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      玫瑰金色三銀低輻射鍍膜玻璃的制作方法

      文檔序號(hào):11087682閱讀:1414來(lái)源:國(guó)知局
      玫瑰金色三銀低輻射鍍膜玻璃的制造方法與工藝

      本實(shí)用新型屬于低輻射鍍膜玻璃技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種玫瑰金色三銀低輻射鍍膜玻璃。



      背景技術(shù):

      低輻射鍍膜玻璃是在玻璃表面鍍上可以反射熱紅外譜段光線的薄膜材料單質(zhì)銀層,以達(dá)到減少熱紅外傳播、從而降低玻璃熱輻射率、降低熱損耗目的一種玻璃。

      但是單質(zhì)銀層長(zhǎng)時(shí)間曝露在空氣中很容易造成氧化及硫化,會(huì)嚴(yán)重影響鍍膜產(chǎn)品的性能。為了防止類似問(wèn)題的產(chǎn)生,在膜層設(shè)計(jì)時(shí)需要在銀層前、后鍍上起到保護(hù)作用的復(fù)合電介質(zhì)層或保護(hù)層以穩(wěn)定產(chǎn)品的性能,同時(shí)起到調(diào)節(jié)產(chǎn)品顏色的作用。

      目前市場(chǎng)上的低輻射鍍膜玻璃主要有單銀低輻射鍍膜玻璃、雙銀低輻射鍍膜玻璃兩大類。由于低輻射膜層中含有導(dǎo)電性能優(yōu)異的銀層,所以低輻射膜層的面電阻較低,而輻射率ε與面電阻R□滿足公式:ε=0.0106R□,膜層的面電阻越低,輻射率也就越低,對(duì)紅外熱的反射就越高,隔熱性能就越好。但是在滿足顏色需求及透過(guò)性能的前提下單銀和雙銀低輻射鍍膜玻璃的熱學(xué)性能提高空間已顯得不是太大,三銀鍍膜玻璃也就應(yīng)運(yùn)而生。

      相比單銀和雙銀鍍膜玻璃,三銀鍍膜玻璃具有更低的U值(一般在1.60-1.65之間),其在降低熱損耗方面具有更強(qiáng)的優(yōu)勢(shì),符合國(guó)家節(jié)能降耗的政策向?qū)?。因此,在市?chǎng)競(jìng)爭(zhēng)中具有更強(qiáng)的生命力。并且隨著國(guó)家節(jié)能減排政策的執(zhí)行力度加大以及人們對(duì)低碳環(huán)保意識(shí)的加強(qiáng),以低輻射鍍膜玻璃為代表的節(jié)能玻璃在門窗、玻璃幕墻中的應(yīng)用越來(lái)越廣泛。低輻射鍍膜玻璃家族中,節(jié)能性能優(yōu)異的三銀低輻射鍍膜玻璃受到了越來(lái)越多的關(guān)注,相信在不久的將來(lái)將占有極大的市場(chǎng)份額。

      但是,三銀低輻射鍍膜玻璃在顏色多樣性方面仍然不能滿足市場(chǎng)的需求,用戶可選擇性少。為此,我公司提出了一種新的三銀低輻射鍍膜玻璃結(jié)構(gòu)。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      針對(duì)目前三銀低輻射鍍膜玻璃顏色多樣性不足等問(wèn)題,本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種玫瑰金色三銀低輻射鍍膜玻璃。

      為了實(shí)現(xiàn)上述實(shí)用新型目的,本實(shí)用新型實(shí)施例的技術(shù)方案如下:

      一種玫瑰金色三銀低輻射鍍膜玻璃,所述玻璃包括玻璃基板、以及自所述玻璃基板一表面向外依次疊設(shè)的第一電介質(zhì)膜層、第二電介質(zhì)膜層、第一銀膜層、第一銅膜層、第一保護(hù)膜層、第一復(fù)合電介質(zhì)膜層、第二銀膜層、第二銅膜層、第二保護(hù)膜層、第二復(fù)合電介質(zhì)膜層、第三銀膜層、第三保護(hù)膜層、第三電介質(zhì)膜層和第四電介質(zhì)膜層。

      優(yōu)選地,所述第一電介質(zhì)膜層和/或第四電介質(zhì)膜層為Si3N4膜層、SiOxNy膜層、SiAlNx膜層、SiAlOxNy膜層中的任一種。

      優(yōu)選地,所述第二電介質(zhì)膜層和/或第三電介質(zhì)膜層為氧化銦錫層、鋁摻雜氧化鋅膜層中的任一種。

      優(yōu)選地,所述第一復(fù)合電介質(zhì)膜層和/或第二復(fù)合電介質(zhì)膜層為SiAlOx膜層、ZnAlOx膜層、ZnSnxOy膜層、ZnOx膜層、SnOx膜層、TiO2膜層中的至少兩個(gè)單層疊加構(gòu)成。

      優(yōu)選地,所述第一保護(hù)膜層和/或第二保護(hù)膜層和/或第三保護(hù)膜層為氧化鎳膜層、氮化鎳膜層、鎳鉻氧化物膜層或鎳鉻氮化物膜層中的任一種。

      優(yōu)選地,所述第一銀膜層和/或第二銀膜層和/或第三銀膜層的厚度為1~15nm。

      優(yōu)選地,所述第一銅膜層和/或第二銅膜層的厚度為1~10nm。

      優(yōu)選地,所述第一電介質(zhì)膜層的厚度為10nm~50nm;和/或

      所述第二電介質(zhì)膜層的厚度為10nm~30nm;和/或

      所述第一保護(hù)膜層的厚度為1~10nm;和/或

      所述第一復(fù)合電介質(zhì)膜層的厚度為20nm~60nm;和/或

      所述第二保護(hù)膜層的厚度為1nm~10nm;和/或

      所述第二復(fù)合電介質(zhì)膜層的厚度為20nm~60nm;和/或

      所述第三保護(hù)膜層的厚度為1nm~10nm;和/或

      所述第三電介質(zhì)膜層的厚度為10nm~30nm;和/或

      所述第四電介質(zhì)膜層的厚度為10nm~50nm。

      優(yōu)選地,所述玻璃基板為普通鈉鈣硅浮法玻璃,所述玻璃基板的厚度為6~20mm。

      上述實(shí)施例中的玫瑰金色三銀低輻射鍍膜玻璃,采用復(fù)合膜層結(jié)構(gòu),從而實(shí)現(xiàn)了三銀低輻射鍍膜玻璃呈現(xiàn)出玫瑰金色的顏色,U值為1.64,光熱比LSG為1.91,對(duì)顏色變化不敏感,便于產(chǎn)品調(diào)試生產(chǎn)以及控制批次之間的顏色,呈現(xiàn)出了良好的熱學(xué)和光學(xué)穩(wěn)定性。

      附圖說(shuō)明

      下面將結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明,附圖中:

      圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例中玫瑰金色三銀低輻射鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖。

      具體實(shí)施方式

      為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白,以下結(jié)合附圖及實(shí)施例,對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解,此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型,并不用于限定本實(shí)用新型。

      如圖1所示,本實(shí)用新型實(shí)例提供了一種玫瑰金色三銀低輻射鍍膜玻璃。所述玫瑰金色三銀低輻射鍍膜玻璃包括第一玻璃基板1、以及自所述第一玻璃基板1一表面向外依次疊設(shè)的第一電介質(zhì)膜層2、第二電介質(zhì)膜層3、第一銀膜層4、第一銅膜層5、第一保護(hù)膜層6、第一復(fù)合電介質(zhì)膜層7、第二銀膜層8、第二銅膜層9、第二保護(hù)膜層10、第二復(fù)合電介質(zhì)膜層11、第三銀膜層12、第三保護(hù)膜層13、第三電介質(zhì)膜層14和第四電介質(zhì)膜層15。

      在一優(yōu)選實(shí)施例中,玻璃基板1為6~20mm的普通鈉鈣硅浮法玻璃。采用該種玻璃基板一方面可降低生產(chǎn)的成本,另一方面能提高生產(chǎn)效率。

      優(yōu)選地,第一電介質(zhì)膜層2的厚度為10nm~50nm。

      進(jìn)一步優(yōu)選地,第一電介質(zhì)膜層2為Si3N4膜層、SiOxNy膜層、SiAlNx膜層、SiAlOxNy膜層中的任一種。第一電介質(zhì)膜層2起到玻璃與膜層的粘結(jié)過(guò)渡作用,并具有一定的吸收作用。

      優(yōu)選地,第二電介質(zhì)膜層3的厚度為10nm~30nm。

      進(jìn)一步優(yōu)選地,第二電介質(zhì)膜層3為氧化銦錫層、鋁摻雜氧化鋅膜層中的任一種。第二電介質(zhì)膜層3起到膜層的過(guò)渡粘結(jié)并且提高導(dǎo)電率,增加膜層對(duì)紅外線的反射作用。

      優(yōu)選地,第一銀膜層4的厚度為3nm~30nm;第一銀膜層4具有起到反射紅外線,降低玻璃輻射率的作用。

      在優(yōu)選的方案中,第一銀膜層4為純度不低于99.99%的金屬銀層,或者銀的含氧膜層。

      優(yōu)選地,第一銅膜層5的厚度為1~10nm;該銅膜層5可起到反射紅外線,降低玻璃輻射率,并且調(diào)節(jié)玻璃顏色的作用。銅膜層純度不低于99.99%的金屬銅層。

      優(yōu)選地,第一保護(hù)膜層6的厚度為1~10nm;第一保護(hù)膜層6具有保護(hù)紅外線反射層不被氧化且增加吸收的作用。

      進(jìn)一步優(yōu)選地,第一保護(hù)膜層6為氧化鎳膜層、氮化鎳膜層、鎳鉻氧化物膜層或鎳鉻氮化物膜層中的任一種。第一保護(hù)膜層6主要起保護(hù)紅外線反射層不被氧化且增加吸收的作用。

      優(yōu)選地,第一復(fù)合電介質(zhì)膜層7的厚度為20nm~60nm。

      進(jìn)一步優(yōu)選地,第一復(fù)合電介質(zhì)膜層7為SiAlOx膜層、ZnAlOx膜層、ZnSnxOy膜層、ZnOx膜層、SnOx膜層、TiO2膜層中的至少兩個(gè)單層疊加構(gòu)成。該第一復(fù)合電介質(zhì)膜層7起到膜層的過(guò)渡粘結(jié)并且提高導(dǎo)電率,增加膜層對(duì)紅外線反射的作用。

      優(yōu)選地,第二銀膜層8的厚度為3nm~30nm,第二銀膜層8起到反射紅外線,降低玻璃輻射率的作用。

      在優(yōu)選的方案中,第二銀膜層8為純度不低于99.99%的金屬銀層,或者銀的含氧膜層。

      優(yōu)選地,第二銅膜層9的厚度為1~10nm;在膜層結(jié)構(gòu)中,第二銅膜層9起到反射紅外線,降低玻璃輻射率,并且調(diào)節(jié)玻璃顏色的作用。銅膜層純度不低于99.99%的金屬銅層。

      優(yōu)選地,第二保護(hù)膜層10的厚度為1~10nm。

      進(jìn)一步優(yōu)選地,第二保護(hù)膜層10為氧化鎳膜層、氮化鎳膜層、鎳鉻氧化物膜層或鎳鉻氮化物膜層中的任一種。第二保護(hù)膜層10有保護(hù)銀層不被氧化且增加吸收的作用。

      優(yōu)選地,第二復(fù)合電介質(zhì)膜層11的厚度為20nm~60nm。

      進(jìn)一步優(yōu)選地,第二復(fù)合電介質(zhì)膜層11為SiAlOx膜層、ZnAlOx膜層、ZnSnxOy膜層、ZnOx膜層、SnOx膜層、TiO2膜層中的至少兩個(gè)單層疊加構(gòu)成。第二復(fù)合電介質(zhì)膜層11在膜層結(jié)構(gòu)中起到膜層的過(guò)渡粘結(jié)并且提高導(dǎo)電率,增加膜層對(duì)紅外線反射的效果。

      優(yōu)選地,第三銀膜層12的厚度為3nm~30nm,起到反射紅外線,降低玻璃輻射率的作用。

      在優(yōu)選的方案中,第三銀膜層12為純度不低于99.99%的金屬銀層,或者銀的含氧膜層。

      優(yōu)選地,第三保護(hù)膜層13的厚度為1~10nm。

      進(jìn)一步優(yōu)選地,第三保護(hù)膜層13為氧化鎳膜層、氮化鎳膜層、鎳鉻氧化物膜層或鎳鉻氮化物膜層中的任一種。第三保護(hù)膜層13主要保護(hù)銀層不被氧化且增加吸收。

      優(yōu)選地,第三電介質(zhì)膜層14的厚度為10nm~30nm。

      進(jìn)一步優(yōu)選地,第三電介質(zhì)膜層14為氧化銦錫層、鋁摻雜氧化鋅膜層中的任一種;該第三電介質(zhì)膜層14起到調(diào)節(jié)產(chǎn)品透光率,且保證膜面質(zhì)量的作用。

      優(yōu)選地,第四電介質(zhì)膜層15的厚度為10nm~50nm。

      進(jìn)一步優(yōu)選地,第四電介質(zhì)膜層15為為Si3N4膜層、SiOxNy膜層、SiAlNx膜層、SiAlOxNy膜層中的任一種。第四電介質(zhì)膜層15具有提高膜面的抗劃傷性能,保護(hù)膜層不被外界因素侵蝕的作用。

      通過(guò)上述復(fù)合膜層結(jié)構(gòu)及各個(gè)膜層厚度的限定,制備的三銀低輻射鍍膜玻璃,透過(guò)色呈現(xiàn)玫瑰金色。U值為1.64,光熱比LSG為1.91,對(duì)顏色變化不敏感,便于產(chǎn)品調(diào)試生產(chǎn)以及控制批次之間的顏色,呈現(xiàn)出了良好的熱學(xué)和光學(xué)穩(wěn)定性。實(shí)現(xiàn)了三銀低輻射鍍膜玻璃顏色的多樣性,為用戶提供了更多的可選玻璃。

      相應(yīng)地,在上文所述的玫瑰金色三銀低輻射鍍膜玻璃的基礎(chǔ)上,本實(shí)用新型實(shí)施例還提供了本實(shí)用新型實(shí)施例玫瑰金色三銀低輻射鍍膜玻璃的一種制造方法。

      作為本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例,該玫瑰金色三銀低輻射鍍膜玻璃的制造方法包括如下步驟:

      清洗玻璃基板1;

      將所述潔凈的玻璃基板1置于真空鍍膜設(shè)備中,反復(fù)抽真空直至本底真空度達(dá)到1~3×10-6bar;

      在潔凈的玻璃基板1的一表面向外依次鍍覆第一電介質(zhì)膜層2、第二電介質(zhì)膜層3、第一銀膜層4、第一銅膜層5、第一保護(hù)膜層6、第一復(fù)合電介質(zhì)膜層7、第二銀膜層8、第二銅膜層9、第二保護(hù)膜層10、第二復(fù)合電介質(zhì)膜層11、第三銀膜層12、第三保護(hù)膜層13、第三電介質(zhì)膜層14和第四電介質(zhì)膜層15。

      其中,鍍制第一電介質(zhì)膜層2和第四電介質(zhì)膜層15的材料為Si的氮化物或者氮氧化物,或者Si含量不低于80%的Si、Al合金的氮化物或氮氧化物膜層時(shí),采用的是Si、Al合金的靶材,40KHz交流電源模式,工藝氣氛為氬氮混合氣體或者氬氣、氮?dú)夂脱鯕獾幕旌蠚怏w。

      鍍制第二電介質(zhì)膜層3和第三電介質(zhì)膜層14的材料為氧化銦錫或鋁摻雜氧化鋅,采用的是ITO或AZO靶材,40KHz交流或直流電源模式,工藝氣氛為氬氣和氧氣的混合氣體。

      鍍制第一復(fù)合電介質(zhì)膜層7和第二復(fù)合電介質(zhì)膜層11時(shí)采用35KHz交流電源模式,工作氣體為氬氣和氧氣混合氣體。

      鍍制第一銀膜層4、第二銀膜層8和第三銀膜層12時(shí)采用純度為99.99%的金屬平面靶,直流電源模式,工藝氣體為純氬氣或者氬氧混合氣體。

      鍍制第一銅膜層5和第二銅膜層9時(shí)采用純度為99.99%的金屬平面靶,直流電源模式,工藝氣體為純氬氣。

      鍍制第一保護(hù)膜層6、第二保護(hù)膜層10或和第三保護(hù)膜層13氧化鎳、氮化鎳,或者鎳含量不低于80%的鎳鉻合金氧化物或者氮化物膜層時(shí),采用的是純度為99.99%鎳金屬平面靶或者鎳含量不低于80%的鎳鉻合金平面靶,工藝氣氛為純氬氣或者氬氧混合氣體。

      更進(jìn)一步地,鍍制SiAlOx膜層時(shí)可采用SiAl合金靶材;鍍制ZnAlOx膜層時(shí)可采用ZnAl合金靶材;鍍制ZnSnxOy膜層時(shí)可采用ZnSn合金靶材;鍍制ZnOx膜層時(shí),可采用ZnOx靶材;鍍制SnOx膜層時(shí),可采用SnOx靶材;鍍制TiO2膜層時(shí)可采用TiO2靶材。

      具體地,玻璃基板1采用Benteler清洗機(jī)進(jìn)行清洗,去除玻璃基板1表面的有機(jī)污染物質(zhì)。

      本實(shí)用新型實(shí)施例玫瑰金色三銀低輻射鍍膜玻璃的制造方法工序簡(jiǎn)單、生產(chǎn)效率高、生產(chǎn)成本低,結(jié)構(gòu)牢固、緊湊,產(chǎn)品性能滿足人們對(duì)玫瑰金色三銀低輻射鍍膜玻璃的需求。

      為了更好的說(shuō)明本實(shí)用新型,現(xiàn)進(jìn)一步通過(guò)實(shí)施例說(shuō)明該玫瑰金色三銀低輻射鍍膜玻璃的制作過(guò)程。

      實(shí)施例1

      清洗厚度為6mm普通鈉鈣硅浮法玻璃,以作玻璃基板用。

      在玻璃基板1的一表面向外依次為:第一電介質(zhì)膜層2、第二電介質(zhì)膜層3、第一銀膜層4、第一銅膜層5、第一保膜護(hù)層6、第一復(fù)合電介質(zhì)膜層7、第二銀膜層8、第二銅膜層9、第二保護(hù)膜層10、第二復(fù)合電介質(zhì)膜層11、第三銀膜層12、第三保護(hù)膜層13、第三電介質(zhì)膜層14與第四電介質(zhì)膜層15。

      具體地,按照上述鍍制順序,各層的鍍制工藝如下表1所示:

      表1鍍膜工藝

      上述膜層由玻璃基板1向外:

      第一電介質(zhì)膜層2為SiAlOxNy層,厚度為35nm;

      第二電介質(zhì)膜層3為AZO層,厚度為20nm;

      第一銀膜層4為金屬銀,其厚度為5nm;

      第一銅膜層5為金屬銅,厚度為10nm;

      第一保護(hù)膜層6為NiCrOx,厚度為5nm;

      第一復(fù)合電介質(zhì)膜層7為ZnAlOx/SiAlNx/ZnAlOx復(fù)合結(jié)構(gòu);具體是在第一保護(hù)膜層6上依次設(shè)有ZnAlOx層、SiAlNx層和ZnAlOx層,ZnAlOx層、SiAlNx層和ZnAlOx層,總厚度為40nm;

      第二銀膜層8為金屬銀,其厚度為4nm;

      第二銅膜層9為金屬銅,厚度為5nm;

      第二保護(hù)層為NiCrOx,厚度為5nm;

      第二復(fù)合電介質(zhì)膜層11為ZnAlOx/SiAlNx/ZnAlOx復(fù)合結(jié)構(gòu);具體是在第二保護(hù)層上依次設(shè)有ZnAlOx層、SiAlNx層和ZnAlOx層,ZnAlOx層、SiAlNx層和ZnAlOx層,總厚度均為40nm;

      第三銀膜層12為金屬銀,其厚度為14nm;

      第三保護(hù)層13為NiCrOx,厚度為4nm;

      第三電介質(zhì)膜層14為AZO層,其厚度為15nm;

      第四電介質(zhì)膜層15為Si3N4,其厚度為30nm。

      通過(guò)上述方法得到的三銀低輻射鍍膜玻璃中玻璃面反射值Rg=15.01,反射亮度Rg L=45.65,反射顏色Rg a*=15.13,Rg b*=7.05;鍍膜面反射值Rf=6.14,鍍膜面亮度Rf L=29.75,鍍膜面顏色Rf a*=2.63,Rg b*=13.20;透過(guò)值Tr=36.78,透過(guò)亮度Tr L=67.11,透過(guò)顏色Tr a*=-0.12,Tr b*=-1.58;面電阻為1.4。傳熱系數(shù)U值為1.64,光熱比LSG為1.91。

      本實(shí)用新型實(shí)施例提供的玫瑰金三銀低輻射鍍膜玻璃,不僅外觀呈玫瑰金色,解決了三銀低輻射鍍膜玻璃顏色多樣性的問(wèn)題,有利于客戶使用體驗(yàn),在膜面反射及顏色上避免了晚上由于室內(nèi)亮度大于室外,鍍膜面反射過(guò)高使光線反射強(qiáng)烈而無(wú)法觀察到室外的情況發(fā)生,以及針對(duì)特意調(diào)整透過(guò)顏色使其中性,避免出現(xiàn)因透過(guò)玻璃觀察事物而導(dǎo)致的物體顏色失真。

      以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已,并不用以限制本實(shí)用新型,凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等,均應(yīng)包括在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。

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