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      光纖帶的制作方法_3

      文檔序號(hào):9756744閱讀:來源:國知局
      纖212的包層218相鄰(例如,兩者之間觸碰,或在制造公差內(nèi)接觸,諸如平均來說小于50微米、30微米或甚至20微米)。如圖4所示,并且如可為本文所公開的其他實(shí)施方式的情況,帶310的大部分體積是光纖212的玻璃(玻璃芯216和玻璃包層218),諸如至少55體積%或甚至60體積%,從而形成尤其緊湊且有效的帶310,其中帶310(或其他實(shí)施方式)的剩余部分可由聚合物(基質(zhì)、涂層和油墨)組成。
      [0050]在一些實(shí)施方式中,光纖212通過邊緣粘結(jié)物來彼此結(jié)合,諸如關(guān)于帶110所公開,如圖1所示。例如,在一些制造工藝中,光纖利用UV可固化材料的薄硬涂層在拉絲上進(jìn)行邊緣粘結(jié),所述UV可固化材料諸如用于耐磨損層314的材料或具有類似所述材料的性質(zhì)的材料。在一些制造方法中,光纖212的邊緣粘結(jié)陣列隨后可繞成卷,并且‘原樣’售給光纖帶制造商,光纖帶制造商隨后可向帶添加另外層,諸如應(yīng)力隔離層326和硬殼314。邊緣粘結(jié)物可具有類似于圖6的雙層涂層326(以下討論)的尺寸,不同之處在于,鄰接光纖212通過邊緣粘結(jié)物來彼此粘結(jié)(參見如圖1所示邊緣粘結(jié)物118)。在一些預(yù)期實(shí)施方式中,帶310的至少一個(gè)光纖212是帶顏色的,諸如在拉絲上著色,并且至少一個(gè)光纖212位于帶310中的光纖212的陣列的末端,諸如帶310中的兩個(gè)帶顏色的光纖212在光纖212陣列的相反側(cè)上。
      [0051]現(xiàn)在參考圖5和圖6,示出根據(jù)示例性實(shí)施方式的光纖帶,所述光纖帶示為光纖帶410。帶410包括示為帶基質(zhì)412(例如,結(jié)合材料)的帶體,并還包括示為光纖416的多個(gè)光纖的陣列414。光纖416被帶基質(zhì)412的材料包圍并嵌入所述材料中。在所示實(shí)施方式中,陣列414是光纖的平行陣列,其中每個(gè)光纖的中心軸418(每個(gè)光纖416的垂直于圖6中示出的橫截面的軸)是實(shí)質(zhì)上平行于彼此的。在其他實(shí)施方式中,光纖可在帶體412內(nèi)布置成非平行的陣列(例如,二乘二陣列、交錯(cuò)陣列等),諸如其中每個(gè)陣列沿帶著的長度并且在帶與帶之間形成一致的芯對(duì)芯間隔,諸如在最寬分開距離的為25%的公差內(nèi)的均勻間隔。
      [0052]在所示實(shí)施方式中,陣列414中的每個(gè)光纖416僅在結(jié)構(gòu)上不同于其他光纖416,如果存在所述不同,那么所述不同是針對(duì)陣列的最外層來說的。光纖416包括中心部分420,所述中心部分包括光學(xué)傳輸光學(xué)芯422或芯422以及包圍并鄰接一個(gè)芯422或多個(gè)芯422的包層424。在一些實(shí)施方式中,光纖416各自還包括了在包層424外的涂層426。光學(xué)芯422是由傳輸光的材料形成,諸如向上摻雜二氧化硅或純二氧化硅。包圍芯422的包層424也由傳輸光的材料形成,所述材料諸如其中具有向上或向下?lián)诫s的環(huán)形層的二氧化硅,但是所述材料具有不同于芯422的折射率,諸如比光學(xué)芯422低的凈折射率,由此光纖416充當(dāng)在光學(xué)芯422內(nèi)保持光信號(hào)的波導(dǎo)。
      [0053]根據(jù)示例性實(shí)施方式,雙涂層426包圍光學(xué)芯422和包層424兩者。具體來說,涂層426具有接觸并粘結(jié)至包層424的外表面的內(nèi)層428。內(nèi)層428可在帶410的所有光纖416中為均勻的。在一些此類實(shí)施方式中,雙涂層426也具有限定每個(gè)光纖416的外表面(例如,外部)的外層430。外層430可在帶的光纖416的一或多個(gè)之間有所不同,如就顏色來說,在以孟塞爾標(biāo)度(Munsell scale)來計(jì)的色調(diào)、值和/或色度方面具有至少為3的差異,以便提供清晰視覺區(qū)別。雙涂層426可能對(duì)光纖的聚合物涂層來說是尤其薄的,如以下所討論,并且外層430可實(shí)質(zhì)上比內(nèi)層428薄,諸如小于所述內(nèi)層的厚度的一半。在圖5至圖6所示實(shí)施方式中,涂層426由向光纖416提供保護(hù)(例如,保護(hù)免受刮擦、碎片等)的材料形成。
      [0054]涂層426相對(duì)于光纖416的總直徑的小厚度(S卩,圖6所示涂層426的橫截面尺寸,所述涂層垂直于光纖416的外表面,包括內(nèi)層428和外層430)促成光纖416被尤其致密地填充在帶410內(nèi)。在各種實(shí)施方式中,涂層426的厚度平均來說小于50μηι(例如,小于50微米(micrometer)或“微米(micron)”),確切地說小于30μηι并且更確切地說小于20μηι。在【具體實(shí)施方式】中,涂層426的厚度為約12.5μπι(例如,12.5μπι加或減5μπι、12.5μπι加或減2.5μπι、12.5μm加或減Ιμπι)。在其他實(shí)施方式中,涂層426較厚。光纖416的屬性和特征也可以應(yīng)用于以上所討論的光纖112。
      [0055]在各種實(shí)施方式中,涂層426的厚度使得通過涂層426得到的占光纖416的直徑的百分比尤其小。在各種實(shí)施方式中,涂層426的厚度占光纖416的直徑的小于50%,諸如光纖416的直徑的實(shí)質(zhì)上小于50%并且更確切地說小于30%,諸如光纖416的直徑的小于甚至25%。在【具體實(shí)施方式】中,涂層426占光纖416的直徑的約20%。在某些實(shí)施方式中,每個(gè)光纖的中心部分420的直徑為約ΙΟΟμπι,并且涂層426的厚度為約12.5μπι,使得光纖416的所得外徑為約125μπι。在其他實(shí)施方式中,涂層426較大和/或光纖的中心部分420以其他方式設(shè)定大小。
      [0056]雖然一些常規(guī)光纖可包括硬聚合物涂層,但是涂層可實(shí)質(zhì)上比本文所公開的涂層426厚(例如,厚至少五倍)。例如,在一些實(shí)施方式中,涂層426可不被設(shè)計(jì)來保護(hù)抗抵使常規(guī)光纖承受的標(biāo)準(zhǔn)程度的磨損和撕裂。作為替代,涂層426可能太薄以致無法承受這樣的磨損和撕裂。涂層426可能僅僅足夠保護(hù)光纖416免受與自身的磨耗接觸和/或由自身引起的其他磨損,諸如當(dāng)由專業(yè)光纖技術(shù)人員在光纖部件制造設(shè)施約束下操縱時(shí)的情況。因而,涂層426的厚度對(duì)設(shè)計(jì)用于更苛刻用途的光纖的光纖制造商來說可能是違反直覺的,因?yàn)橥繉?6可以在一些實(shí)施方式中提供此類有限保護(hù)。
      [0057]根據(jù)示例性實(shí)施方式,對(duì)本文中討論的涂層426的尤其窄的大小設(shè)定有助于光纖416在帶410的帶體412內(nèi)的致密填充,從而實(shí)質(zhì)減少帶410的總體大小以及所述帶消耗的材料的量兩者。例如,在各種實(shí)施方式中,陣列414的相鄰光纖的中心軸之間的距離Dl小于200Wn,確切地說小于175μηι并且更確切地說小于150μηι。在【具體實(shí)施方式】中,D1為約125μηι。如將理解,在每個(gè)光纖416抵接和/或緊密鄰接陣列中的相鄰光纖的實(shí)施方式中,Dl(圖6)實(shí)質(zhì)上等同于相鄰光纖416的平均直徑加小余量,諸如小于平均直徑的10%。
      [0058]另外,在所示實(shí)施方式中,除了涂層426的較小厚度大小之外,陣列414內(nèi)光纖的定位有助于提供致密填充。例如,如圖所示,光纖416嵌入帶基質(zhì)412中,使得在一些實(shí)施方式中,每個(gè)光纖416的由每一涂層426的外表面430限定的外表面與陣列中的相鄰光纖的外表面430接觸(例如,表面之間的實(shí)際接觸或近似接觸,在制造公差內(nèi)緊密相鄰,諸如分開小于5微米等)。邊緣粘結(jié)物可用于將光纖416在帶410的基質(zhì)內(nèi)保持在一起,如以上所討論。
      [0059]除了帶基質(zhì)412內(nèi)的間隔之外,光纖416的大小和定位促成具有實(shí)質(zhì)上小于許多常規(guī)的帶的外部尺寸的帶410。如圖6所示,帶410具有寬度Wl和高度Hl。在各種實(shí)施方式中,帶410包括四個(gè)光纖416,并且Wl介于500μπι與700μπι之間,而Hl介于150μπι與300μπι之間。本文所公開的其他帶可類似設(shè)定大小。
      [0060]在各種實(shí)施方式中,由于涂層426的相對(duì)小的厚度,因此從光纖416的中心部分420的直徑(例如,僅跨光學(xué)芯422和包層424或在所述光學(xué)芯和所述包層上的直徑;S卩,光纖416的玻璃部分的直徑)得到的占帶410的尺寸H1、W1的百分比大于許多常規(guī)的帶。在各種實(shí)施方式中,每個(gè)光纖416的中心部分420(例如,玻璃部分)的直徑大于帶的高度Hl的50%,從而提供異常地薄的光纖帶。在一些此類實(shí)施方式中,中心部分420的直徑可以大于Hl的60%并且更確切地大于Hl的65%。在一些實(shí)施方式中,光纖416的所有中心部分420(例如,玻璃部分)的累計(jì)直徑占帶的寬度Wl的50 %與95 %之間,這也提供異常地窄的帶。在一些此類實(shí)施方式中,中心部分420的直徑可介于Wl的60%與90%之間,其中百分比隨帶中的光纖數(shù)目而增加。
      [0061 ]如上所述,帶410的基質(zhì)414結(jié)構(gòu)化來提供應(yīng)力隔離和/或所需彎曲特性。在所示實(shí)施方式中,帶基質(zhì)412包括示為內(nèi)層432的第一層以及外層434。內(nèi)層432是由聚合物材料的連續(xù)單層形成,并且包括與光纖416的外層430和/或外部接觸的至少一個(gè)內(nèi)表面436。在這種布置中,光纖416是嵌入的,并且每個(gè)光纖至少部分地被內(nèi)層432的材料包圍。在光纖416的外表面彼此接觸(例如,表面之間的實(shí)際接觸或近似接觸)的一個(gè)實(shí)施方式中,內(nèi)層432內(nèi)的、光纖416的外部表面的區(qū)域的95%至100%之間接觸內(nèi)層432的材料。在光纖416的外表面彼此接觸的一個(gè)實(shí)施方式中,內(nèi)層432內(nèi)光纖416的外表面的區(qū)域的小于100%但大于95%接觸內(nèi)層432的材料。
      [0062]仍然參考圖5至圖6,帶基質(zhì)414的外層434是包圍所述帶基質(zhì)的內(nèi)層432的聚合物材料的連續(xù)單層。外層434包括內(nèi)表面
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