Opc前期對(duì)版圖的處理方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種0PC前期對(duì)版圖的處理方法。
【背景技術(shù)】
[0002]集成電路的生產(chǎn)制造是一個(gè)非常復(fù)雜的過(guò)程，其中，光刻技術(shù)是最復(fù)雜的技術(shù)之一，也是推動(dòng)集成電路工藝發(fā)展的重要?jiǎng)恿?，光刻技術(shù)的強(qiáng)大與否直接決定著芯片的性能。
[0003]光刻工藝通常是將需要制造的電路結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)在掩膜版上，之后通過(guò)光刻機(jī)臺(tái)將掩膜版上的電路結(jié)構(gòu)放大，復(fù)制到硅片上。但是，由于光波的性質(zhì)和實(shí)際投影曝光系統(tǒng)的問(wèn)題，會(huì)有衍射受限或者成像系統(tǒng)的非線性濾波造成嚴(yán)重的能量損失，即光學(xué)近似效應(yīng)(Optical Proximity Effect, ΟΡΕ),從而不可避免的就會(huì)使得在將電路結(jié)構(gòu)放大復(fù)制的過(guò)程中，會(huì)產(chǎn)生失真，尤其是對(duì)于180微米以下工藝階段，這種失真的影響將非常巨大，完全能夠讓整個(gè)制程失敗。為了避免這種情況發(fā)生，業(yè)界采用光學(xué)近似修正(OpticalProximity Correct1n, 0PC)方法,對(duì)電路結(jié)構(gòu)進(jìn)行預(yù)先的修正，使得修正后能夠補(bǔ)償ΟΡΕ效應(yīng)所帶來(lái)的缺失部分。
[0004]0PC過(guò)程通常包括前期版圖處理，0PC修正及后期良率分析反饋。由于光學(xué)臨近干涉衍射效應(yīng)，版圖層次結(jié)構(gòu)需要針對(duì)0PC優(yōu)化以達(dá)到:識(shí)別復(fù)用單元庫(kù)，以減少重復(fù)運(yùn)算時(shí)間。目前這一點(diǎn)還是比較容易達(dá)到的，但是版圖中通常存在各式各樣的圖形及單元，并且相互交疊，因此在處理上就很復(fù)雜。那么若能夠?qū)崿F(xiàn)各個(gè)單元的分割，達(dá)到能夠使用多機(jī)分布式運(yùn)算，將會(huì)大大提高效率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于，提供一種0PC前期對(duì)版圖的處理方法，實(shí)現(xiàn)圖形和單元的分害I]，提高生產(chǎn)效率。
[0006]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供一種0PC前期對(duì)版圖的處理方法，所述版圖包括圖形及引用單元，所述引用單元包括較小單元、非重復(fù)單元及重復(fù)單元，該方法包括:
[0007]添加一輔助單元，將版圖中的圖形容納在一起；
[0008]利用輔助單元對(duì)較小單元和非重復(fù)單元進(jìn)行合并；
[0009]對(duì)所述輔助單元及重復(fù)單元進(jìn)行分割，形成多個(gè)分割部分；
[0010]分割后，重復(fù)單元中含有與輔助單元相重疊的分割部分作為輔助單元的分割部分；
[0011]對(duì)各個(gè)分割部分進(jìn)行分布式并行處理。
[0012]可選的，對(duì)于所述的0PC前期對(duì)版圖的處理方法，所述輔助單元為一矩形或圓角矩形，按照?qǐng)D形的分布形成覆蓋所述圖形的輔助單元。
[0013]可選的，對(duì)于所述的0PC前期對(duì)版圖的處理方法，利用至少對(duì)邊同時(shí)延伸的方法合并較小單元和非重復(fù)單元。
[0014]可選的，對(duì)于所述的0PC前期對(duì)版圖的處理方法，所述較小單元為能被一設(shè)定矩形完全覆蓋的單元。
[0015]可選的，對(duì)于所述的0PC前期對(duì)版圖的處理方法，所述設(shè)定矩形的邊長(zhǎng)是光刻機(jī)中所用光的衍射距離的2.5倍。
[0016]可選的，對(duì)于所述的0PC前期對(duì)版圖的處理方法，進(jìn)行分割時(shí)分割的大小是光刻機(jī)中所用光的衍射距離的10倍。
[0017]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的0PC前期對(duì)版圖的處理方法中，先對(duì)圖形和單元進(jìn)行合并分割，最終形成的分割部分不存在相互重疊的情況，避免了現(xiàn)有技術(shù)中各種圖形或單元存在重疊而只能單機(jī)處理的情況，簡(jiǎn)化了處理過(guò)程，通過(guò)對(duì)各個(gè)分割部分進(jìn)行分布式并行處理，顯著提高了處理效率。
【附圖說(shuō)明】
[0018]圖1為本發(fā)明實(shí)施例中0PC前期對(duì)版圖的處理方法的流程圖；
[0019]圖2?圖7為本發(fā)明實(shí)施例中0PC前期對(duì)版圖的處理方法的過(guò)程中版圖的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0020]下面將結(jié)合示意圖對(duì)本發(fā)明的0PC前期對(duì)版圖的處理方法進(jìn)行更詳細(xì)的描述，其中表示了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，應(yīng)該理解本領(lǐng)域技術(shù)人員可以修改在此描述的本發(fā)明，而仍然實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的有利效果。因此，下列描述應(yīng)當(dāng)被理解為對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員的廣泛知道，而并不作為對(duì)本發(fā)明的限制。
[0021]為了清楚，不描述實(shí)際實(shí)施例的全部特征。在下列描述中，不詳細(xì)描述公知的功能和結(jié)構(gòu)，因?yàn)樗鼈儠?huì)使本發(fā)明由于不必要的細(xì)節(jié)而混亂。應(yīng)當(dāng)認(rèn)為在任何實(shí)際實(shí)施例的開發(fā)中，必須做出大量實(shí)施細(xì)節(jié)以實(shí)現(xiàn)開發(fā)者的特定目標(biāo)，例如按照有關(guān)系統(tǒng)或有關(guān)商業(yè)的限制，由一個(gè)實(shí)施例改變?yōu)榱硪粋€(gè)實(shí)施例。另外，應(yīng)當(dāng)認(rèn)為這種開發(fā)工作可能是復(fù)雜和耗費(fèi)時(shí)間的，但是對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)僅僅是常規(guī)工作。
[0022]在下列段落中參照附圖以舉例方式更具體地描述本發(fā)明。根據(jù)下面說(shuō)明和權(quán)利要求書，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征將更清楚。需說(shuō)明的是，附圖均采用非常簡(jiǎn)化的形式且均使用非精準(zhǔn)的比例，僅用以方便、明晰地輔助說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例的目的。
[0023]本發(fā)明的核心思想在于，提供一種0PC前期對(duì)版圖的處理方法，所述版圖包括圖形及引用單元，所述引用單元包括較小單元、非重復(fù)單元及重復(fù)單元，該方法包括:
[0024]步驟S101，添加一輔助單元，將版圖中的圖形容納在一起；
[0025]步驟S102，利用輔助單元對(duì)較小單元和非重復(fù)單元進(jìn)行合并；
[0026]步驟S103，對(duì)所述輔助單元及重復(fù)單元進(jìn)行分割，形成多個(gè)分割部分；
[0027]步驟S104，分割后，重復(fù)單元中含有與輔助單元相重疊的分割部分作為輔助單元的分割部分；
[0028]步驟S105，對(duì)各個(gè)分割部分進(jìn)行分布式并行處理。
[0029]以下列舉所述0PC前期對(duì)版圖的處理方法及測(cè)試方法的較優(yōu)實(shí)施例，以清楚說(shuō)明本發(fā)明的內(nèi)容，應(yīng)當(dāng)明確的是，本發(fā)明的內(nèi)容并不限制于以下實(shí)施例，其他通過(guò)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員的常規(guī)技術(shù)手段的改進(jìn)亦在本發(fā)明的思想范圍之內(nèi)。
[0030]基于上述思想，下面提供OPC前期對(duì)版圖的處理方法的較優(yōu)實(shí)施例，請(qǐng)參考圖1?圖7，圖1為本發(fā)明實(shí)施例中0PC前期對(duì)版圖的處理方法的流程圖；圖2?圖7為本發(fā)明實(shí)施例中0PC前期對(duì)版圖的處理方法的過(guò)程中版圖的示意圖。
[0031 ] 如圖1所示，在本實(shí)施例中，所述0PC前期對(duì)版圖的處理方法包括:
[0032]步驟S101，添加一輔助單元，將版圖中的圖形容納在一起。請(qǐng)結(jié)合圖2，