掩膜板的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種掩膜板。
【背景技術(shù)】
[0002]掩膜板是在薄膜晶體管液晶顯示器(英文:Thin Film Transistor LiquidCrystal Display;簡稱:TFT-1XD)的光刻工藝中用于進(jìn)行圖形制作的一種組件，掩膜板主要由透明基板和形成在該透明基板上的具有特定圖形的不透光區(qū)域組成。
[0003]相關(guān)技術(shù)中，在制作掩膜板時，主要是在透明基板上沉積一層不透光膜層(例如鉻層)，然后采用電子束或激光按照預(yù)設(shè)的特定圖形對該不透光膜層進(jìn)行刻畫，再經(jīng)過顯影、刻蝕和脫膜等圖形化工藝，即可在透明基板上形成具有特定圖形的不透光區(qū)域。
[0004]但是，相關(guān)技術(shù)中每張掩膜板上的圖形是固定不變的，即每張掩膜板唯一對應(yīng)一種圖形。由于顯示基板的制造過程需要在襯底基板上依次形成多個圖形，需要購買與要形成的圖形相對應(yīng)的多個掩膜板，因此，TFT-LCD的制造過程較繁瑣，且制造成本較高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]為了解決相關(guān)技術(shù)中薄膜晶體管液晶顯示器TFT-LCD制造成本較高的問題，本發(fā)明提供了一種掩膜板。所述技術(shù)方案如下:
[0006]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種掩膜板，所述掩膜板包括:透明基板；
[0007]所述透明基板上形成有至少兩層電致變色薄膜圖形，每層所述電致變色薄膜圖形的上下兩側(cè)形成有透明電極；
[0008]所述至少兩層電致變色薄膜圖形能夠在所述透明電極的作用下在顯示基板上形成至少兩種不同的掩膜圖形。
[0009]可選的，所述透明基板的兩側(cè)分別形成有至少一層電致變色薄膜圖形。
[0010]可選的，所述透明基板的一側(cè)形成有第一下透明電極，所述第一下透明電極上形成有第一電致變色薄膜圖形，所述第一電致變色薄膜圖形上形成有第一上透明電極；
[0011]所述透明基板的另一側(cè)形成有第二下透明電極，所述第二下透明電極上形成有第二電致變色薄膜圖形，所述第二電致變色薄膜圖形上形成有第二上透明電極。
[0012]可選的，所述透明基板的兩側(cè)中的至少一側(cè)形成有下透明電極，所述下透明電極上形成有第一電致變色薄膜圖形，所述第一電致變色薄膜圖形上形成有共用透明電極，所述共用透明電極上形成有第二電致變色薄膜圖形，所述第二電致變色薄膜圖形上形成有上透明電極，所述共用透明電極上加載的電壓小于所述下透明電極上加載的電壓和所述上透明電極上加載的電壓。
[0013]可選的，所述電致變色薄膜圖形包括至少兩個間隔設(shè)置的電致變色薄膜單元，所述至少兩個間隔設(shè)置的電致變色薄膜單元的間隙形成有透明絕緣層。
[0014]可選的，所述掩膜板還包括:設(shè)置在所述透明基板外圍的控制模塊，
[0015]所述控制模塊分別與每層所述電致變色薄膜圖形上下兩側(cè)形成的透明電極電連接，用于控制每層所述電致變色薄膜圖形的電壓，以調(diào)節(jié)每層所述電致變色薄膜圖形的透光狀態(tài)；
[0016]所述透光狀態(tài)包括可透光狀態(tài)和不透光狀態(tài)。
[0017]可選的，所述電致變色薄膜圖形為普魯士藍(lán)薄膜。
[0018]可選的，所述透明電極為氧化銦錫ITO膜層。
[0019]可選的，所述透明絕緣層為氧化硅膜層或者氮化硅膜層。
[0020]可選的，所述至少兩層電致變色薄膜圖形在所述透明基板上的正投影所形成的投影區(qū)域不同。
[0021]本發(fā)明實(shí)施例提供的技術(shù)方案帶來的有益效果是:
[0022]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種掩膜板，該掩膜板包括:透明基板;該透明基板上形成有至少兩層電致變色薄膜圖形，每層該電致變色薄膜圖形的上下兩側(cè)形成有透明電極;該至少兩層電致變色薄膜圖形能夠在該透明電極的作用下在顯示基板上形成至少兩種不同的掩膜圖形，因此可以減少顯示基板制造過程中所需要使用的掩膜板的個數(shù)，簡化了薄膜晶體管液晶顯示器TFT-1XD的制造工藝，降低了 TFT-1XD的制造成本。
【附圖說明】
[0023]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0024]圖1是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種掩膜板的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖2是本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種掩膜板的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖3是本發(fā)明實(shí)施例提供的再一種掩膜板的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027]圖4是本發(fā)明實(shí)施例提供的又一種掩膜板的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0028]圖5-1是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種掩膜板的制造方法的流程圖；
[0029]圖5-2是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種形成第一下透明電極的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0030]圖5-3是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種形成第一電致變色薄膜圖形的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0031]圖5-4是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種形成透明絕緣層的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0032]圖5-5是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種形成第一上透明電極的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0033]圖6-1是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示基板的制造方法的流程圖；
[0034]圖6-2是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種形成第一掩膜圖形的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0035]圖6-3是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種形成第二掩膜圖形的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0036]為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明實(shí)施方式作進(jìn)一步地詳細(xì)描述。
[0037]圖1本發(fā)明實(shí)施例提供的一種掩膜板的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖，參見圖1，該掩膜板包括:透明基板00;
[0038]該透明基板00上形成有至少兩層電致變色薄膜圖形10，每層該電致變色薄膜圖形的上下兩側(cè)形成有透明電極20。示例的，在圖1所示的掩膜板中，該透明基板00上形成有兩層電致變色薄膜圖形101和102，其中，電致變色薄膜圖形101的上下兩側(cè)形成有透明電極201和202，電致變色薄膜圖形102的上下兩側(cè)形成有透明電極203和204。
[0039]該至少兩層電致變色薄膜圖形10能夠在該透明電極20的作用下在顯示基板(圖中未示出)上形成至少兩種不同的掩膜圖形。
[0040]綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例提供的一種掩膜板包括:透明基板以及形成在該透明基板上的至少兩層電致變色薄膜圖形，該至少兩層電致變色薄膜圖形能夠在透明電極的作用下在顯示基板上形成至少兩種不同的掩膜圖形，因此可以減少顯示基板制造過程中所需要使用的掩膜板的個數(shù)，進(jìn)而簡化了 TFT-1XD的制造工藝，降低了 TFT-1XD的制造成本。
[0041]在本發(fā)明實(shí)施例中，該至少兩層電致變色薄膜圖形10在透明基板00上的正投影所形成的投影區(qū)域不同，即該至少兩層電致變色薄膜圖形10在透明基板00上的正投影所形成的投影區(qū)域可以完全錯開，也可以部分重疊，但不完全重疊，從而保證該至少兩層電致變色薄膜圖形10能夠在顯示基板上形成至少兩種不同的掩膜圖形。
[0042]可選的，在本發(fā)明實(shí)施例中，該透明基板00的兩側(cè)可以分別形成有至少一層電致變色薄膜圖形。示例的，在圖1所示的掩膜板中，該透明基板00的兩側(cè)分別形成有一層電致變色薄膜圖形101和102，該透明基板00的一側(cè)形成有第一下透明電極201，該第一下透明電極201上形成有第一電致變色薄膜圖形101，該第一電致變色薄膜圖形101上形成有第一上透明電極202;該透明基板00的另一側(cè)形成有第二下透明電極203，該第二下透明電極203上形成有第二電致變色薄膜圖形102，該第二電致變色薄膜圖形102上形成有第二上透明電極204。在掩膜板的兩側(cè)分別設(shè)置一層電致變色薄膜圖形，可以保證在曝光過程中，光線穿過一層電致變色薄膜圖形后即可照射到顯示基板上，避免了光線在多層電致變色薄膜圖形中傳輸時，可能會發(fā)生的偏折，保證了顯示基板的制造精度。
[0043]圖2本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種掩膜板的側(cè)