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      一種投影裝置的光路處理裝置及投影裝置的制造方法_2

      文檔序號(hào):8666319閱讀:來(lái)源:國(guó)知局
      向上全部重疊則會(huì)造成承載件的厚度和大小需要特別加工,而本實(shí)用新型的設(shè)計(jì)是使第一部分11和第二部分12在水平方向上“錯(cuò)開(kāi)”,從而降低了鏡片承載件的加工要求,同時(shí)也避免因?yàn)榻饘俨馁|(zhì)承載件太過(guò)于接近而造成電氣干擾的問(wèn)題。
      [0035]在本實(shí)施例中,所述第一部分11中的光路段和第二部分12中的光路段相互不平行,當(dāng)然在其他實(shí)施例中,雖然兩者在水平方向上部分重疊或沒(méi)有重疊,但亦可相互平行設(shè)置,即例如第二部分12在第一部分11的斜上方,兩者的光路段保持平行。
      [0036]本實(shí)用新型的上述實(shí)施例中,通過(guò)反射鏡裝置13的作用,將光束原來(lái)方向改變,掉頭轉(zhuǎn)向后方傾斜向上,不單可以減少光學(xué)引擎的占地面積,還可以使得承托光學(xué)鏡片的金屬件能夠相互錯(cuò)開(kāi)。需說(shuō)明的是,在圖示實(shí)施例中,所述反射鏡裝置13包括兩片反射鏡,但亦可為一片或大于兩片反射鏡,僅需能完成第一部分11至第二部分12的光路送達(dá)即可,并非以圖示實(shí)施例為限。
      [0037]以下舉例說(shuō)明,在一實(shí)施例中,所述反射鏡裝置13包括至少一片反射鏡亦可;在其他實(shí)施例中,也可以是大于兩片,本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)可以根據(jù)本實(shí)用新型的教示加以實(shí)現(xiàn)。
      [0038]在一實(shí)施例中,所述第二部分12,包括:依次設(shè)于所述光路的TIR棱鏡121 (TotalInternal Reflect1n prism,全部?jī)?nèi)反射棱鏡)、及成像顯示器件123 (例如DLP中的DMD);優(yōu)選的,所述第二部分12還包括:位于所述TIR棱鏡121之前接入所述光路的中繼透鏡122。
      [0039]如圖4所示,說(shuō)明第二部分12處理光束的具體實(shí)施原理,光束經(jīng)過(guò)所述中繼透鏡122 (優(yōu)選為非球面)的處理,進(jìn)一步將光束整形成投影裝置所需光斑,不單在光斑形狀上得以處理,且可使得光斑均勻性處理都極佳;光束進(jìn)入TIR棱鏡121后,以Θ I角度入射到TIR棱鏡121內(nèi)部的全反射面Rt,并發(fā)生全反射,使光線(xiàn)全部得以反射,行成光束LI,入射成像顯示器件123,經(jīng)過(guò)成像顯示器件123反射回來(lái)的光束L2,以Θ 2的角度入射全反射面,由于θ 2小于此處的全反射臨界角,所以光束L3會(huì)全部由從Rt面透過(guò),從而出射TIR棱鏡121,進(jìn)入鏡頭(未圖示)。
      [0040]可參考全反射原理:光由光密介質(zhì)進(jìn)入光疏介質(zhì)時(shí),要離開(kāi)法線(xiàn)折射。當(dāng)入射角增加到某種情形,折射線(xiàn)延表面進(jìn)行,即折射角為90°,該入射角稱(chēng)為臨界角。若入射角大于臨界角,則無(wú)折射,全部光線(xiàn)均反回光密介質(zhì),此現(xiàn)象稱(chēng)為全反射。當(dāng)光線(xiàn)由光疏介質(zhì)射到光密介質(zhì)時(shí),因?yàn)楣饩€(xiàn)靠近法線(xiàn)而折射,故這時(shí)不會(huì)發(fā)生全反射。
      [0041]結(jié)合上述內(nèi)容,本實(shí)用新型還可提供一種投影裝置,包括所述的光路處理裝置I。
      [0042]綜上所述,本實(shí)用新型提供一種投影裝置的光路處理裝置及投影裝置,所述光路處理裝置包括設(shè)于同一光路內(nèi)的第一部分、反射鏡裝置、及第二部分;所述第一部分,將輸入的光束處理后輸出;所述第一部分位于所述反射鏡裝置一側(cè)的第一區(qū)域內(nèi);所述反射鏡裝置限制所述第一部分的光束輸出到達(dá)位于所述反射鏡裝置另一側(cè)的第二區(qū)域,并通過(guò)反射將所述第一部分的輸出送至位于所述第一區(qū)域內(nèi)的所述第二部分,以供所述第二部分進(jìn)行成像;其中,所述第一部分及第二部分間相對(duì)位置設(shè)置為:在所述第一部分中的光路段位于水平平面內(nèi)時(shí),所述第二部分中的光路段不在所述水平平面內(nèi);使得投影裝置的光學(xué)引擎占用平面的面積大為減少,而且可以讓承托光學(xué)鏡片的金屬件能夠相互錯(cuò)開(kāi),使產(chǎn)品內(nèi)部完全緊湊地靠在一起,進(jìn)而將產(chǎn)品體積最小化。
      [0043]上述實(shí)施例僅例示性說(shuō)明本實(shí)用新型的原理及其功效,而非用于限制本實(shí)用新型。任何熟悉此技術(shù)的人士皆可在不違背本實(shí)用新型的精神及范疇下,對(duì)上述實(shí)施例進(jìn)行修飾或改變。因此,舉凡所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者在未脫離本實(shí)用新型所揭示的精神與技術(shù)思想下所完成的一切等效修飾或改變,仍應(yīng)由本實(shí)用新型的權(quán)利要求所涵蓋。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種投影裝置的光路處理裝置,其特征在于,包括:設(shè)于同一光路內(nèi)的第一部分、反射鏡裝置、及第二部分; 所述第一部分,將輸入的光束處理后輸出; 所述第一部分位于所述反射鏡裝置一側(cè)的第一區(qū)域內(nèi);所述反射鏡裝置限制所述第一部分的光束輸出到達(dá)位于所述反射鏡裝置另一側(cè)的第二區(qū)域,并通過(guò)反射將所述第一部分的輸出送至位于所述第一區(qū)域內(nèi)的所述第二部分,以供所述第二部分進(jìn)行成像; 其中,所述第一部分及第二部分間相對(duì)位置設(shè)置為:在所述第一部分中的光路段位于一平面內(nèi)時(shí),所述第二部分中的光路段不在所述平面內(nèi),以使所述第一部分及第二部分在所述平面中的各方向上部分重疊或無(wú)重疊。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光路處理裝置,其特征在于,所述第二部分位于第一部分的斜上方。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光路處理裝置,其特征在于,所述第一部分中的光路段和第二部分中的光路段相互不平行。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光路處理裝置,其特征在于,所述第一部分,包括:接入所述光路的光積分柱、及至少一整形透鏡。
      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光路處理裝置,其特征在于,所述整形透鏡為多個(gè);各所述整形透鏡為凸透鏡。
      6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光路處理裝置,其特征在于,所述整形透鏡為至少三個(gè),包括:在所述光路中位于所述光積分柱之后的兩個(gè)平凸透鏡及一個(gè)雙凸透鏡。
      7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光路處理裝置,其特征在于,所述反射鏡裝置包括至少一片反射鏡。
      8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光路處理裝置,其特征在于,所述第二部分,包括:TIR棱鏡、及成像顯示器件。
      9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光路處理裝置,其特征在于,所述第二部分還包括:在所述光路中位于所述TIR棱鏡之前的中繼透鏡。
      10.一種投影裝置,其特征在于,包括如權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的光路處理裝置。
      【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型提供一種投影裝置的光路處理裝置及投影裝置,光路處理裝置包括設(shè)于同一光路內(nèi)的第一部分、反射鏡裝置、及第二部分;第一部分,將輸入的光束處理后輸出;第一部分位于反射鏡裝置一側(cè)的第一區(qū)域內(nèi);反射鏡裝置限制第一部分的光束輸出到達(dá)位于反射鏡裝置另一側(cè)的第二區(qū)域,并通過(guò)反射將第一部分的輸出送至位于第一區(qū)域內(nèi)的第二部分,以供第二部分進(jìn)行成像;其中,第一部分及第二部分間相對(duì)位置設(shè)置為:在第一部分中的光路段位于水平平面內(nèi)時(shí),第二部分中的光路段不在水平平面內(nèi);使得投影裝置的光學(xué)引擎占用平面的面積大為減少,而且可以讓承托光學(xué)鏡片的金屬件能夠相互錯(cuò)開(kāi),使產(chǎn)品內(nèi)部完全緊湊地靠在一起,進(jìn)而將產(chǎn)品體積最小化。
      【IPC分類(lèi)】G03B21-20, G02B17-08
      【公開(kāi)號(hào)】CN204374587
      【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520040451
      【發(fā)明人】朱夢(mèng)賢, 林明德
      【申請(qǐng)人】無(wú)錫視美樂(lè)激光顯示科技有限公司
      【公開(kāi)日】2015年6月3日
      【申請(qǐng)日】2015年1月20日
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