a、5152a和5153a中的每一者可具有比形成在第一收集器5140上的突出部5141a的Dl大的直徑D2。詳細(xì)地說(shuō)，突出部5151a、5152a和5153a中的每一者可具有幾毫米的直徑D2。
[0071]在下文中，將詳細(xì)地描述第二主體5154的構(gòu)造。
[0072]第二主體5154沿左/右方向延伸并且設(shè)置在第一收集器5140之下。第二主體5154包含:下方主體5151，具有從面向第一收集器5140的底表面的一個(gè)表面向上突出的多個(gè)突出部5151a ;上方主體5152，沿與下方主體5151對(duì)應(yīng)的方向延伸并且設(shè)置在第一收集器5140與下方主體5151之間，多個(gè)突出部5152a從上方主體5152朝下方主體5151突出；以及連接主體5153，垂直地延伸以將下方主體5151連接到上方主體5152，連接主體5153具有形成在其內(nèi)側(cè)表面上的多個(gè)突出部5153a。
[0073]此處，下方主體5151可具有比上方主體5152的左/右長(zhǎng)度小的左/右長(zhǎng)度。并且，當(dāng)下方主體5151和上方主體5152中的每一者的兩端中的一者(其鄰近于透射窗5120)被界定為一端，并且另一者被界定為另一端時(shí)，上方主體5152的另一端可經(jīng)設(shè)置以與下方主體5151的另一端的上側(cè)對(duì)應(yīng)。此處，連接主體5153將下方主體5151的另一端連接到上方主體5152的另一端。因此，如圖3、圖5和圖7所說(shuō)明，第二主體5154可具有朝向第一收集器5140敞開(kāi)的開(kāi)口，也就是說(shuō)，在下方主體5151的一端與上方主體5152的一端之間。
[0074]可在下方主體5151的頂表面上形成從一端朝另一端向下傾斜的傾斜部分5151b。此處，傾斜部分5151b可不形成在下方主體5151的整個(gè)頂表面上而是形成在下方主體5151的頂表面的一部分上。也就是說(shuō)，如圖7所說(shuō)明，傾斜部分5151b可從下方主體5151的頂表面的一端朝下方主體5151的頂表面的另一端向下傾斜，并且并未傾斜的平坦部分5151c可從傾斜部分5151b至下方主體5151的另一端來(lái)形成。此處，形成在下方主體5151的頂表面上的傾斜部分5151b可具有銳角，例如，約4°的角。
[0075]可在上方主體5152的面向下方主體5151的頂表面的底表面上形成從一端朝另一端向上傾斜的傾斜部分5152b。此處，傾斜部分5152b可不形成在上方主體5152的整個(gè)底表面上而是形成在上方主體5152的底表面的一部分上。也就是說(shuō)，如圖7所說(shuō)明，傾斜部分5152b可從上方主體5152的底表面的一端朝上方主體5152的底表面的另一端向上傾斜，并且并未傾斜的平坦部分5152c可從傾斜部分5152b至上方主體5152的另一端來(lái)形成。此處，形成在上方主體5152的底表面上的傾斜部分5152b可具有銳角，例如，約4°的角。
[0076]像這樣，因?yàn)閮A斜部分5151b和5152b以及多個(gè)突出部5151a和5152a形成在下方主體5151的頂表面和上方主體5152的底表面中的每一者上，所以從第一收集器5140再反射的光可再反射到下方主體5151、上方主體5152和連接主體5153幾次，所述下方主體、上方主體和連接主體構(gòu)成了第二收集器5150。并且，在光再反射幾次時(shí)，所述光發(fā)生二次偏移并耗散。因此，可防止反射光朝透射窗5120或光源300發(fā)射。并且，因?yàn)榉瓷涔馔ㄟ^(guò)第二收集器5150耗散，所以可防止第二收集器5150周?chē)姆瓷涔馕?。因此，可抑制包含透射?120以及第一收集器5140和第二收集器5150的光照射模塊5000由于再反射光的熱量所造成的溫度升高所致的熱變形，從而將不均的產(chǎn)生降至最低。
[0077]第二蓋5155可由透光材料，例如石英材料形成。第二蓋5155可覆蓋在第二主體5154中界定的開(kāi)口，以使得第二收集器5150具有內(nèi)表面。第二蓋5155可界定作為由下方主體5151、上方主體5152、連接主體5153和第二蓋5155界定的預(yù)定空間的內(nèi)部空間，所述下方主體、上方主體、連接主體和第二蓋構(gòu)成了第二主體5154。
[0078]雖然未圖示，但是氣體管(在下文中，被稱(chēng)作“第二氣體管”)可經(jīng)連接以與第二主體5154與第二蓋5155之間的空間連通?？赏ㄟ^(guò)第二氣體管將惰性氣體，例如，氮?dú)?N2),填充到第二主體5154與第二蓋5155之間的空間中，并且可通過(guò)第二氣體管將所述惰性氣體排出。通過(guò)惰性氣體的填充和排出工藝，可移除由于第二收集器5150中的溫度升高而產(chǎn)生的煙霧。
[0079]在下文中，將參看圖1到圖7來(lái)描述使用根據(jù)實(shí)施例的襯底處理設(shè)備使薄膜結(jié)晶的方法。
[0080]首先，可在玻璃襯底S上形成非晶多晶薄膜11，例如，非晶多晶硅薄膜。接著，可將形成了非晶多晶硅薄膜的襯底S裝載到襯底處理設(shè)備的處理室100中并接著擱置在臺(tái)200上。
[0081]當(dāng)襯底S擱置在臺(tái)200上時(shí)，可在通過(guò)臺(tái)200沿工藝進(jìn)行方向水平地轉(zhuǎn)移襯底S的同時(shí)將激光照射到形成在襯底S上的薄膜11上。也就是說(shuō)，光源300可操作以從光源300輸出光，即，激光。接著，所輸出的激光在透過(guò)透射窗5120穿過(guò)光照射單元5100的光照射空間5110和氣體注射單元5200的氣體注射空間5410之后可經(jīng)由第一狹縫5400a和第二狹縫5500a照射到形成在襯底S上的薄膜11上。因此，形成在襯底S上的非晶多晶硅薄膜可與激光反應(yīng)以形成晶體硅薄膜。
[0082]如上所述，在激光束照射到襯底S上時(shí)，可將氮?dú)釴2注射到襯底S的上側(cè)或薄膜11上。為此，當(dāng)將氮?dú)?N2)供應(yīng)到設(shè)置在氣體注射塊5400中的氣體供應(yīng)單元5300中時(shí)，通過(guò)氣體供應(yīng)單元5300的排放狹縫將氮?dú)?N2)供應(yīng)到氣體注射空間5410中。接著，供應(yīng)到氣體注射空間5410中的氮?dú)?N2)可通過(guò)第一狹縫5410a和第二狹縫5500a注射到襯底S的上側(cè)上。向襯底S的上側(cè)排放的氮?dú)?N2)可相對(duì)于第二狹縫5400a沿兩個(gè)方向擴(kuò)散。此處，存在于板5500與襯底S之間的氧氣和雜質(zhì)可被推向兩個(gè)側(cè)向方向。換句話(huà)說(shuō)，通過(guò)第二狹縫5400a排放的惰性氣體可擴(kuò)散以填充板5400與襯底S之間的空間。此處，存在于板5500與襯底S之間的氧氣和雜質(zhì)可被氮?dú)?N2)推到光照射模塊5000和襯底S外部。
[0083]因此，因?yàn)橐r底S以及形成于襯底S的頂表面上的硅薄膜11并未暴露于氧氣和雜質(zhì)下，所以與現(xiàn)有技術(shù)不同，襯底S和薄膜11可不氧化。更詳細(xì)地說(shuō)，因?yàn)橐r底S或至少被激光照射的薄膜11并未暴露于氧氣和雜質(zhì)下，所以被激光照射的硅薄膜可不氧化，從而形成晶體硅薄膜。
[0084]如上所述，從光源300輸出并照射到襯底S上的激光束可使薄膜11結(jié)晶并接著從襯底S再反射。此處，激光束可沿與激光入射到襯底S中的方向?qū)ΨQ(chēng)的方向向上反射，并且因此再透射穿過(guò)透射窗5120。從透射窗5120透射的激光可通過(guò)設(shè)置在透射窗5120上方的第一收集器5140發(fā)生一次偏移并且接著再反射向第二收集器5150。也就是說(shuō)，反射激光(或反射光)可通過(guò)形成在第一主體5141的底表面上的突出部5141a發(fā)生一次偏移并且接著通過(guò)第一主體5141的傾斜而再反射向第二收集器5150。這是因?yàn)榈谝恢黧w5141的至少一底表面可向上傾斜到透射窗5120的外部或沿設(shè)置第二收集器5150的方向向上傾斜。并且，在通過(guò)第一收集器5140 —次偏移之后再反射并接著入射到第二收集器5150中的激光可在第二主體5154中再反射幾次并且發(fā)生二次偏移并因此耗散。也就是說(shuō)，從第一收集器5140再反射并入射到第二收集器中的激光可通過(guò)下方主體5151、上方主體5152和連接主體5153反射幾次，所述下方主體、上方主體和連接主體構(gòu)成了第二主體5154。接著，激光可通過(guò)形成在下方主體5151、上方主體5152和連接主體5153中的每一者上的多個(gè)突出部5151a、5152a和5153a而發(fā)生二次偏移并因此耗散。此處，因?yàn)樵谙路街黧w5151的頂表面和上方主體5152的底表面中的每一者上形成傾斜部分5151b和5152b，所以從第一收集器5140再反射的激光可在第二收集器5150內(nèi)再反射幾次。也就是說(shuō)，激光可從下方主體5151再反射并且接著朝上方主體5152或連接主體5153發(fā)射，或者激光可從上方主體5152和連接主體5153再反射并且接著朝下方主體5151或上方主體5152發(fā)射。
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