本發(fā)明涉及鐳射校正領(lǐng)域，尤指一種鐳射校正方法。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有技術(shù)如中國專利申請?zhí)?01010180176.1公開一種鐳射打標的校正方法包括：計算需要標記的圖形中每一點的位置信息，也就是根據(jù)需要標記的圖形中每個點的坐標計算出其處于方格坐標網(wǎng)格的哪個方格中，并得到該方格的4個頂點的坐標及補償值。然后計算需要標記的圖形中每個點的校正值，該校正值指鐳射打標時需要對鐳射打標系統(tǒng)中的振鏡偏轉(zhuǎn)角度進行校正面施加的控制振鏡偏轉(zhuǎn)的電壓值，主要根據(jù)需要標記的圖形中每個點的位置信息和補償值算出。然后根據(jù)所述校正值對每個點進行校正。校正完成后鐳射打標系統(tǒng)根據(jù)校正結(jié)果進行標記。

但是，這種現(xiàn)有技術(shù)需要計算每一點的校正值，然后再對每一點進行校正，校正后又必須檢視校正點的位置，若校正點與圖形的每一點仍有誤差，則必須繼續(xù)校正，直到校正到與圖形的每一點相符合，才能結(jié)束校正程序，如此將使整個校正時間增長，并使生產(chǎn)效率不佳。

因此，如何達到快速校正，且提高校正精度為本領(lǐng)域技術(shù)人員所要努力的方向。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

因此，為有效解決上述的問題，本發(fā)明的目的在于提供一種鐳射校正方法，減少傳統(tǒng)方式下對人力和時間的消耗，提高生產(chǎn)效率，并且確保校正的精度。

為達上述目的，本發(fā)明提供一種鐳射校正方法，包括如下步驟：S01：提供一校正片，該校正片具有一格子矩陣；S02：通過至少一視覺檢測器識別該格子矩陣的其中至少一起始校正格的一坐標位置；S03：通過至少一鐳射源在該起始校正格內(nèi)留下一鐳射打點，并以該視覺檢測器檢測該鐳射打點取得一起始校正格誤差值；S04：以該起始校正格的坐標位置為一工作中心，將該格子矩陣分為多階環(huán)路，每一階環(huán)路包括多個對角校正格及多個中央校正格；S05：通過該視覺檢測器及該鐳射源對該多階環(huán)路進行校正，其中，該視覺檢測器檢測每一階環(huán)路的對角校正格內(nèi)分別留下的一鐳射打點位置以取得該對角校正格的一誤差值作為同一階環(huán)路的中央校正格的一鐳射補償值及下一階環(huán)路的對角校正格的一鐳射補償值。

在一實施例中，該格子矩陣包括多個校正格，為列與行排列，且每一校正格具有一坐標位置及一基準點，該坐標位置標示在每一校正格內(nèi)，該基準點位于每一校正格的一網(wǎng)格線上。

在一實施例中，該基準點為該校正格的一頂點，該視覺檢測器根據(jù)每一校正格的坐標位置及其基準點取得每一校正格的一中心位置。

在一實施例中，該視覺檢測器檢測該起始校正格的中心位置及該鐳射打點的位置，得到該起始校正格誤差值。

在一實施例中，該鐳射源在每一階環(huán)路的中央校正格內(nèi)留下一鐳射打點。

在一實施例中，該中央校正格的鐳射補償值為同一階環(huán)路中兩個對角校正格誤差值的平均值。

在一實施例中，該鐳射源在同一階環(huán)路的剩余校正格留下一鐳射打點。

在一實施例中，該剩余校正格位于對角校正格與該中央校正格之間。

在一實施例中，該剩余校正格的鐳射補償值為該對角校正格的誤差值與該中央校正格的誤差值的一平均值。

在一實施例中，該鐳射打點位置落在任一校正格的一網(wǎng)格線上，則加上或減少一修正值，該修正值為1/2校正格尺寸。

在一實施例中，該剩余校正格毗鄰在任兩個同一列或同一行排列且有鐳射打點的校正格之間。

在一實施例中，該剩余校正格的鐳射補償值為該任兩個校正格的誤差值的一平均值。

在一實施例中，該每一階環(huán)路的對角校正格的鐳射打點位置為該對角校正格的坐標位置加上該對角補償值。

在一實施例中，該多階環(huán)路中的一第一階環(huán)路的對角校正格的鐳射補償值為該起始校正格誤差值。

在一實施例中，其中，該視覺檢測器及該鐳射源依序?qū)σ浑A環(huán)路校正后再進行下一階環(huán)路校正。

附圖說明

圖1A：本發(fā)明的鐳射設(shè)備立體示意圖；

圖1B：本發(fā)明的鐳射設(shè)備的正視圖；

圖1C：本發(fā)明的鐳射設(shè)備的側(cè)視圖；

圖2：本發(fā)明的流程示意圖；

圖3A：本發(fā)明的校正片上的格子矩陣示意圖；

圖3B：圖3A的局部格子矩陣的放大示意圖；

圖3C：單一校正格放大示意圖；

圖3D：將格子矩陣分為多階環(huán)路的示意圖；

圖3E：第一階環(huán)路鐳射校正示意圖；

圖3F～3H：第二階環(huán)路鐳射校正示意圖；

圖4A～4Q：7×7格子矩陣實施示意圖；

圖5：9×9的格子矩陣；

圖6A：格子矩陣區(qū)分為兩個區(qū)域的示意圖；

圖6B：格子矩陣區(qū)分為四個區(qū)域的示意圖。

附圖標記說明

S01～S05 步驟

10 鐳射設(shè)備

11 工作平臺

12 鐳射源

13 視覺檢測器

14 移動單元

15 校正片

16 格子矩陣

161 校正格

161a～161d 起始校正格

1611 坐標位置

1612 基準點

1612 中心位置

201 鐳射打點

L0 第0階環(huán)路

L1 第一階環(huán)路

L2 第二階環(huán)路

L3 第三階環(huán)路

L4 第四階環(huán)路

L11 L21 對角校正格

L12 L22 中央校正格

L23 L24 剩余校正格

P1～P4 區(qū)域

3B 局部格子矩陣。

具體實施方式

本發(fā)明的上述目的及其結(jié)構(gòu)與功能上的特性，將依據(jù)所附附圖的較佳實施例予以說明。

請參照圖1A-1C，圖1A為本發(fā)明的鐳射設(shè)備立體示意圖；圖1B為本發(fā)明鐳射設(shè)備的正視圖；圖1C為本發(fā)明鐳射設(shè)備的側(cè)視圖。如圖所示，一鐳射設(shè)備10具有一工作平臺11，一鐳射源12位于該工作平臺11的下方，一視覺檢測器13在該工作平臺11的上方，該視覺檢測器13連接一移動單元14，使該視覺檢測器13得以在X-Y平面移動。

繼續(xù)參照圖2-3C，圖2為本發(fā)明的流程示意圖；圖3A為本發(fā)明校正片上的格子矩陣示意圖；圖3B為局部格子矩陣示意圖；圖3C為單一校正格放大示意圖。如這些圖所示，并一并參考圖1A-1C，本發(fā)明執(zhí)行的鐳射校正方法，包括以下步驟：

步驟S01：提供一校正片，該校正片具有一格子矩陣。在本步驟中，該校正片15放置在該鐳射設(shè)備10的工作平臺11上（如圖1C所示），該校正片15例如為一玻璃片，具有經(jīng)蝕刻工藝蝕刻的高密度經(jīng)緯線組成的格子矩陣16（如圖3A），該格子矩陣16包括多個校正格161，在一實施例中，該格子矩陣16的尺寸大小例如但不限制為320mm×170mm，且每一校正格161的尺寸大小例如但不限制為0.5mm×0.5mm，因此，每一校正格161為方格形狀。但是，在另一實施例中，該校正格161為圓形，每一校正格161的直徑例如但不限制為0.5mm。一鍍膜形成在該校正片15的表面，該鍍膜例如為金屬鍍膜，其利用濺鍍或蒸鍍方式形成在校正片15表面，因此當鐳射源12打到校正片15表面時，在鐳射落點處的鍍膜就會被鐳射燒掉，進而留下一鐳射打點201。如圖3B及圖3C所示，其中，圖3B表示圖3A的局部格子矩陣3B的放大示意圖，這些校正格161為列與行排列，且每一校正格161具有一坐標位置1611及一基準點1612，該坐標位置1611為坐標記號，該坐標記號標示在每一校正格161內(nèi)且位于校正格161的下緣，且該坐標記號由多個字符構(gòu)成，借以表示該校正格161的X-Y坐標，在本實施圖中，表示該坐標記號有7個字符。該基準點1612位于每一校正格161的網(wǎng)格線上，較佳的為該校正格161的一頂點，在本實施例中，以校正格161的左下方頂點為基準點1612。

步驟S02：通過至少一視覺檢測器識別該格子矩陣的其中至少一起始校正格的一坐標位置。移動該視覺檢測器13軸向?qū)?yīng)到該格子矩陣中的至少一起始校正格161a以影像取得其坐標位置1611，并通過光學(xué)文字辨識（Optical Character Recognition；OCR）辨識該坐標位置1611處并儲存在一處理器（無圖示）內(nèi)。由于每一校正格尺寸已經(jīng)預(yù)先儲存在處理器內(nèi)，因此，處理器可以根據(jù)該起始校正格161a的坐標位置1611及基準點1612算出該起始校正格161a的中心位置1613。對于其他的校正格161，視覺檢測器13同樣可辨識出各校正格161的坐標位置1611及其基準點1612并通過處理器算出各校正格161的中心位置。

該視覺檢測器13例如但不限制為感光耦合組件（Charge-coupled Device：CCD），該感光耦合組件能感應(yīng)光線并將影像轉(zhuǎn)變成數(shù)字信號，視覺檢測器13的感光范圍較佳的至少能夠覆蓋一個校正格面積。

步驟S03：通過至少一鐳射源在該起始校正格內(nèi)留下一鐳射打點，并以該視覺檢測器檢測該鐳射打點取得一起始校正格誤差值。該鐳射源12根據(jù)該視覺檢測器13辨識出該起始校正格161a的坐標位置1611，在該起始校正格內(nèi)161a內(nèi)留下一鐳射打點201。然后該視覺檢測器13檢測該鐳射打點201位置，并比對該起始校正格161a的中心位置1613與該鐳射打點201的位置差異，并通過處理器算出該起始校正格161a的誤差值為Esc X, Esc Y。

步驟S04：以該起始校正格的坐標位置為一工作中心，將該格子矩陣分為多階環(huán)路，每一階環(huán)路包括多個對角校正格及多個中央校正格。如圖3D所示，以該起始校正格161a為中心，將該起始校正格161a外側(cè)的周邊校正格區(qū)分為多階環(huán)路，并層疊包圍該起始校正格161a。一第一階環(huán)路L1緊鄰包圍該起始校正格161a外側(cè)的周邊校正格，一第二階環(huán)路L2包圍在第一階環(huán)路L1外側(cè)，以此區(qū)分方式將多個校正格區(qū)分為n階環(huán)路，其中，n為1開始的正整數(shù)。格子矩陣16的最外側(cè)周邊校正格為最后一階環(huán)路。在另一實施例中，該起始校正格161a可被當作第0階環(huán)路L0。且在圖示中表示每一階環(huán)路L1-L2具有四個對角校正格，且每兩個同側(cè)的對角校正格之間具有一中央校正格。

步驟S05：通過該視覺檢測器及該鐳射源對該多階環(huán)路進行校正，且該視覺檢測器檢測每一階環(huán)路的對角校正格內(nèi)分別留下的一鐳射打點位置以取得該對角校正格的一誤差值作為同一階環(huán)路的中央校正格的一鐳射補償值及下一階環(huán)路的對角校正格的一鐳射補償值。

在本步驟如圖3E～3H所示，先對第一階環(huán)路L1校正，第一階環(huán)路L1的每個校正格校正完后，再對第二階環(huán)路L2校正。如圖3E所示，該第一階環(huán)路L1的四個對角校正格L11的鐳射補償值為該起始校正格161a的起始校正格誤差值Esc X, Esc Y。因此，鐳射源12根據(jù)該第一階環(huán)路L1的四個對角校正格L11的坐標位置加上該起始校正格161a的誤差值Esc X, Esc Y，在第一階環(huán)路L1的四個對角校正格L11內(nèi)分別留下一鐳射打點201。然后移動視覺檢測器13分別軸向?qū)?yīng)四個對角校正格L11比對其中心位置與鐳射打點位置，分別取得四個對角校正格L11的誤差值。其中，該右上角校正格誤差值為Eru1 X, Eru1 Y；右下角校正格誤差值為Erd1 X, Erd1 Y；左上角校正格誤差值為Elu1 X, Elu1 Y；左下角校正格誤差值為Eld1 X, Eld1 Y。

接下來，通過鐳射源12在第一階環(huán)路L1的四個中央校正格L12內(nèi)分別留下一鐳射打點201。該第一階環(huán)路L1的四個中央校正格L12的鐳射補償值為第一階環(huán)路L1中兩個對角校正格L11誤差值的平均值。其中，上邊的中央校正格L12的補償值為右上角校正格及左上角校正格的誤差值的平均值，例如但不限制表示為：Emou1 X＝(Eru1 X+Elu1 X)/2，Emou1 Y＝(Eru1 Y+Elu1 Y)/2。其中，下邊的中央校正格L12的補償值為右下角校正格及左下角校正格的誤差值的平均值，例如但不限制表示為：Emod1 X＝(Erd1 X+Eld1 X)/2，Emod 1Y＝(Erd1 Y+Eld1 Y)/2。其中，左邊的中央校正格L12的補償值為左上角校正格及左下角校正格的誤差值的平均值，例如但不限制表示為：Emol 1 X＝(Elu1 X+Eld1 X)/2，Emol1 Y＝(Elu1 Y+Eld1 Y)/2。其中，右邊的中央校正格L12的補償值為右上角校正格與右下角校正格的誤差值的平均值，例如但不限制表示為：Emor1 X＝(Eru1 X+Erd1 X)/2，Emor1 Y＝(Eru1 Y+Erd1 Y)/2。鐳射源12根據(jù)四個中央校正格L12的坐標位置分別加上的上述的補償值，在第一環(huán)路L1的四個中央校正格L12留下鐳射打點201。當?shù)谝浑A環(huán)路L1經(jīng)過上述校正后，再對第二階環(huán)路L2進行校正。

如圖3F所示，該第二階環(huán)路L2的四個對角校正格L21的鐳射補償值為該第一階環(huán)路L1的四個對角校正格L11的誤差值。鐳射源12根據(jù)該第二階環(huán)路L2的四個對角校正格L21的坐標位置加上該第一階環(huán)路L1的四個對角校正格L11的誤差值在第二階環(huán)路L2的四個對角校正格L21內(nèi)分別留下一鐳射打點201。然后移動視覺檢測器13分別軸向?qū)?yīng)第二階環(huán)路L2的四個對角校正格L21比對其中心位置與鐳射打點位置，分別取得第二階環(huán)路L2的四個對角校正格L21的誤差值。其中，該右上角校正格誤差值為Eru2 X, Eru2 Y；右下角校正格誤差值為Erd2 X, Erd2 Y；左上角校正格誤差值為Elu2 X, Elu2 Y；左下角校正格誤差值為Eld2 X, Eld2 Y。

接下來，通過鐳射源12在第二階環(huán)路L2的四個中央校正格L22內(nèi)分別留下一鐳射打點201。該第二階環(huán)路L2的四個中央校正格L22的鐳射補償值為第二階環(huán)路L2中兩個對角校正格L21誤差值的平均值。其中，第二階環(huán)路L2上邊的中央校正格L22的補償值為右上角校正格及左上角校正格的誤差值的平均值，例如但不限制表示為：Emou2 X＝(Eru2 X+Elu2 X)/2，Emou2 Y＝(Eru2 Y+Elu2 Y)/2。其中，第二階環(huán)路L2下邊的中央校正格L22的補償值為右下角校正格及左下角校正格的誤差值的平均值，例如但不限制表示為：Emod2 X＝(Erd2 X+Eld2 X)/2，Emod 2Y＝(Erd2 Y+Eld2 Y)/2。其中，第二階環(huán)路L2左邊的中央校正格L22的補償值為左上角校正格及左下角校正格的誤差值的平均值，例如但不限制表示為：Emol 2 X＝(Elu2 X+Eld2 X)/2，Emol2 Y＝(Elu2 Y+Eld2 Y)/2。其中，第二階環(huán)路L2右邊的中央校正格L22的補償值為右上角校正格與右下角校正格的誤差值的平均值，例如但不限制表示為：Emor2 X＝(Eru2 X+Erd2 X)/2，Emor2 Y＝(Eru2 Y+Erd2 Y)/2。鐳射源根據(jù)四個中央校正格L22的坐標位置分別加上的上述的補償值，在第二環(huán)路L2的四個中央校正格L22留下鐳射打點201。

繼續(xù)如圖3G所示，第二環(huán)路L2的四個剩余校正格L23分別位于一個對角校正格L21及一個中央校正格L22之間。該剩余校正格L23的鐳射補償值為該對角校正格L21的誤差值與該中央校正格L22的誤差值的一平均值。鐳射源12根據(jù)剩余的四個校正格L23的坐標位置分別加上鐳射補償值，在剩余四個校正格L23留下鐳射打點201。其中，該上邊的剩余校正格L23的鐳射補償值為右上角校正格與上邊中央校正格的誤差值的平均值，例如但不限制表示為：Em1u X＝(Eru2 X+Emou2 X)/2，Em1u Y＝(Eru2 Y+Emou2 Y)/2。其中，該下邊的剩余校正格L23的鐳射補償值為左下角校正格與下邊中央校正格的誤差值的平均值，例如但不限制表示為：Em1d X＝(Eld2 X+Emod2 X)/2，Em1d Y＝(Eld2 Y+Emod2 Y)/2。其中，該左邊的剩余校正格L23的鐳射補償值為左上角校正格與左邊中央校正格的誤差值的平均值，例如但不限制表示為：Em1l X＝(Elu2 X+Emol2 X)/2，Em1l Y＝(Elu2 Y+Emol2 Y)/2。其中，該右邊的剩余校正格L23的鐳射補償值為右下角校正格與右邊中央校正格的誤差值的平均值，例如但不限制表示為：Em1r X＝(Erd2 X+Emor2 X)/2，Em1r Y＝(Erd2 Y+Emor2 Y)/2。

如圖3H所示，第二環(huán)路L2剩余的四個校正格L24分別位于一個對角校正格L21及一個中央校正格L22之間。該剩余校正格L24的鐳射補償值為該對角校正格L21的誤差值與該中央校正格L22的誤差值的一平均值。鐳射源12根據(jù)剩余的四個校正格L24的坐標位置分別加上鐳射補償值，在剩余四個校正格L24留下鐳射打點201。其中，該上邊的剩余校正格L24的鐳射補償值為左上角校正格與上邊中央校正格的誤差值的平均值，例如但不限制表示為：Em2u X＝(Elu2 X+Emou2 X)/2，Em2u Y＝(Elu2 Y+Emou2 Y)/2。其中，該下邊的剩余校正格L24的鐳射補償值為右下角校正格與下邊中央校正格的誤差值的平均值，例如但不限制表示為：Em2d X＝(Erd2 X+Emod2 X)/2，Em2d Y＝(Erd2 Y+Emod2 Y)/2。其中，該左邊的剩余校正格L24的鐳射補償值為左下角校正格與左邊中央校正格的誤差值的平均值，例如但不限制表示為：Em2l X＝(Eld2 X+Emol2 X)/2，Em2l Y＝(Eld2 Y+Emol2 Y)/2。其中，該右邊的剩余校正格L24的鐳射補償值為右上角校正格與右邊中央校正格的誤差值的平均值，例如但不限制表示為：Em2r X＝(Eru2 X+Emor2 X)/2，Em2r Y＝(Eru2 Y+Emor2 Y)/2。

當?shù)诙h(huán)路L2校正完后，再繼續(xù)對下一環(huán)路校正。每一環(huán)路以前面相同方式校正，直到每一環(huán)路校正完畢。

以下將以7×7的格子矩陣說明鐳射落點順序，鐳射校正方法如上所述，下面不重復(fù)贅述。

參考圖4A～4Q，為7×7格子矩陣實施示意圖。如圖所示，每一校正格中的組件符號表示鐳射落點順序。格子矩陣區(qū)分為3階環(huán)路層疊包圍該起始校正格，最外側(cè)為第3階環(huán)路L3，本方法先從a1留下鐳射打點201，然后根據(jù)a1的誤差值作為a2的鐳射補償值，然后根據(jù)任兩個同側(cè)的a2的誤差值的平均值作為a3的鐳射補償值；再根據(jù)a2的誤差值作為a4的鐳射補償值，然后根據(jù)任兩個同側(cè)的a4的誤差值的平均值作為a5的鐳射補償值，然后根據(jù)a4及a5的誤差值的平均值作為a6的鐳射補償值；再根據(jù)a4的誤差值作為a7的鐳射補償值，然后根據(jù)兩個同側(cè)的a7的誤差值的平均值作為該a8的鐳射補償值，然后根據(jù)a7及a8的誤差值的平均值作為該a9的鐳射補償值。

尤其要說明的是，由于a7及a8之間間隔偶數(shù)個校正格，因此該a9的鐳射補償值需要加上或減少一修正值，該修正值為1/2校正格尺寸，以使該鐳射源打到校正格內(nèi)。

另外，請繼續(xù)參考圖5所示，當一環(huán)路有剩余的剩余校正格毗鄰在任兩個同一列或同一行排列且有鐳射打點的校正格（包括對角校正格或中央校正格）之間時，該剩余校正格的鐳射補償值為該任兩個校正格的誤差值的一平均值。如圖5所示，第4環(huán)路L4的a13的校正格的鐳射補償值為a10校正格及a12校正格的誤差值的平均值；a14的校正格的鐳射補償值為a11校正格及a12校正格的誤差值的平均值。

請繼續(xù)參考圖6A及6B所示，在另一實施例中，本發(fā)明將該校正片上的格子矩陣區(qū)分為一個區(qū)域（如前面圖3E至3H所示）或多個區(qū)域，例如圖6A所示，將格子矩陣區(qū)分為兩個區(qū)域P1及P2，每個區(qū)域P1及P2分別包括一起始校正格161a、161b及多階環(huán)路，通過兩個鐳射源及兩個視覺檢測器分別對兩個區(qū)域P1及P2同時執(zhí)行上述的環(huán)路校正程序。另外，如圖6B所示，將格子矩陣區(qū)分為四個區(qū)域P1、P2、P3及P4，每個區(qū)域P1～P4分別包括一起始校正格161a~161d及多階環(huán)路，通過四個鐳射源及四個視覺檢測器分別對四個區(qū)域P1～P4同時執(zhí)行上述的環(huán)路校正程序。

借由以上的鐳射校正方法，減少傳統(tǒng)方式下對人力和時間的消耗，提高生產(chǎn)效率，并且確保校正的精度。

但是，以上所述者，僅為本發(fā)明的較佳可行的實施例而已，凡是利用本發(fā)明上述的方法、形狀、構(gòu)造、裝置所作的變化，都應(yīng)屬于本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。