Qsfp+光模塊組件的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種光路組合及機械結(jié)構(gòu)，尤其涉及一種QSFP+光模塊組件。
【背景技術(shù)】
[0002]伴隨著數(shù)字化的進程，數(shù)據(jù)的處理、存儲和傳輸?shù)玫搅孙w速的發(fā)展。大數(shù)據(jù)量的搜索服務(wù)和視頻業(yè)務(wù)的迅猛增長，極大地帶動了以超級計算機和存儲為基礎(chǔ)的數(shù)據(jù)中心市場。40G QSFP+光模塊(增強版四通道小型可插拔光模塊)作為短距離互聯(lián)應(yīng)用的主要產(chǎn)品，有著廣闊的應(yīng)用前景。這種模塊的設(shè)計目的是通過更小的體積和更低的成本，提供更高的接入密度，最終提高用戶接入容量。
[0003]CffDM的QSFP+方案，通過相應(yīng)的合波/分波組件，將λ 1，λ 2，λ 3，λ 4四個波長的光耦合進單通道光纖中，或?qū)胃饫w的光分成四個通道進行接收。與傳統(tǒng)的四通道QSFP+模塊相比，光纖數(shù)量大大減少，光路結(jié)構(gòu)更加緊湊，利于數(shù)據(jù)中心的光纜鋪設(shè)和維護。
[0004]然而，目前應(yīng)用較多的合波/分波組件，主要是用光波導的方案，這種方案存在元件較多，工藝復雜，生產(chǎn)難度大而且成本較高的弊端。
[0005]因此有必要設(shè)計一種QSFP+光模塊組件，以克服上述問題。
【實用新型內(nèi)容】
[0006]本實用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)之缺陷，提供了一種工藝簡單的QSFP+光模塊組件，其可提高生產(chǎn)效率。
[0007]本實用新型是這樣實現(xiàn)的:
[0008]本實用新型提供一種QSFP+光模塊組件，包括RX端光學組件和TX端光學組件，所述RX端光學組件內(nèi)設(shè)有ro芯片陣列，所述TX端光學組件內(nèi)設(shè)有VCSEL芯片陣列，所述RX端光學組件和TX端光學組件設(shè)于一 PCB板上；所述RX端光學組件具有一塑料支架單元，所述塑料支架單元內(nèi)部設(shè)有光路組合單元，所述塑料支架單元的上端設(shè)有LC接口，用于與光纖連接；所述光路組合單元包括一個鍍膜光學組件、四個45°反光面和一個四通道透鏡陣列，所述四個45°反光面位于所述鍍膜光學組件的正下方，所述四通道透鏡陣列位于所述四個45°反光面的正下方，所述鍍膜光學組件的正面設(shè)有A鍍膜區(qū)域和B鍍膜區(qū)域，反面依次設(shè)有C鍍膜區(qū)域、D鍍膜區(qū)域、E鍍膜區(qū)域以及F鍍膜區(qū)域；從光纖出射的四束波長分別為λ1、λ2、λ3和λ 4的光束依次經(jīng)過所述鍍膜光學組件、四個所述45°反光面和所述四通道透鏡陣列后，進入所述H)芯片陣列，其中，所述A鍍膜區(qū)域為全波長增透膜區(qū)域，所述B鍍膜區(qū)域為全波長反射區(qū)域；所述C鍍膜區(qū)域為λ I增透區(qū)域，λ 2、λ 3和λ 4反射區(qū)域；所述D鍍膜區(qū)域為λ 2增透區(qū)域，λ3和λ 4反射區(qū)域；所述E鍍膜區(qū)域為λ 3增透區(qū)±或，λ 4反射區(qū)域；所述F鍍膜區(qū)域為λ 4增透區(qū)域。
[0009]進一步地，所述TX端光學組件與所述RX端光學組件內(nèi)的光路組合單元的結(jié)構(gòu)相同。
[0010]進一步地，所述RX端光學組件具有一準直透鏡，所述準直透鏡位于所述LC接口的內(nèi)部。
[0011]進一步地，所述ro芯片陣列包括四個ro芯片，四束波長分別為λ?、λ2、λ3和λ 4的光束分別會聚至所述四個ro芯片上。
[0012]進一步地，所述鍍膜光學組件包括一傾斜面和一光學玻片，所述光學玻片上設(shè)有鍍膜，并在其正面形成所述A鍍膜區(qū)域、B鍍膜區(qū)域，反面形成所述C鍍膜區(qū)域、D鍍膜區(qū)域、E鍍膜區(qū)域以及F鍍膜區(qū)域，四束波長分別為λ?、λ2、λ3和λ 4的光束經(jīng)過所述傾斜面反射后射入所述光學玻片。
[0013]進一步地，所述鍍膜光學組件為一楔形玻璃塊，所述楔形玻璃塊上設(shè)有鍍膜，并在其正面形成所述A鍍膜區(qū)域、B鍍膜區(qū)域，反面形成所述C鍍膜區(qū)域、D鍍膜區(qū)域、E鍍膜區(qū)域以及F鍍膜區(qū)域，四束波長分別為λ 1、λ 2、λ 3和λ 4的光束垂直射入所述楔形玻璃塊。
[0014]進一步地，所述塑料支架單元上設(shè)有加強筋。
[0015]本實用新型具有以下有益效果:
[0016]從光纖出射的四束波長分別為λ 1、λ 2、λ 3和λ 4的光束依次經(jīng)過所述鍍膜光學組件、四個所述45°反光面和所述四通道透鏡陣列后，進入所述ro芯片陣列，其中，所述A鍍膜區(qū)域為全波長增透膜區(qū)域，所述B鍍膜區(qū)域為全波長反射區(qū)域；所述C鍍膜區(qū)域為λ I增透區(qū)域，λ2、λ3和λ 4反射區(qū)域；所述D鍍膜區(qū)域為λ 2增透區(qū)域，λ3和λ 4反射區(qū)域；所述E鍍膜區(qū)域為λ 3增透區(qū)域，λ 4反射區(qū)域；所述F鍍膜區(qū)域為λ 4增透區(qū)域。所述QSFP+光模塊組件采用鍍膜光學組件進行波長選擇，從而將復雜的耦合工藝大為簡化，生產(chǎn)難度降低，從而可有效的提高生產(chǎn)效率。
【附圖說明】
[0017]為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖。
[0018]圖1為本實用新型實施例提供的QSFP+光模塊組件的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖2為本實用新型實施例提供的RX端光學組件的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖3為本實用新型實施例提供的光路組合單元第一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021]圖4為本實用新型實施例提供的光學玻片鍍膜的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]圖5為本實用新型實施例提供的45°反光面和四通道透鏡陣列的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖6為本實用新型實施例提供的RX端光學組件第一實施例的光路平面圖；
[0024]圖7為本實用新型實施例提供的光路組合單元第二實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖8為本實用新型實施例提供的RX端光學組件第二實施例的光路示意圖；
[0026]圖9為本實用新型實施例提供的光路組合單元第三實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027]圖10為本實用新型實施例提供的RX端光學組件第三實施例的光路示意圖。
【具體實施方式】
[0028]下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├?，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其它實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。
[0029]如圖1和圖2，本實用新型實施例提供一種QSFP+光模塊組件，包括RX端光學組件104和TX端光學組件105，所述RX端光學組件104內(nèi)設(shè)有H)芯片陣列102，所述TX端光學組件105內(nèi)設(shè)有VCSEL芯片陣列103，所述RX端光學組件104(接收端光學組件)和TX端光學組件105 (發(fā)射端光學組件)設(shè)于一 PCB板106上，在本較佳實施例中，所述RX端光學組件104和TX端光學組件105均通過高精度貼片設(shè)備貼裝于同一 PCB板106上，構(gòu)成QSFP+光模塊組件的光路部分。
[0030]如圖1和圖2，所述RX端光學組件104具有一塑料支架單元201，所述塑料支架單元201內(nèi)部設(shè)有光路組合單元202，所述塑料支架單元201的上端設(shè)有LC接口，用于與光纖連接。所述塑料支架單元201上設(shè)有加強筋，用于加強整體結(jié)構(gòu)的強度。由于光路的可逆性，所述TX端光學組件105與所述RX端光學組件104內(nèi)的光路組合單元202可以采用相同的結(jié)構(gòu)，下面僅描述RX端光學組件104內(nèi)的光路組合單元202的結(jié)構(gòu)。所述RX端光學組件104具有一準直透鏡601，所述準直透鏡601位于所述LC接口的內(nèi)部，用于將光束轉(zhuǎn)變?yōu)槠叫泄狻?br>[0031]如圖1至圖6，所述RX端光學組件104的光路組合單元202包括一個鍍膜光學組件、四個45°反光面303和一個四通道透鏡陣列502，所述四個45°反光面303位于所述鍍膜光學組件的正下方，所述四通道透鏡陣列502位于所述四個45°反光面303的正下方。所述鍍膜光學組件的正面設(shè)有A鍍膜區(qū)域和B鍍膜區(qū)域，反面依次設(shè)有C鍍膜區(qū)域、D鍍膜區(qū)域、E鍍膜區(qū)域以及F鍍膜區(qū)域；從光纖出射的四束波長分別為λ1、λ2、λ3和λ4的光束依次經(jīng)過所述鍍膜光學組件、四個所述45°反光面303和所述四通道透鏡陣列502后，進入所述H)芯片陣列102，其中，所述A鍍膜區(qū)域為全波長增透膜區(qū)域，所有波長的光束均可透過。