；
2)分別對基片的內(nèi)、外兩個表面進行鍍膜；
A、鍍第一膜層:
將真空鍍膜艙內(nèi)的真空度調(diào)整至小于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50_70°C，采用電子槍轟擊第一膜層的膜材，第一膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于基片的外表面，同時控制第一膜層蒸鍍的速率為2.5A/S，第一膜層最終形成后的厚度為10-100nm;其中，所述第一膜層的膜材為五氧化三鈦，形成五氧化三鈦層；
B、鍍第二膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第二膜層的膜材，第二膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟A中第一膜層的表面，同時控制第二膜層蒸鍍的速率為7A/S，第二膜層最終形成后的厚度為50-100nm;其中，所述第二膜層的膜材為二氧化硅，形成二氧化硅層；
C、鍍第三膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0 X 10-3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第三膜層的膜材，第三膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟B中第二膜層的表面，同時控制第三膜層蒸鍍的速率為2.5A/S，第三膜層最終形成后的厚度為10-100nm;其中，所述第三膜層的膜材為五氧化三鈦，形成五氧化三鈦層；
D、鍍第四膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0 X 10-3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第四膜層的膜材，第四膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟C中第三膜層的表面，同時控制第四膜層蒸鍍的速率為7A/S，第四膜層最終形成后的厚度為50-100nm;其中，所述第四膜層的膜材為二氧化硅，形成二氧化硅層；
E、鍍第五膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第五膜層的膜材，其中第五膜層的膜材為銀的氧化物，在電子槍蒸鍍的作用下第五膜層的膜材的氧離子分離，第五膜層的膜材中的銀以納米級分子形式沉積于上述步驟D中第四膜層的表面，同時控制第五膜層蒸鍍的速率為1A/S，第五膜層最終形成厚度為5_20nm的納米銀層;其中，所述銀的氧化物為Ag20、Ag0或Ag2〇3 ；
F、鍍第六膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第六膜層的膜材，第六膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟E中第五膜層的表面，同時控制第六膜層蒸鍍的速率為7A/S，第六膜層最終形成后的厚度為10-50nm;其中，所述第六膜層的膜材為三氧化二鋁、氧化鋯、二氧化硅晶體或者一氧化硅晶體，形成高硬度層。
[0012]所述的步驟1)中對基片進行清洗、干燥的具體步驟如下:采用有機溶劑清洗劑對基片進行初次清洗，并以超聲波輔助清洗，采用異丙醇干燥;在基片鍍膜前，將基片放在真空艙內(nèi)用離子槍轟擊基片的外表面2-3分鐘進行再次清洗。
[0013]—種殺菌防炫增透耐磨鏡片的制備方法，所述基片由玻璃成型時，所述制備方法具體包括以下步驟:
1)對基片進行清洗、干燥；
2)分別對基片的內(nèi)、外兩個表面進行鍍膜；
A、鍍第一膜層:
將真空鍍膜艙內(nèi)的真空度調(diào)整至小于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第一膜層的膜材，第一膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于基片的外表面，同時控制第一膜層蒸鍍的速率為2.5A/S，第一膜層最終形成后的厚度為10-100nm;其中，所述第一膜層的膜材為五氧化三鈦，形成五氧化三鈦層；
B、鍍第二膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第二膜層的膜材，第二膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟A中第一膜層的表面，同時控制第二膜層蒸鍍的速率為7A/S，第二膜層最終形成后的厚度為50-100nm;其中，所述第二膜層的膜材為二氧化硅，形成二氧化硅層；
C、鍍第三膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0 X 10-3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第三膜層的膜材，第三膜