滑的基底101也同樣適用，如陶瓷基底101或金屬基底101等。
[0041]干膜102(Dry film)是一種高分子的化合物，它通過紫外線的照射后能夠產(chǎn)生一種聚合反應(yīng)形成一種穩(wěn)定的物質(zhì)附著于板面，從而達到阻擋電鍍和蝕刻的功能。干膜102的分類一般分為三層，一層是PE保護膜，中間是干膜102層，另一個是PET保護層。PE層和PET層都只是起保護作用的在壓膜前和顯影前都有必須要去掉的，真正起作用的是中間一層干膜102，它具有一定的粘性和良好的感光性。本實用新型選用干膜102，具有易于操作，容易保持清潔，且不必經(jīng)過烘烤、作業(yè)性能較佳等優(yōu)點。
[0042]如圖3所示，然后進行步驟2)，對所述干膜102進行曝光及顯影，于所述干膜102中形成直至所述基底101的具有預(yù)設(shè)圖形的凹槽結(jié)構(gòu)103 ;
[0043]作為示例，所述凹槽結(jié)構(gòu)103的截面形狀為矩形或者倒梯形，所述凹槽的深度為10微米?50微米，寬度為5微米?20微米。在本實施例中，所述凹槽的深度為40微米，寬度為10微米。
[0044]作為示例，所述具有預(yù)設(shè)圖形的凹槽結(jié)構(gòu)103為獨立分布的凹槽或呈網(wǎng)絡(luò)狀互聯(lián)分布的凹槽，具體要根據(jù)壓印模具的具體形狀需求而定。在本實施例中，所述具有預(yù)設(shè)圖形的凹槽結(jié)構(gòu)103為呈網(wǎng)絡(luò)狀互聯(lián)分布的凹槽。
[0045]如圖4?圖5所示，接著進行步驟3)，采用電鍍或者化學(xué)鍍的方法于所述干膜102表面及各凹槽結(jié)構(gòu)103中形成鍍鎳母版105，所形成的鍍鎳母版105包括充滿各凹槽結(jié)構(gòu)103的鎳凸起結(jié)構(gòu)107以及覆蓋于所述干膜102表面的鎳底板106 ；
[0046]作為示例，包括以下步驟:
[0047]如圖4所示，首先進行步驟3-1)，采用濺射工藝于各凹槽結(jié)構(gòu)103及干膜102表面形成種子層104，在本實施例中，所述種子層104為Ni/Cr合金，當(dāng)然，其他種類的種子層104也同樣適用，并不限定于此。
[0048]如圖5所示，然后進行步驟3-2)，采用電鍍或者化學(xué)鍍的方法于各凹槽結(jié)構(gòu)103中及所述干膜102表面的種子層104表面形成鍍鎳母版105，在本實施例中，采用電鍍的方法于各凹槽結(jié)構(gòu)103中及所述干膜102表面的種子層104表面形成鍍鎳母版105，所形成的鍍鎳母版105包括充滿各凹槽結(jié)構(gòu)103的鎳凸起結(jié)構(gòu)107以及覆蓋于所述干膜102表面的鎳底板106。
[0049]如圖6所示，最后進行步驟4)，將所述鍍鎳母版105與所述干膜102及基底101進行剝離，獲得鍍镲母版105。
[0050]作為示例，剝離后的鍍鎳母版105中的鎳凸起結(jié)構(gòu)107的表面及側(cè)面為光潔面。
[0051]作為示例，所述鍍鎳母版105中的鎳凸起結(jié)構(gòu)107的高度范圍為10微米?50微米，所述鎳凸起結(jié)構(gòu)107的寬度范圍為5微米?20微米，所述鍍鎳母版105中的鎳底板106的厚度范圍為100微米?250微米。在本實施例中，所述鍍鎳母版105中的鎳凸起結(jié)構(gòu)107的高度為40微米，所述鎳凸起結(jié)構(gòu)107的寬度為10微米，所述鍍鎳母版105中的鎳底板106的厚度范圍為150微米。
[0052]另外，本實用新型采用金屬鎳作為壓印模具的主體材料，具有高硬度，耐磨，壽命長等優(yōu)點。
[0053]如圖6所示，本實施例還提供一種具有低表面粗糙度的壓印模具，所述壓印模具為鍍鎳母版105，包括鎳底板106以及結(jié)合于所述鎳底板106表面的多個鎳凸起結(jié)構(gòu)107，所述鎳凸起結(jié)構(gòu)107的表面及側(cè)面為光潔面。
[0054]作為示例，所述多個鎳凸起結(jié)構(gòu)107為獨立分布的凸起或呈網(wǎng)絡(luò)狀互聯(lián)分布的凸起。
[0055]作為示例，所述鎳凸起結(jié)構(gòu)107的高度范圍為10微米?50微米，在本實施例中，所述鎳凸起結(jié)構(gòu)107的高度為40微米。
[0056]作為示例，所述鎳凸起結(jié)構(gòu)107的寬度范圍為5微米?20微米，在本實施例中，所述鎳凸起結(jié)構(gòu)107的寬度為10微米。
[0057]作為示例，所述鎳底板106的厚度范圍為100微米?250微米，在本實施例中，所述鎳底板106的厚度為150微米。
[0058]作為示例，所述鎳凸起結(jié)構(gòu)107的截面形狀為矩形或者具有O?10度脫模角的梯形。
[0059]另外，本實用新型采用金屬鎳作為壓印模具的主體材料，具有高硬度，耐磨，壽命長等優(yōu)點。
[0060]如上所述，本實用新型提供一種具有低表面粗糙度的壓印模具，所述制備方法包括步驟:1)提供表面平滑的基底101，于所述基底101上粘貼干膜102 ;2)對所述干膜102進行曝光及顯影，于所述干膜102中形成直至所述基底101的具有預(yù)設(shè)圖形的凹槽結(jié)構(gòu)103 ;3)采用電鍍或者化學(xué)鍍的方法于所述干膜102表面及各凹槽結(jié)構(gòu)103中形成鍍鎳母版105，所形成的鍍鎳母版105包括充滿各凹槽結(jié)構(gòu)103的鎳凸起結(jié)構(gòu)107以及覆蓋于所述干膜102表面的鎳底板106 ;4)將所述鍍鎳母版105與所述干膜102及基底101進行剝離，獲得鍍鎳母版105。本實用新型在玻璃基材上貼干膜102，對干膜102進行曝光顯影后電鍍鎳層，得到壓印模具。由于干膜102通過光刻、顯影等處理，壓印模具的側(cè)壁光潔度良好，具有非常低表面粗糙度。此外，采用本實用新型制備的壓印模具深度可達10?50 μπι，大大提高了模具的應(yīng)用范圍，可作為電鑄母版使用。所以，本實用新型有效克服了現(xiàn)有技術(shù)中的種種缺點而具高度產(chǎn)業(yè)利用價值。
[0061]上述實施例僅例示性說明本實用新型的原理及其功效，而非用于限制本實用新型。任何熟悉此技術(shù)的人士皆可在不違背本實用新型的精神及范疇下，對上述實施例進行修飾或改變。因此，舉凡所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者在未脫離本實用新型所揭示的精神與技術(shù)思想下所完成的一切等效修飾或改變，仍應(yīng)由本實用新型的權(quán)利要求所涵蓋。
【主權(quán)項】
1.一種具有低表面粗糙度的壓印模具，其特征在于:所述壓印模具為鍍鎳母版，包括鎳底板以及結(jié)合于所述鎳底板表面的多個鎳凸起結(jié)構(gòu)，所述鎳凸起結(jié)構(gòu)的表面及側(cè)面為光潔面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有低表面粗糙度的壓印模具，其特征在于:所述多個鎳凸起結(jié)構(gòu)為獨立分布的凸起或呈網(wǎng)絡(luò)狀互聯(lián)分布的凸起。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有低表面粗糙度的壓印模具，其特征在于:所述鎳凸起結(jié)構(gòu)的高度范圍為10微米?50微米。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有低表面粗糙度的壓印模具，其特征在于:所述鎳凸起結(jié)構(gòu)的寬度范圍為5微米?20微米。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有低表面粗糙度的壓印模具，其特征在于:所述鎳底板的厚度范圍為100微米?250微米。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有低表面粗糙度的壓印模具，其特征在于:所述鎳凸起結(jié)構(gòu)的截面形狀為矩形或者具有O?10度脫模角的梯形。
【專利摘要】本實用新型提供一種具有低表面粗糙度的壓印模具，所述壓印模具為鍍鎳母版，包括鎳底板以及結(jié)合于所述鎳底板表面的多個鎳凸起結(jié)構(gòu)，所述鎳凸起結(jié)構(gòu)的表面及側(cè)面為光潔面。本實用新型在玻璃基底上貼干膜，對干膜進行曝光顯影后電鍍鎳層，得到壓印模具。由于干膜通過光刻、顯影等處理，壓印模具的側(cè)壁光潔度良好，具有非常低表面粗糙度。此外，采用本實用新型制備的壓印模具深度可達10~50μm，大大提高了模具的應(yīng)用范圍，可作為電鑄母版使用。
【IPC分類】G03F7-00
【公開號】CN204331287
【申請?zhí)枴緾N201420873172
【發(fā)明人】徐厚嘉, 楊兆國, 祝連忠, 平財明
【申請人】上海藍沛新材料科技股份有限公司
【公開日】2015年5月13日
【申請日】2014年12月30日