在一個(gè)或更多個(gè)光刻參數(shù)與延遲之間的關(guān)系(表示為取向澤尼克系數(shù)）。再次，延遲圖與運(yùn) 些相關(guān)性或依賴(lài)性相組合W創(chuàng)建光刻目標(biāo)圖。在所述動(dòng)態(tài)光學(xué)元件模型內(nèi)，優(yōu)化了所述像 差W匹配所述目標(biāo)圖。
[0109] 作為對(duì)相位相關(guān)校正的補(bǔ)充或替代，可W應(yīng)用幅度相關(guān)校正。對(duì)于幅度相關(guān)校正， 在步驟50,標(biāo)量透射(變跡）圖14a和雙衰減校正圖51被組合并且此組合被用來(lái)通過(guò)改變進(jìn) 入所述投影系統(tǒng)化的輸入福射束而至少部分地校正所述圖像。運(yùn)可W通過(guò)所述圖案形成裝 置MA的圖案的合適設(shè)計(jì)且使用一個(gè)或更多個(gè)計(jì)算光刻技術(shù)(諸如例如光學(xué)鄰近模擬)而實(shí) 現(xiàn)。即，當(dāng)計(jì)算圖案從圖案形成裝置MA通過(guò)所述投影系統(tǒng)化轉(zhuǎn)移到襯底圖像時(shí)，直接地考慮 所述雙衰減(在沒(méi)有圖案存在的情況下在步驟Hb處測(cè)量）。在光刻模擬器(其可W呈運(yùn)行于 計(jì)算機(jī)上的軟件的形式）中執(zhí)行此計(jì)算。事實(shí)是，雙衰減取決于所述投影系統(tǒng)化并且場(chǎng)點(diǎn)使 得運(yùn)樣的計(jì)算復(fù)雜化。因此，在某些實(shí)施例中，所述計(jì)算僅可考慮所述雙衰減的基本上與投 影系統(tǒng)化和場(chǎng)無(wú)關(guān)的一部分。
[0110] 在使用所述光刻設(shè)備LA對(duì)襯底W進(jìn)行曝光期間，在所述福射束傳播通過(guò)所述投影 系統(tǒng)化之前，所述圖案形成裝置MA將施加圖案至所述福射束。典型的圖案可包括一系列線 和/或兩維特征。所述圖案形成裝置MA的圖案可導(dǎo)致所述福射束的衍射。在圖3中所示的實(shí) 施例中，在步驟20中使用所述圖案形成裝置MA，所述圖案形成裝置MA被用來(lái)圖案化所述輸 入福射束，所述輸入福射束用來(lái)在襯底W上形成圖像。特別地，所述圖案形成裝置信息與來(lái) 自照射器IL的信息相組合W形成組合的福射圖22。所組合的福射圖22包括所述投影系統(tǒng)化 的光瞳平面中的福射束PB的強(qiáng)度分量22a和偏振分量22b(包括來(lái)自圖案形成裝置MA的圖案 的信息）。運(yùn)對(duì)于其中所述圖案形成裝置MA的圖案包括兩維特征且偏振模式包括不同偏振 (例如，如圖5C所示，TE偏振）的實(shí)施例來(lái)說(shuō)尤其有益的。運(yùn)是因?yàn)樵谶\(yùn)些實(shí)施例情況下，由 于所述圖案形成裝置MA引起的衍射可能導(dǎo)致來(lái)自不同極的福射的混合，其可W具有不同偏 振。運(yùn)在圖6中被示意性地圖示，其示出了通過(guò)圖案形成裝置圖案引起的六極模式的單個(gè)極 區(qū)域60的衍射可W如何導(dǎo)致來(lái)自該極的福射混合入其它極。圖案形成裝置圖案可W例如是 塊的陣列，其導(dǎo)致在由箭頭63所指示的方向上的衍射。因而，在圖6的左側(cè)的極區(qū)域60中的 福射被衍射到圖6的右側(cè)頂部和右側(cè)底部處的極區(qū)域61、62內(nèi)。通過(guò)將所述圖案形成裝置MA 圖案信息與來(lái)自照射器IL的強(qiáng)度和偏振信息相組合，所述延遲和雙衰減圖將考慮到由所述 圖案形成裝置M所導(dǎo)致的運(yùn)樣的衍射影響。
[0111] 圖案形成裝置的圖案沒(méi)有被應(yīng)用于圖2中所示的實(shí)施例中。因而，沒(méi)有在延遲和雙 衰減圖中考慮圖案形成裝置對(duì)進(jìn)入所述投影系統(tǒng)PL的福射的偏振的衍射效果。然而，所述 圖指示著對(duì)于不同照射模式發(fā)生的延遲和雙衰減，并且因而可W提供有用的延遲和雙衰減 校正。盡管所提供的校正可能不像考慮到所述圖案形成裝置MA信息的校正般精確，但是與 若沒(méi)有應(yīng)用對(duì)于延遲和雙衰減的校正的情形相對(duì)比，其可W提供顯著的改善。
[0112] 盡管在上述的實(shí)施例中，通過(guò)調(diào)整所述投影系統(tǒng)化而校正了像差和延遲，但是替 代地或補(bǔ)充地，運(yùn)些影響可W至少部分地在使用計(jì)算光刻的圖案形成裝置設(shè)計(jì)中被校正。
[0113] 在上述方法中，所述步驟可W-次執(zhí)行。替代地，步驟10和/或步驟20可W周期性 地執(zhí)行。如果周期性地執(zhí)行，則可W按不同速率執(zhí)行步驟10和20。每次步驟10和/或步驟20 被執(zhí)行時(shí)，步驟30和步驟40和/或步驟50可W被執(zhí)行。
[0114] 盡管在上述實(shí)施例中，所述方法校正所述投影系統(tǒng)化的偏振相關(guān)和偏振不相關(guān)特 性二者，然而實(shí)施例可W僅校正偏振相關(guān)效應(yīng)。
[0115] 盡管在上述實(shí)施例中，所述方法校正可W通過(guò)調(diào)整所述投影系統(tǒng)化而校正的效應(yīng) W及可W由合適的圖案形成裝置設(shè)計(jì)校正的效應(yīng)二者，然而，替代實(shí)施例可W僅校正一個(gè) 或另一個(gè)。例如，所述方法可W僅通過(guò)調(diào)整所述投影系統(tǒng)化而校正延遲效應(yīng)。
[0116] 本發(fā)明的實(shí)施例可W在硬件、固件、軟件、或它們的任意組合中被實(shí)施。本發(fā)明的 實(shí)施例也可實(shí)施為儲(chǔ)存于機(jī)器可讀取介質(zhì)上的指令，其可W由一個(gè)或更多個(gè)處理器讀取并 且執(zhí)行。機(jī)器可讀取介質(zhì)可包括用于W可由機(jī)器(例如，計(jì)算裝置)讀取的形式儲(chǔ)存或傳輸 信息的任何機(jī)制。例如，機(jī)器可讀取介質(zhì)可包括:只讀存儲(chǔ)器(ROM);隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(RAM); 磁盤(pán)儲(chǔ)存介質(zhì);光學(xué)儲(chǔ)存介質(zhì)；閃速存儲(chǔ)器裝置;電、光、聲或其它形式的傳播信號(hào)(例如，載 波，紅外信號(hào)，數(shù)字信號(hào)，等等），W及其它。此外，固件、軟件、例程、指令可W在本文中描述 為執(zhí)行特定動(dòng)作。然而，應(yīng)理解到，運(yùn)樣的描述僅僅是為了便利起見(jiàn)并且運(yùn)樣的動(dòng)作實(shí)際上 源自計(jì)算裝置、處理器、控制器、或執(zhí)行所述固件、軟件、例程、指令等的其它裝置。
[0117]盡管本發(fā)明的具體實(shí)施例已在上面描述，將理解到本發(fā)明可W用如所描述W外的 其它方式實(shí)踐。說(shuō)明書(shū)并非旨在限制本發(fā)明。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種用于對(duì)由光學(xué)系統(tǒng)所形成的光學(xué)圖像進(jìn)行校正的方法，所述方法包括： 獲得指示橫跨所述光學(xué)系統(tǒng)的整個(gè)光瞳平面的、對(duì)于在所述光學(xué)系統(tǒng)的像平面中的每 個(gè)空間位置的所述光學(xué)系統(tǒng)的偏振相關(guān)特性的圖； 將指示所述光學(xué)系統(tǒng)的偏振相關(guān)特性的圖與輸入輻射束的強(qiáng)度和偏振的輻射圖相組 合以形成圖像圖；以及 使用所述圖像圖來(lái)對(duì)通過(guò)引導(dǎo)所述輸入輻射束經(jīng)過(guò)所述光學(xué)系統(tǒng)而形成的光學(xué)圖像 進(jìn)行校正。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在所述輸入輻射束進(jìn)入所述光學(xué)系統(tǒng)之前，圖案被 圖案形成裝置賦予所述輸入輻射束，并且其中所述輻射圖包含與所述圖案相關(guān)的信息。3. 根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的方法，其中通過(guò)將校正圖確定為所述圖像圖與所 述輻射圖之間的差異，并且隨后使用所述校正圖來(lái)對(duì)通過(guò)引導(dǎo)所述輸入輻射束經(jīng)過(guò)所述光 學(xué)系統(tǒng)所形成的光學(xué)圖像進(jìn)行校正，而實(shí)現(xiàn)對(duì)所述光學(xué)圖像的校正。4. 根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的方法，其中通過(guò)使用所述圖像圖來(lái)確定所述偏振 相關(guān)特性對(duì)于通過(guò)引導(dǎo)所述輸入輻射束經(jīng)過(guò)所述光學(xué)系統(tǒng)所形成的所述光學(xué)圖像的影響， 并且隨后執(zhí)行對(duì)于該光學(xué)圖像進(jìn)行校正的校正，而實(shí)現(xiàn)對(duì)所述光學(xué)圖像的校正。5. 根據(jù)權(quán)利要求3或權(quán)利要求4所述的方法，其中通過(guò)操縱所述光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)元件而 實(shí)現(xiàn)對(duì)所述光學(xué)圖像的校正。6. 根據(jù)從屬于權(quán)利要求2的權(quán)利要求3或權(quán)利要求4所述的方法，其中通過(guò)修改所述圖 案形成裝置的圖案，實(shí)現(xiàn)對(duì)所述光學(xué)圖像的校正。7. 根據(jù)前述任一權(quán)利要求所述的方法，其中獲得指示所述偏振相關(guān)特性的圖包括對(duì)指 示所述偏振相關(guān)特性的圖進(jìn)行測(cè)量。8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中測(cè)量指示所述偏振相關(guān)特性的圖包括： 依序地引導(dǎo)具有不同偏振狀態(tài)的三個(gè)或更多個(gè)校準(zhǔn)輻射束通過(guò)所述光學(xué)系統(tǒng)； 對(duì)于每個(gè)校準(zhǔn)輻射束確定從所述光學(xué)系統(tǒng)離開(kāi)的所述輻射的特性的輸出圖；以及 組合所述輸出圖以確定指示橫跨所述光學(xué)系統(tǒng)的光瞳平面的光學(xué)系統(tǒng)的偏振相關(guān)特 性的量值和方向的圖。9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中所述光學(xué)系統(tǒng)的偏振相關(guān)特性包括延遲，并且從所 述光學(xué)系統(tǒng)離開(kāi)的輻射的特性的輸出圖包括波前。10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中使用剪切干涉儀來(lái)測(cè)量從所述光學(xué)系統(tǒng)離開(kāi)的波 、r ' 刖。11. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中所述光學(xué)系統(tǒng)的偏振相關(guān)特性包括雙衰減，并且 從所述光學(xué)系統(tǒng)離開(kāi)的輻射的特性的輸出圖包括強(qiáng)度圖。12. 根據(jù)權(quán)利要求8至11中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述校準(zhǔn)輻射束中的一個(gè)或多個(gè)具 有雙極強(qiáng)度分布并且在基本上與平分開(kāi)所述雙極的兩個(gè)相對(duì)扇區(qū)的線垂直的方向上被線 性地偏振，對(duì)于不同校準(zhǔn)輻射束的雙極的取向是不同的。13. 根據(jù)前述任一權(quán)利要求所述的方法，其中獲得指示所述偏振相關(guān)特性的圖包括使 用建模軟件來(lái)對(duì)所述光學(xué)系統(tǒng)對(duì)于所述輻射束的影響進(jìn)行建模。14. 根據(jù)前述任一權(quán)利要求所述的方法，其中獲得指示所述偏振相關(guān)特性的圖包括確 定取向澤尼克多項(xiàng)式(OZPs)的線性展開(kāi)式中的系數(shù)。15. 根據(jù)前述任一權(quán)利要求所述的方法，其中獲得指示所述偏振相關(guān)特性的圖包括從 存儲(chǔ)器獲取所述圖。16. 根據(jù)前述任一權(quán)利要求所述的方法，其中也對(duì)偏振不相關(guān)效果進(jìn)行校正。17. 根據(jù)前述任一權(quán)利要求所述的方法，其中所述光學(xué)系統(tǒng)是光刻設(shè)備的投影系統(tǒng)。18. -種光刻設(shè)備，包括： 襯底臺(tái)，所述襯底臺(tái)被配置成用以保持襯底； 投影系統(tǒng)，所述投影系統(tǒng)被配置成用以將具有圖案的輻射束投影到所述襯底的目標(biāo)部 分上以在其上形成圖像；以及 處理器，所述處理器可操作以： 獲得指示橫跨所述光學(xué)系統(tǒng)的光瞳平面的、對(duì)于在所述投影系統(tǒng)的像平面中的每個(gè)空 間位置的所述投影系統(tǒng)的偏振相關(guān)特性的圖； 將指示所述偏振相關(guān)特性的圖與所述光瞳平面中的輸入輻射束的強(qiáng)度和偏振的輻射 圖相組合以形成所述光瞳平面中的圖像圖；以及 當(dāng)所述投影系統(tǒng)接收所述輸入輻射束時(shí)，使用所述圖像圖來(lái)校正由所述投影系統(tǒng)所形 成的圖像。19. 根據(jù)權(quán)利要求18所述的光刻設(shè)備，其中所述設(shè)備可操作以實(shí)施根據(jù)權(quán)利要求1-16 中任一項(xiàng)所述的方法。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明提供一種對(duì)由光學(xué)系統(tǒng)形成的光學(xué)圖像進(jìn)行校正的方法，所述方法包括：獲得指示所述光學(xué)系統(tǒng)的整個(gè)光瞳平面上的、對(duì)于在光學(xué)系統(tǒng)的像平面中的每個(gè)空間位置的所述光學(xué)系統(tǒng)的偏振相關(guān)特性的圖，將指示所述光學(xué)系統(tǒng)的偏振相關(guān)特性的圖與輸入輻射束的強(qiáng)度和偏振的輻射圖相組合以形成圖像圖，以及使用所述圖像圖來(lái)對(duì)通過(guò)引導(dǎo)所述輸入輻射束經(jīng)過(guò)所述光學(xué)系統(tǒng)而形成的光學(xué)圖像進(jìn)行校正。
【IPC分類(lèi)】G03F7/20
【公開(kāi)號(hào)】CN105723283
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201480062809
【發(fā)明人】J·博格斯尼古洛, H·諾貝爾, J·J·M·巴塞曼斯, B·斯米特斯, P·J·M·范艾德麗切姆
【申請(qǐng)人】Asml荷蘭有限公司
【公開(kāi)日】2016年6月29日
【申請(qǐng)日】2014年10月2日
【公告號(hào)】WO2015074796A1