一種過濾藍(lán)光殺菌防炫的燈罩及其制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種燈罩技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種過濾藍(lán)光殺菌防炫的燈罩及其制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著社會(huì)的進(jìn)步和科技的發(fā)展，照明設(shè)備已廣泛進(jìn)入人們的工作和生活中，隨著人們對(duì)照明設(shè)備(如燈具)的使用時(shí)間的日益增長，這些燈具所發(fā)出的藍(lán)光、紫外線、炫目光對(duì)眼睛視力的傷害越來越嚴(yán)重。
[0003]藍(lán)光是波長為400-500nm的高能量可見光，藍(lán)光是可以直接穿透眼角膜、眼睛晶體、直達(dá)視網(wǎng)膜，藍(lán)光會(huì)刺激視網(wǎng)膜產(chǎn)生大量自由基離子，使得視網(wǎng)膜色素上皮細(xì)胞的萎縮，并引起光敏感細(xì)胞的死亡，視網(wǎng)膜色素上皮細(xì)胞對(duì)藍(lán)光區(qū)域的光輻射吸收作用很強(qiáng)，吸收了藍(lán)光輻射會(huì)使視網(wǎng)膜色素上皮細(xì)胞萎縮，這也是產(chǎn)生黃斑病變的主要原因之一；藍(lán)光輻射成分越高對(duì)視覺細(xì)胞傷害越大，視網(wǎng)膜色素上皮細(xì)胞的萎縮，會(huì)使視網(wǎng)膜的圖像變得模糊，對(duì)模糊的影像睫狀肌會(huì)在做不斷的調(diào)節(jié)，加重睫狀肌的工作強(qiáng)度，引起視覺疲勞。在紫外線和藍(lán)光的作用下會(huì)引起人們的視覺疲勞，視力會(huì)逐漸下降，易引起眼睛視覺上的干澀、畏光、疲勞等早發(fā)性白內(nèi)障、自發(fā)性黃斑部病變。
[0004]目前，主要是通過在燈具外設(shè)置燈罩，用以聚光、防風(fēng)雨以及解決上述問題，但是效果并不理想，人們長期暴露在燈光環(huán)境中，身體受到了極大的影響。另外，現(xiàn)有的燈罩也少有殺菌的功能。因此，市場上迫切需要出現(xiàn)一種帶有防藍(lán)光、防炫目、殺菌功能的燈罩來取代現(xiàn)有的傳統(tǒng)燈罩。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種可有效防止藍(lán)光對(duì)人體的傷害，具有防炫目功能，適于夜間使用的過濾藍(lán)光殺菌防炫的燈罩及其制造方法。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
一種過濾藍(lán)光殺菌防炫的燈罩，包括基片，所述基片的外表面從里到外依序設(shè)有第一膜層、第二膜層、第三膜層、第四膜層、第五膜層、第六膜層、第七膜層和第八膜層;所述第一膜層、第四膜層和第六膜層均為五氧化三鈦層，厚度均為1-1OOnm;所述第二膜層、第五膜層和第七膜層均為二氧化硅層，厚度均為50-100nm;所述第三膜層為金屬層，厚度為5-20nm;所述第八膜層為納米銀層，第八膜層的厚度為5-20nmo
[0007]所述金屬層的膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅或鎳，并由電子槍蒸鍍成型。
[0008]所述金屬層的膜材為金合金、銀合金、鈾合金、釹合金、銅合金、鋅合金或鎳合金，并由電子槍蒸鍍成型。
[0009]所述納米銀層的膜材為銀的氧化物，并由電子槍蒸鍍成型，所述銀的氧化物為Ag2〇、Ag0 或 Ag2〇3。
[0010]所述基片由樹脂或玻璃成型。
[0011]所述基片由樹脂成型時(shí)，該過濾藍(lán)光殺菌防炫的燈罩制造方法具體包括以下步驟:
1)對(duì)基片進(jìn)行清洗、干燥；
2)對(duì)基片的外表面進(jìn)行鍍膜；
A、鍍第一膜層:
將真空鍍膜艙內(nèi)的真空度調(diào)整至小于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第一膜層的膜材，第一膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級(jí)分子形式沉積于基片的外表面，同時(shí)控制第一膜層蒸鍍的速率為2.5A/S，第一膜層最終形成后的厚度為1-1OOnm;其中，所述第一膜層的膜材為五氧化三鈦，形成五氧化三鈦層；
B、鍍第二膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同時(shí)保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第二膜層的膜材，第二膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級(jí)分子形式沉積于上述步驟A中第一膜層的表面，同時(shí)控制第二膜層蒸鍍的速率為7A/S，第二膜層最終形成后的厚度為50-100nm;其中，所述第二膜層的膜材為二氧化硅，形成二氧化硅層；
C、鍍第三膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同時(shí)保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第三膜層的膜材，第三膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級(jí)分子形式沉積于上述步驟B中第二膜層的表面，同時(shí)控制第三膜層蒸鍍的速率為1A/S，第三膜層最終形成后的厚度為5_20nm;其中，所述第三膜層的膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅、鎳、金合金、銀合金、鈾合金、釹合金、銅合金、鋅合金或鎳合金，形成金屬層；
D、鍍第四膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同時(shí)保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第四膜層的膜材，第四膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級(jí)分子形式沉積于上述步驟C中第三膜層的表面，同時(shí)控制第四膜層蒸鍍的速率為2.5A/S，第四膜層最終形成后的厚度為1-1OOnm;其中，所述第四膜層的膜材為五氧化三鈦，形成五氧化三鈦層；
E、鍍第五膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同時(shí)保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第五膜層的膜材，第五膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級(jí)分子形式沉積于上述步驟D中第四膜層的表面，同時(shí)控制第五膜層蒸鍍的速率為7A/S，第五膜層最終形成后的厚度為50-100nm;其中，所述第五膜層的膜材為二氧化硅，形成二氧化硅層；
F、鍍第六膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同時(shí)保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第六膜層的膜材，第六膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級(jí)分子形式沉積于上述步驟E中第五膜層的表面，同時(shí)控制第六膜層蒸鍍的速率為2.5A/S，第六膜層最終形成后的厚度為1-1OOnm;其中，所述第六膜層的膜材為五氧化三鈦，形成五氧化三鈦層；
G、鍍第七膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同時(shí)保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第七膜層的膜材，第七膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級(jí)分子形式沉積于上述步驟F中第六膜層的表面，同時(shí)控制第七膜層蒸鍍的速率為7A/S，第七膜層最終形成后的厚度為50-100nm;其中，所述第七膜層的膜材為二氧化硅，形成二氧化硅層；
H、鍍第八膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同時(shí)保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第八膜層的膜材，其中第八膜層的膜材為銀的氧化物，在電子槍蒸鍍的作用下，銀的氧化物分解以納米銀的形式附著于上述步驟G中第七膜層的表面，同時(shí)控制第八膜層蒸鍍的速率為1A/S，第八膜層最終形成厚度為5-20nm的納米銀層;其中所述銀的氧化物為Ag2O、AgO或Ag2O3。
[0012]所述的步驟I)中對(duì)基片進(jìn)行清洗、干燥的具體步驟如下:將基片放在真空艙內(nèi)，用離子槍轟擊基片的外表面2-3分鐘進(jìn)行清洗。
[0013]所述基片由玻璃成型時(shí)，該過濾藍(lán)光殺菌防炫的燈罩的制造方法具體包括以下步驟:
1)對(duì)基片進(jìn)行清洗、干燥；
2)對(duì)基片的外表面進(jìn)行鍍膜；
A、鍍第一膜層:
將真空鍍膜艙內(nèi)的真空度調(diào)整至小于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第一膜層的膜材，第一膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級(jí)分子形式沉積于基片的外表面，同時(shí)控制第一膜層蒸鍍的速率為2.5A/S，第一膜層最終形成后的厚度為1-1OOnm;其中，所述第一膜層的膜材為五氧化三鈦，形成五氧化三鈦層；
B、鍍第二膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同時(shí)保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第二膜層的膜材，第二膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級(jí)分子形式沉積于上述步驟A中第一膜層的表面，同時(shí)控制第二膜層蒸鍍的速率為7A/S，第二膜層最終形成后的厚度為50-100nm;其中，所述第二膜層的膜材為二氧化硅，形成二氧化硅層；
C、鍍第三膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同時(shí)保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第三膜層的膜材，第三膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級(jí)分子形式沉積于上述步驟B中第二膜層的表面，同時(shí)控制第三膜層蒸鍍的速率為1A/S，第三膜層最終形成后的厚度為5-20nm;其中，所述第三膜層的膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅、鎳、金合金、銀合金、鈾合金、釹合金、銅合金、鋅合金或鎳合金，形成金屬層；
D、鍍第四膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同時(shí)保