本發(fā)明涉及光學(xué)材料激光預(yù)處理領(lǐng)域，具體而言，涉及一種光學(xué)元件激光預(yù)處理系統(tǒng)。

背景技術(shù)：
為了提高光學(xué)元件的激光損傷性能，通常在元件上架之前，用低于損傷閾值的激光能量對(duì)元件通光區(qū)域進(jìn)行激光預(yù)處理，即用激光光束對(duì)光學(xué)元件進(jìn)行輻照。通過激光預(yù)處理，元件損傷閾值最高可提升1到2倍，如此大幅度的損傷性能提升對(duì)于光學(xué)元件的應(yīng)用來說具有重要意義，目前，激光預(yù)處理已成為高功率激光系統(tǒng)光學(xué)元件上架前的必要步驟。預(yù)處理過程中，激光脈沖的輻照通量需要從低到高逐漸增加，以避免元件可能出現(xiàn)的激光損傷。影響激光預(yù)處理效果的關(guān)鍵參數(shù)有：初始輻照通量、輻照通量增加幅度、每個(gè)通量下對(duì)元件的輻照發(fā)次、最高輻照通量。大量研究表明，輻照通量增幅(能量臺(tái)階)越小、元件被輻照發(fā)次(遍數(shù))越多、最大輻照通量越高(不發(fā)生損傷的前提下)，預(yù)處理效果就越好。所以，為了獲得好的預(yù)處理效果，需要用盡可能小的能量臺(tái)階對(duì)元件進(jìn)行多發(fā)次的輻照。而激光系統(tǒng)中的元件口徑可達(dá)幾百毫米，要處理完一塊元件，需要輻照的發(fā)次是相當(dāng)可觀的。如此多的輻照發(fā)次不僅耗時(shí)耗力，對(duì)于激光器的消耗也會(huì)使運(yùn)行成本增加。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種光學(xué)元件激光預(yù)處理系統(tǒng)，以改善上述問題。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明實(shí)施例采用的技術(shù)方案如下：第一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種光學(xué)元件激光預(yù)處理系統(tǒng)，包括光源裝置、檢偏器及反射裝置，待處理樣品設(shè)置在所述檢偏器及所述反射裝置之間的光傳播路徑中。所述光源裝置輸出的預(yù)處理激光光束入射到所述檢偏器，透過所述檢偏器的預(yù)處理激光光束入射至所述待處理樣品的預(yù)設(shè)處理點(diǎn)，透過所述待處理樣品的預(yù)處理激光光束經(jīng)所述反射裝置反射后再次入射至所述待處理樣品的預(yù)設(shè)處理點(diǎn)，透過所述待處理樣品的預(yù)處理激光光束經(jīng)所述檢偏器出射。結(jié)合第一方面，本發(fā)明還提供了第一方面的第一種可能實(shí)施方式，其中，所述光學(xué)元件激光預(yù)處理系統(tǒng)還包括偏振旋轉(zhuǎn)器，所述偏振旋轉(zhuǎn)器設(shè)置在所述檢偏器與所述待處理樣品之間。所述偏振旋轉(zhuǎn)器用于將每次射入的預(yù)處理激光光束的偏振態(tài)在線偏振光與圓偏振光之間轉(zhuǎn)換，直至由所述偏振旋轉(zhuǎn)器入射到所述檢偏器的預(yù)處理激光光束的偏振方向與所述檢偏器的透振方向平行。結(jié)合第一方面或第一方面的第一種可能實(shí)施方式，本發(fā)明還提供了第一方面的第二種可能實(shí)施方式，其中，所述光學(xué)元件激光預(yù)處理系統(tǒng)還包括用于調(diào)節(jié)所述待處理樣品的位置的平移臺(tái)，所述待處理樣品設(shè)置在所述平移臺(tái)上。結(jié)合第一方面的第二種可能實(shí)施方式，本發(fā)明還提供了第一方面的第三種可能實(shí)施方式，其中，所述平移臺(tái)的調(diào)節(jié)步長(zhǎng)小于或等于入射到待處理樣品的預(yù)處理激光光斑直徑的預(yù)設(shè)倍數(shù)。結(jié)合第一方面的第三種可能實(shí)施方式，本發(fā)明還提供了第一方面的第四種可能實(shí)施方式，其中，所述預(yù)設(shè)倍數(shù)為結(jié)合第一方面的第二種可能實(shí)施方式，本發(fā)明還提供了第一方面的第五種可能實(shí)施方式，其中，所述平移臺(tái)為二維電動(dòng)平移臺(tái)。結(jié)合第一方面，本發(fā)明還提供了第一方面的第六種可能實(shí)施方式，其中，所述光源裝置包括激光器和光準(zhǔn)直器，所述激光器發(fā)出的預(yù)處理激光光束經(jīng)所述光準(zhǔn)直器準(zhǔn)直后入射到所述檢偏器。結(jié)合第一方面，本發(fā)明還提供了第一方面的第七種可能實(shí)施方式，其中，所述光學(xué)元件激光預(yù)處理系統(tǒng)還包括偏振旋轉(zhuǎn)器，所述偏振旋轉(zhuǎn)器設(shè)置在所述待處理樣品與所述反射裝置之間，所述偏振旋轉(zhuǎn)器用于將每次射入的預(yù)處理激光光束的偏振態(tài)在線偏振光與圓偏振光之間轉(zhuǎn)換，直至由所述偏振旋轉(zhuǎn)器入射到所述待處理樣品的預(yù)設(shè)處理點(diǎn)的預(yù)處理激光光束的偏振方向與所述檢偏器的透振方向平行。結(jié)合第一方面，本發(fā)明還提供了第一方面的第八種可能實(shí)施方式，其中，所述反射裝置為激光高反鏡。結(jié)合第一方面，本發(fā)明還提供了第一方面的第九種可能實(shí)施方式，其中，所述光學(xué)元件激光預(yù)處理系統(tǒng)還包括激光光束吸收裝置，所述激光光束吸收裝置設(shè)置于所述檢偏器的靠近所述光源裝置的一側(cè)。本發(fā)明實(shí)施例提供的光學(xué)元件激光預(yù)處理系統(tǒng)通過設(shè)計(jì)檢偏器及反射裝置，使得預(yù)處理激光光束兩次透過待處理樣品，每一次透過待處理樣品時(shí)均對(duì)待處理樣品正面的第一預(yù)設(shè)處理點(diǎn)、待處理樣品背面的第二預(yù)設(shè)處理點(diǎn)以及待處理樣品內(nèi)部相應(yīng)的第一預(yù)設(shè)處理點(diǎn)和第二預(yù)設(shè)處理點(diǎn)之間預(yù)處理激光光束經(jīng)過的區(qū)域進(jìn)行激光預(yù)處理，有效地提高了光學(xué)元件的激光預(yù)處理效率，降低了光學(xué)元件激光預(yù)處理的成本。此外，本發(fā)明實(shí)施例在檢偏器及反射裝置的基礎(chǔ)上還增設(shè)了偏振旋轉(zhuǎn)器，使得預(yù)處理激光光束四次透過待處理樣品，進(jìn)一步提高了光學(xué)元件的激光預(yù)處理效率。本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的說明書闡述，并且，部分地從說明書中變得顯而易見，或者通過實(shí)施本發(fā)明實(shí)施例而了解。本發(fā)明的目的和其他優(yōu)點(diǎn)可通過在所寫的說明書、權(quán)利要求書、以及附圖中所特別指出的結(jié)構(gòu)來實(shí)現(xiàn)和獲得。附圖說明為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。通過附圖所示，本發(fā)明的上述及其它目的、特征和優(yōu)勢(shì)將更加清晰。在全部附圖中相同的附圖標(biāo)記指示相同的部分。并未刻意按實(shí)際尺寸等比例縮放繪制附圖，重點(diǎn)在于示出本發(fā)明的主旨。圖1示出了本發(fā)明實(shí)施例提供的一種光學(xué)元件激光預(yù)處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2示出了本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種光學(xué)元件激光預(yù)處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3示出了本發(fā)明實(shí)施例提供的第三種光學(xué)元件激光預(yù)處理系...