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      一種基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量裝置的制作方法

      文檔序號(hào):11220937閱讀:615來(lái)源:國(guó)知局
      一種基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量裝置的制造方法

      本發(fā)明一種基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量裝置屬于精密儀器制造及測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域。



      背景技術(shù):

      隨著半導(dǎo)體和超凈加工技術(shù)的不斷發(fā)展,高速主軸的技術(shù)需求日益增加。主軸轉(zhuǎn)速范圍從幾千轉(zhuǎn)每分鐘上升到幾萬(wàn)轉(zhuǎn)每分鐘,主軸軸系精度也不斷提高,其中,徑向回轉(zhuǎn)誤差從幾百微米提高到幾十微米甚至幾微米精度。因此,對(duì)高速主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差的測(cè)量顯得更加重要。主軸回轉(zhuǎn)誤差也是反映機(jī)床動(dòng)態(tài)性能好壞的關(guān)鍵指標(biāo)之一,通過(guò)對(duì)回轉(zhuǎn)誤差的測(cè)試與分析,可以預(yù)測(cè)理想加工條件下機(jī)床所能達(dá)到的最小形狀誤差、表面質(zhì)量和粗糙度,也可以用于機(jī)床加工預(yù)測(cè)和補(bǔ)償控制,判斷產(chǎn)生加工誤差的原因,以及機(jī)床的狀態(tài)監(jiān)測(cè)和故障診斷,還可為機(jī)床主軸回轉(zhuǎn)誤差預(yù)測(cè)、控制提供重要的測(cè)試基礎(chǔ)。

      目前在高速主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量方面,美國(guó)雄獅精儀公司的主軸誤差分析儀sea,與我國(guó)軍標(biāo)gjb1801-93提到的方法一致。該方法要想保持測(cè)量精度,其采用的電容傳感器的采樣頻率要隨待測(cè)主軸轉(zhuǎn)速提高而增大。例如,當(dāng)待測(cè)主軸的轉(zhuǎn)速達(dá)到60000rpm,即待測(cè)主軸軸心點(diǎn)晃動(dòng)頻率為1khz,要想實(shí)現(xiàn)25μm的測(cè)量精度,電容傳感器的采樣頻率至少要達(dá)到128khz。

      可見,這種方法對(duì)于電容傳感器的采樣頻率有著非常高的要求,由于高采樣頻率電容傳感器難以獲得,且價(jià)格昂貴,因此,如何在不需要高采樣頻率電容傳感器的情況下,實(shí)現(xiàn)高轉(zhuǎn)速主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差高精度測(cè)量,是主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差超精密測(cè)量領(lǐng)域亟待解決的關(guān)鍵技術(shù)問(wèn)題。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      為了解決上述問(wèn)題,本發(fā)明設(shè)計(jì)了一種基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量裝置,該裝置不僅不需要高采樣頻率電容傳感器,降低了設(shè)備成本,而且能夠?qū)崿F(xiàn)高轉(zhuǎn)速主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差的高精度測(cè)量。

      本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的:

      一種基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量裝置,包括:圖像采集器件,標(biāo)準(zhǔn)器,用于夾持標(biāo)準(zhǔn)器的裝夾裝置,待測(cè)主軸,基座,龍門支架,x向位移導(dǎo)軌,y向位移導(dǎo)軌和z向位移導(dǎo)軌;其中,x向位移導(dǎo)軌通過(guò)龍門支架固定在基座上,y向位移導(dǎo)軌安裝在x向位移導(dǎo)軌上,沿x向位移導(dǎo)軌所在方向移動(dòng),z向位移導(dǎo)軌安裝在y向位移導(dǎo)軌上,沿y向位移導(dǎo)軌所在方向移動(dòng),圖像采集器件安裝在z向位移導(dǎo)軌上,沿z向位移導(dǎo)軌所在方向移動(dòng),標(biāo)準(zhǔn)器通過(guò)裝夾裝置安裝在待測(cè)主軸的回轉(zhuǎn)端面上;所述標(biāo)準(zhǔn)器為頂端開有靶標(biāo)、內(nèi)部能夠發(fā)光的桶狀結(jié)構(gòu);所述靶標(biāo)為偏心孔。

      上述基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量裝置,有如下關(guān)系:

      t1=t2

      t1=kt2

      其中,圖像采集器件的曝光時(shí)間為t1,待測(cè)主軸的回轉(zhuǎn)周期為t2,k為正有理數(shù)。

      一種基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量方法,由以下步驟組成:

      步驟a、點(diǎn)亮標(biāo)準(zhǔn)器;

      步驟b、調(diào)整x向位移導(dǎo)軌,y向位移導(dǎo)軌和z向位移導(dǎo)軌,使得圖像采集器件能夠?qū)Π袠?biāo)回轉(zhuǎn)圓周完整成像;

      步驟c、控制待測(cè)主軸在額定轉(zhuǎn)速下轉(zhuǎn)動(dòng);

      步驟d、在圖像采集器件的曝光時(shí)間t1、待測(cè)主軸的轉(zhuǎn)動(dòng)周期t2之間滿足t1=t2或t1=kt2的關(guān)系時(shí),圖像采集器件對(duì)標(biāo)準(zhǔn)器成像,獲得靶標(biāo)軌跡圖像;

      步驟e、對(duì)靶標(biāo)軌跡圖像進(jìn)行預(yù)處理和靶標(biāo)軌跡提??;

      步驟f、評(píng)定靶標(biāo)軌跡的圓度誤差。

      上述基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量方法,步驟e所述的預(yù)處理,包括以下步驟:

      步驟e1、對(duì)每一個(gè)像素點(diǎn)[i,j]取大小為n×n的鄰域,分別計(jì)算該鄰域的四個(gè)子區(qū)域灰度分布均勻度,然后將均勻度最小的子區(qū)域的均值賦予該像素點(diǎn);所述子區(qū)域灰度分布均勻度有如下公式計(jì)算:

      v=∑f2(i,j)-(∑f(i,j))2/n

      其中,i、j為某像素點(diǎn)的x坐標(biāo)和y坐標(biāo),f(i,j)為該像素點(diǎn)的灰度值,n=2k-1,k為正整數(shù);

      步驟e2、對(duì)步驟e1處理之后的靶標(biāo)軌跡圖像進(jìn)行增強(qiáng),獲取明暗對(duì)比清晰的圖像;所述獲取明暗對(duì)比清晰圖像的方法通過(guò)如下公式實(shí)現(xiàn):

      其中,g(i,j)為某像素點(diǎn)變換之后的灰度值,f(i,j)為該像素點(diǎn)變換之前的灰度值,mf為圖像變換之前最大灰度值,mg為圖像變換之后最大灰度值;又0<c<d<mg。

      上述基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量方法,步驟e所述的靶標(biāo)軌跡提取,通過(guò)以下步驟實(shí)現(xiàn):

      β(a)=a-(a!b)

      其中,a為靶標(biāo)軌跡圖像,β(a)為提取所得的靶標(biāo)軌跡,b為一個(gè)大小為n×n的結(jié)構(gòu)元素。

      上述基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量方法,步驟f所述的評(píng)定靶標(biāo)軌跡的圓度誤差,方法如下:

      步驟f1、計(jì)算擬合圓半徑r0

      其中,(xi,yi)為實(shí)際輪廓上各點(diǎn)的坐標(biāo),(xo,yo)為擬合圓中心的坐標(biāo);

      步驟f2、計(jì)算靶標(biāo)軌跡的圓度誤差為:

      靶標(biāo)軌跡的圓度誤差eround即為待測(cè)主軸的徑向回轉(zhuǎn)誤差。

      有益效果:

      本發(fā)明基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量裝置,首先采用具有靶標(biāo)的標(biāo)準(zhǔn)器,利用靶標(biāo)軌跡的圓度誤差與待測(cè)主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差一致的特性,再通過(guò)圖像采集器件記錄靶標(biāo)軌跡,最后利用靶標(biāo)軌跡的圓度誤差來(lái)描述待測(cè)主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差;不同于電容傳感器的是,圖像采集器件中的感光元素能夠并行工作,因此能夠回避高采樣頻率電容傳感器的使用,降低了設(shè)備成本;而靶標(biāo)和圖像采集器件像元的大小都在微米量級(jí),因此又能夠?qū)崿F(xiàn)高轉(zhuǎn)速主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差的高精度測(cè)量。

      附圖說(shuō)明

      圖1是本發(fā)明基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

      圖2是標(biāo)準(zhǔn)器的結(jié)構(gòu)示意圖。

      圖3是本發(fā)明基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量方法的流程圖。

      圖4是靶標(biāo)軌跡與評(píng)定軌跡圖像。

      圖中:1圖像采集器件、2標(biāo)準(zhǔn)器、3裝夾裝置、4待測(cè)主軸、5基座、6龍門支架、7x向位移導(dǎo)軌、8y向位移導(dǎo)軌、9z向位移導(dǎo)軌、10靶標(biāo)。

      具體實(shí)施方式

      下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明具體實(shí)施方式作進(jìn)一步詳細(xì)描述。

      具體實(shí)施例一

      本實(shí)施例是基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量裝置實(shí)施例。

      本實(shí)施例的基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量裝置,結(jié)構(gòu)示意圖如圖1所示。該裝置包括:圖像采集器件1,標(biāo)準(zhǔn)器2,用于夾持標(biāo)準(zhǔn)器2的裝夾裝置3,待測(cè)主軸4,基座5,龍門支架6,x向位移導(dǎo)軌7,y向位移導(dǎo)軌8和z向位移導(dǎo)軌9;其中,x向位移導(dǎo)軌7通過(guò)龍門支架6固定在基座5上,y向位移導(dǎo)軌8安裝在x向位移導(dǎo)軌7上,沿x向位移導(dǎo)軌7所在方向移動(dòng),z向位移導(dǎo)軌9安裝在y向位移導(dǎo)軌8上,沿y向位移導(dǎo)軌8所在方向移動(dòng),圖像采集器件1安裝在z向位移導(dǎo)軌9上,沿z向位移導(dǎo)軌9所在方向移動(dòng),標(biāo)準(zhǔn)器2通過(guò)裝夾裝置3安裝在待測(cè)主軸4的回轉(zhuǎn)端面上;所述標(biāo)準(zhǔn)器2為頂端開有靶標(biāo)10、內(nèi)部能夠發(fā)光的桶狀結(jié)構(gòu);所述靶標(biāo)10為偏心孔。具體實(shí)施例二

      本實(shí)施例是基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量裝置實(shí)施例。

      本實(shí)施例的基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量裝置,有如下關(guān)系:

      t1=t2

      t1=kt2

      其中,圖像采集器件1的曝光時(shí)間為t1,待測(cè)主軸4的回轉(zhuǎn)周期為t2,k為正有理數(shù)。

      具體實(shí)施例三

      本實(shí)施例是基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量方法實(shí)施例。

      本實(shí)施例的基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量方法,流程圖如圖3所示。該方法由以下步驟組成:

      步驟a、點(diǎn)亮標(biāo)準(zhǔn)器2;

      步驟b、調(diào)整x向位移導(dǎo)軌7,y向位移導(dǎo)軌8和z向位移導(dǎo)軌9,使得圖像采集器件1能夠?qū)Π袠?biāo)10回轉(zhuǎn)圓周完整成像;

      步驟c、控制待測(cè)主軸4在額定轉(zhuǎn)速下轉(zhuǎn)動(dòng);

      步驟d、在圖像采集器件1的曝光時(shí)間t1、待測(cè)主軸4的轉(zhuǎn)動(dòng)周期t2之間滿足t1=t2或t1=kt2的關(guān)系時(shí),圖像采集器件1對(duì)標(biāo)準(zhǔn)器2成像,獲得靶標(biāo)軌跡圖像;

      步驟e、對(duì)靶標(biāo)軌跡圖像進(jìn)行預(yù)處理和靶標(biāo)軌跡提??;

      步驟f、評(píng)定靶標(biāo)軌跡的圓度誤差。

      具體實(shí)施例四

      本實(shí)施例是基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量方法實(shí)施例。

      本實(shí)施例的基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量方法,在具體實(shí)施例三的基礎(chǔ)上,進(jìn)一步限定步驟e所述的預(yù)處理,包括以下步驟:

      步驟e1、對(duì)每一個(gè)像素點(diǎn)[i,j]取大小為n×n的鄰域,分別計(jì)算該鄰域的四個(gè)子區(qū)域灰度分布均勻度,然后將均勻度最小的子區(qū)域的均值賦予該像素點(diǎn);所述子區(qū)域灰度分布均勻度有如下公式計(jì)算:

      v=∑f2(i,j)-(∑f(i,j))2/n

      其中,i、j為某像素點(diǎn)的x坐標(biāo)和y坐標(biāo),f(i,j)為該像素點(diǎn)的灰度值,n=2k-1,k為正整數(shù);

      步驟e2、對(duì)步驟e1處理之后的靶標(biāo)軌跡圖像進(jìn)行增強(qiáng),獲取明暗對(duì)比清晰的圖像;所述獲取明暗對(duì)比清晰圖像的方法通過(guò)如下公式實(shí)現(xiàn):

      其中,g(i,j)為某像素點(diǎn)變換之后的灰度值,f(i,j)為該像素點(diǎn)變換之前的灰度值,mf為圖像變換之前最大灰度值,mg為圖像變換之后最大灰度值;又0<c<d<mg。

      具體實(shí)施例五

      本實(shí)施例是基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量方法實(shí)施例。

      本實(shí)施例的基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量方法,在具體實(shí)施例三的基礎(chǔ)上,進(jìn)一步限定步驟e所述的靶標(biāo)軌跡提取,通過(guò)以下步驟實(shí)現(xiàn):

      β(a)=a-(a!b)

      其中,a為靶標(biāo)軌跡圖像,β(a)為提取所得的靶標(biāo)軌跡,b為一個(gè)大小為n×n的結(jié)構(gòu)元素。

      具體實(shí)施例六

      本實(shí)施例是基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量方法實(shí)施例。

      本實(shí)施例的基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量方法,在具體實(shí)施例三的基礎(chǔ)上,進(jìn)一步限定步驟f所述的評(píng)定靶標(biāo)軌跡的圓度誤差,方法如下:

      步驟f1、計(jì)算擬合圓半徑r0

      其中,(xi,yi)為實(shí)際輪廓上各點(diǎn)的坐標(biāo),(xo,yo)為擬合圓中心的坐標(biāo);

      步驟f2、計(jì)算靶標(biāo)軌跡的圓度誤差為:

      靶標(biāo)軌跡的圓度誤差eround即為待測(cè)主軸4的徑向回轉(zhuǎn)誤差。

      具體實(shí)施例七

      本實(shí)施例是基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量方法實(shí)施例。

      本實(shí)施例的基于靶標(biāo)軌跡跟蹤的主軸徑向回轉(zhuǎn)誤差測(cè)量方法,將具體實(shí)施例三、具體實(shí)施例四、具體實(shí)施例五和具體實(shí)施例六相結(jié)合,以一個(gè)具體實(shí)例來(lái)說(shuō)明本方法,該方法由以下步驟組成:

      步驟a、點(diǎn)亮標(biāo)準(zhǔn)器2;

      步驟b、調(diào)整x向位移導(dǎo)軌7,y向位移導(dǎo)軌8和z向位移導(dǎo)軌9,使得圖像采集器件1能夠?qū)Π袠?biāo)10回轉(zhuǎn)圓周完整成像;

      步驟c、控制待測(cè)主軸4在額定轉(zhuǎn)速下轉(zhuǎn)動(dòng);

      步驟d、在圖像采集器件1的曝光時(shí)間t1、待測(cè)主軸4的轉(zhuǎn)動(dòng)周期t2和靶標(biāo)10的數(shù)量n之間滿足t1=t2的關(guān)系時(shí),圖像采集器件1對(duì)標(biāo)準(zhǔn)器2成像,獲得靶標(biāo)軌跡圖像,如圖4中的粗實(shí)線所示;

      步驟e、對(duì)靶標(biāo)軌跡圖像進(jìn)行預(yù)處理和靶標(biāo)軌跡提?。黄渲?,預(yù)處理采用具體實(shí)施例四所述的方法,靶標(biāo)軌跡提取采用具體實(shí)施例五所述的方法;

      步驟f、評(píng)定靶標(biāo)軌跡的圓度誤差,采用具體實(shí)施例六所述的方法,其中,圖4中的外圓為與運(yùn)算相對(duì)應(yīng),圖4中的內(nèi)圓與相對(duì)應(yīng)。

      需要說(shuō)明的是,以上所有方法實(shí)施例,均是在以上所有裝置實(shí)施例中的任一個(gè)的基礎(chǔ)上實(shí)現(xiàn)的。

      還需要說(shuō)明的是,在以上實(shí)施例中,只要不矛盾的技術(shù)方案都能夠進(jìn)行排列組合,本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠根據(jù)排列組合的數(shù)學(xué)知識(shí)窮盡所有可能,因此,本發(fā)明不再對(duì)排列組合后的技術(shù)方案進(jìn)行一一說(shuō)明,但應(yīng)該理解為排列組合后的技術(shù)方案已經(jīng)被本發(fā)明所公開。

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