適于多次套刻的多時(shí)序光刻圖案的掩膜板組及制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明設(shè)及半導(dǎo)體器件制備技術(shù)領(lǐng)域，尤其設(shè)及一種適于多次套刻的多時(shí)序光刻 圖案的掩膜板組及制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 光刻技術(shù)是在一片平整的娃片上構(gòu)建半導(dǎo)體M0S管和電路的技術(shù)，是一種精密的 微細(xì)加工技術(shù)。
[0003] 現(xiàn)有的光刻工藝進(jìn)行多次套刻時(shí)，一般會(huì)按照固定的加工順序進(jìn)行加工。次 套刻的十字圖形為例，如圖1所示了參與Ξ次套刻過程中四種十字圖形（1)、（2)、（3)、（4)。 如圖2示出了四種十字圖形套刻后的光刻圖案。如圖3所示，掩膜板分為a、b、c、d。在工藝過 程中，一般掩膜板的使用順序?yàn)閍-b-c-d，則套刻順序?yàn)?1)-(2)-(3)-(4)。
[0004] 但新興的MEMS微機(jī)械加工要求和原來的MEMS加工要求不同，其要求機(jī)械機(jī)構(gòu)的加 工靈活多變，故加工順序可W根據(jù)實(shí)驗(yàn)員的要求隨意變換。繼續(xù)W上述圖3的掩膜板為例， 若掩膜板的使用順序?yàn)閏-a-b-d，則套刻順序?yàn)?4)-(2)-(3)-(1)。此時(shí)，第(4)種十字圖形 曝光后，第(2)塊十字圖形不能精確對(duì)準(zhǔn)預(yù)設(shè)位置，會(huì)使得第(3)塊十字圖形在曝光時(shí)與已 曝光的第(4)種或第(2)種十字圖形發(fā)生重疊現(xiàn)象，如圖4所示。由此，現(xiàn)有存在的加工方式 不能隨意更換掩膜板的使用順序，即定好的掩膜板的圖形不易改變，導(dǎo)致加工順序不易改 變，進(jìn)而影響了微機(jī)械加工的靈活性。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明提供一種適于多次套刻的多時(shí)序光刻圖案的掩膜板組及制作方法，用于解 決現(xiàn)有技術(shù)中定好的掩膜板的圖形不易改變，導(dǎo)致加工順序不易改變，進(jìn)而影響了微機(jī)械 加工的靈活性的問題。
[0006] 第一方面，本發(fā)明提供一種適用于多次套刻的多時(shí)序光刻圖案的掩膜板組，包括 多塊掩膜板，掩膜板的個(gè)數(shù)為m+1，m為套刻次數(shù)，其中，
[0007] 每塊所述掩膜板上均勻劃分多個(gè)圖案區(qū)，所述圖案區(qū)的總面積等于掩膜板的表面 積，圖案區(qū)的個(gè)數(shù)至少為m+1;
[000引每個(gè)圖案區(qū)上設(shè)置有遮光層，遮光層上開設(shè)有透光圖形，透光圖形的種數(shù)為m+1， 各種類的透光圖形套設(shè)在一起形成所述光刻圖案；
[0009] 每塊所述掩膜板上且處于相同位置上的圖案區(qū)所開設(shè)的透光圖形互不相同，并設(shè) 掩膜板上處于同一位置上的m+1個(gè)透光圖形為一套刻序組;任意兩個(gè)對(duì)應(yīng)位置上的套刻序 組不同。
[0010] 優(yōu)選地，每塊所述掩膜板上均勻劃分4說個(gè)圖案區(qū)，m為套刻次數(shù)。
[0011] 優(yōu)選地，所述掩膜板至少包括四塊。
[0012] 優(yōu)選地，所述透光圖形包括十字形、圓形或方形。
[0013] 優(yōu)選地，所述光刻圖案中相鄰?fù)腹鈭D形的間距為5-10皿。
[0014] 第二方面，本發(fā)明提供一種掩膜板組的制作方法，包括：
[0015] S1、準(zhǔn)備多塊掩膜板，掩膜板的個(gè)數(shù)為m+1，m為套刻次數(shù)；
[0016] S2、在每塊所述掩膜板上均勻劃分出多個(gè)圖案區(qū)，所述圖案區(qū)的總面積等于掩膜 板的表面積，圖案區(qū)的個(gè)數(shù)至少為m+1;
[0017] S3、在每個(gè)圖案區(qū)上涂有遮光層，在遮光層上開設(shè)有透光圖形，透光圖形的種數(shù)為 m+1，各種類的透光圖形套設(shè)在一起形成光刻圖案；
[0018] S4、在每塊所述掩膜板上且處于相同位置上的圖案區(qū)所開設(shè)的透光圖形互不相 同，并設(shè)掩膜板上處于同一位置上的m+1個(gè)透光圖形為一套刻序組;任意兩個(gè)對(duì)應(yīng)位置上的 套刻序組不同。
[0019] 優(yōu)選地，在每塊所述掩膜板上均勻劃分出瓜個(gè)圖案區(qū)，m為套刻次數(shù)。
[0020] 由上述技術(shù)方案可知，本發(fā)明提供一種適于多次套刻的多時(shí)序光刻圖案的掩膜板 組及制作方法，所述掩膜板組在進(jìn)行多次套刻工藝時(shí)，無需考慮圖形結(jié)構(gòu)的加工順序，便可 得到不同時(shí)序的順序排列方式，方便了不同時(shí)序加工流程，同時(shí)節(jié)約了掩膜板的數(shù)量，降低 了成本。
【附圖說明】
[0021] 圖1為Ξ次套刻加工過程所使用的四種透光圖形的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022] 圖2為圖1中透光圖形套刻后的光刻圖案示意圖；
[0023] 圖3為現(xiàn)有技術(shù)中W圖1所述透光圖形的掩膜板設(shè)計(jì)圖；
[0024] 圖4為現(xiàn)有技術(shù)中掩膜板曝光折疊現(xiàn)象示意圖；
[0025] 圖5為本發(fā)明實(shí)施例1中W圖1所述透光圖形的掩膜板設(shè)計(jì)圖；
[0026] 圖6為本發(fā)明實(shí)施例2所述掩膜板組的制作方法流程示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0027] 下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步詳細(xì)描述。W下實(shí)施 例用于說明本發(fā)明，但不用來限制本發(fā)明的范圍。
[0028] 本發(fā)明實(shí)施例1提供一種適用于多次套刻的多時(shí)序光刻圖案的掩膜板組，包括多 塊掩膜板，掩膜板的個(gè)數(shù)為m+1，m為套刻次數(shù)，其中，
[0029] 每塊所述掩膜板上均勻劃分多個(gè)圖案區(qū)，所述圖案區(qū)的總面積等于掩膜板的表面 積，圖案區(qū)的個(gè)數(shù)至少為m+1。若為了突出掩膜板加工順序的多樣化，每塊所述掩膜板上均 勻劃分4：：!個(gè)圖案區(qū)，m為套刻次數(shù)。
[0030] 每個(gè)圖案區(qū)上設(shè)置有遮光層，遮光層上開設(shè)有透光圖形，透光圖形的種數(shù)為m+1， 各種類的透光圖形套設(shè)在一起形成所述光刻圖案；
[0031] 每塊所述掩膜板上且處于相同位置上的圖案區(qū)所開設(shè)的透光圖形互不相同，并設(shè) 掩膜板上處于同一位置上的m+1個(gè)透光圖形為一套刻序組;任意兩個(gè)對(duì)應(yīng)位置上的套刻序 組不同。
[0032] 下面W所述透光圖形為十字圖形，所述套刻次數(shù)為3次，掩膜板為4個(gè)，圖案區(qū)為.餐 個(gè)為例，對(duì)上述本發(fā)明提供的掩膜板組進(jìn)行詳細(xì)介紹。在此，需要說明的是，所述套刻次數(shù) 是根據(jù)對(duì)最里面的透光圖形(如圖1中陰影部分的第（1)種十字圖形）依次套刻幾次成為最 終的光刻圖案所決定的，即根據(jù)最里面的透光圖形外圍存在幾個(gè)透光圖形所決定。
[0033] 如圖1所示了參與Ξ次套刻過程中四種十字圖形（1)、（2)、（3)、（4)。如圖2示出了 四種十字圖形套刻后的光刻圖案。如圖5所示，掩膜板分為4、8、(：、0。在每塊所述掩膜板上且 處于相同位置上的圖案區(qū)所開設(shè)的透光圖形互不相同。例如，在掩膜板A、B、C