激光修復裝置及顯示裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種通過對處理對象物照射激光而進行修復(修正)處理的激光修復裝置及顯示裝置。
【背景技術】
[0002]液晶顯示裝置等顯示裝置因制造工序中的各種不良現(xiàn)象而有時會產(chǎn)生像素單位的缺陷(像素缺陷)。像素缺陷中有像素的亮點狀態(tài)持續(xù)的“亮點缺陷”和像素的暗點狀態(tài)持續(xù)的“暗點缺陷”，由于通過改善制造工序幾乎不可能完全消除缺陷，因此，進行將對顯示質量影響較大的亮點缺陷暗點化的修復處理，從而提高顯示裝置的產(chǎn)量。
[0003]并且，在顯示裝置的基板上存在堵塞像素的顯示區(qū)域的異物(間隔件突起或取向控制用突起等)時，進行通過去除該異物而確保正常的顯示區(qū)域的修復處理。
[0004]作為這種修復處理，一般進行對缺陷部位照射激光的激光修復處理。該激光修復處理為如下，即對缺陷部位局部照射激光、且進行像素電極的加工和配線的切斷、取向膜的加工和去除、異物的去除等(參照下述專利文獻1、2)。
[0005]以往技術文獻
[0006]專利文獻
[0007]專利文獻1:日本專利公開2008 - 64969號公報
[0008]專利文獻2:日本專利公開2008 - 180907號公報【實用新型內(nèi)容】
[0009]實用新型要解決的技術課題
[0010]當進行所述修復處理時，在顯示裝置的基板上層疊有透明導電膜(ΙΤ0膜等)、絕緣膜、取向膜等各種層。在這些層中，即使對例如透明導電膜選擇性地進行修復處理，在激光照射時也會對位于下層的絕緣膜等帶來不良影響，最壞的情況是因絕緣膜的破壞等而在正常的像素顯示性能上產(chǎn)生不良現(xiàn)象。
[0011]對此，通過適當?shù)卣{(diào)整激光的脈沖照射中的光強度(能量密度)來減少對下層的膜的影響，但是，若僅通過光強度的調(diào)整，則存在無法充分地排除對下層的不良影響的問題。并且，以往是通過激光源的輸出調(diào)整而進行照射能量的調(diào)整，通過降低激光源的輸出而進行nj級低能量照射。然而，在該方法中存在的問題是，激光源的輸出容易變得不穩(wěn)定，且無法獲得穩(wěn)定的激光照射，無法進行高精度的修復處理。
[0012]本實用新型為將解決這種問題作為課題的一例。即，本實用新型的目的在于:在對處理對象的基板照射激光的激光修復處理中，針對在基板上層疊有異種膜的處理對象，通過抑制對下層的不良影響而能夠選擇性地僅對特定的膜進行修復處理；及通過這種特定膜的選擇性的修復處理，能夠獲得良好地確保顯示性能的顯示裝置，并能夠以高產(chǎn)量生產(chǎn)顯示裝置等。
[0013]用于解決技術課題的手段
[0014]為了達到這種目的，基于本實用新型的激光修復裝置為至少具備以下結構的裝置。
[0015]—種激光修復裝置，其通過對形成有不同種類的多層膜的基板上的特定膜照射激光而實施修復處理，所述激光修復裝置的特征在于，具備:激光源，以規(guī)定的振蕩波長進行輸出；波長轉換部，將從所述激光源射出的激光的波長轉換成在所述特定膜中吸收最多的特定波長；及傳輸光學系統(tǒng)，在設定光路上傳輸從所述波長轉換部射出的激光，所述傳輸光學系統(tǒng)包括使所述特定波長的激光選擇性地在所述設定光路上傳輸?shù)牟ㄩL選擇光學要件，并射出高純度的所述特定波長的激光。
[0016]實用新型效果
[0017]具有這種特征的本實用新型在對處理對象的基板照射激光的激光修復處理中，針對在基板上層疊有異種膜的處理對象，通過抑制對下層的不良影響而能夠選擇性地僅對特定的膜進行修復處理。通過這種特定膜的選擇性的修復處理，能夠獲得良好地確保顯示性能的顯示裝置，并且，能夠以高產(chǎn)量生產(chǎn)顯示裝置。
【附圖說明】
[0018]圖1是表示本實用新型的一實施方式所涉及的激光修復裝置的整體結構的說明圖。
[0019]圖2是表示成為處理對象的基板的結構例的說明圖。
[0020]圖3是表示本實用新型的實施方式所涉及的激光修復裝置中的激光振蕩部的結構例的說明圖。
【具體實施方式】
[0021]以下，參照附圖對本實用新型的實施方式進行說明。圖1是表示本實用新型的一實施方式所涉及的激光修復裝置的整體結構的說明圖。激光修復裝置1例如具備激光振蕩部10、激光掩膜11、鏡筒部12、顯微鏡部13、目鏡光學系統(tǒng)14、攝像部15、物鏡光學系統(tǒng)16及操作部17等。該激光修復裝置1將從激光振蕩部10射出的激光經(jīng)由激光掩膜11、鏡筒部12、顯微鏡部13及物鏡光學系統(tǒng)16而照射于處理對象的基板2上，從而，對支承于支承臺2A上的基板2上的特定膜實施修復處理。用顯微鏡部13將基于激光而形成的激光掩膜11的影像投影照射于被照射面，由此，進行對象物的加工。
[0022]圖2是表示成為處理對象的基板的結構例的說明圖。本實用新型的實施方式所涉及的激光修復裝置1通過對形成有不同種類的多層膜的基板上的特定膜照射激光而實施修復處理。圖2示意地表示使用了多晶硅的TFT基板的剖視圖。這種基板2在玻璃基板20上形成有基底絕緣膜21，在該基底絕緣膜21上形成有多晶硅TFT。多晶硅層22由以高濃度摻雜有雜質的源極區(qū)域22S、漏極區(qū)域22D、及它們之間的通道區(qū)域22C構成。多晶硅層22上形成有柵極絕緣膜23，另外，在該柵極絕緣膜23上形成有柵極電極24及柵極線(未圖示)。經(jīng)由在層間絕緣膜25及其下方的柵極絕緣膜23上形成的開口部，透明導電膜(ΙΤ0膜)26被連接于漏極區(qū)域22D，源極線27被連接于源極區(qū)域22S。最上層為保護膜28，有時省略該保護膜28。
[0023]在這種基板2中，例如，將處理對象的特定膜作為透明導電膜(ΙΤ0膜)26，并對其照射激光而進行修復處理時，需要不會給其下層的絕緣膜(層間絕緣膜25或基底絕緣膜21)帶來不良影響的處理。本實用新型的實施方式所涉及的激光修復裝置1在層疊有不同種類的多層膜的情況下，著眼于作為處理對象的特定膜和其他膜中激光的吸収波長不同，在作為處理對象的特定膜上，通過照射吸收最多的特定波長的激光，能夠僅對特定膜進行選擇性的修復處理。此時，將激光的特定波長設為高純度，由此，能夠僅對特定膜高精度地進行選擇性的修復處理。
[0024]圖3是表示本實用新型的實施方式所涉及的激光修復裝置中的激光振蕩部的結構例的說明圖。在此，激光修復裝置1表示用于僅對所述特定膜進行選擇性的修復處理的具體的結構。
[0025]本實用新型的實施方式所涉及的激光修復裝置1具備激光源3、波長轉換部4及傳輸光學系統(tǒng)5。激光源3輸出規(guī)定的振蕩波長的激光。波長轉換部4將從激光源射出的激光的波長λ s轉換成在作為處理對象的特定膜上吸収最多的特定波長At。波長轉換部4能夠例如由多個波長轉換元件(第1波長轉換元件(第1非線形晶體)4A、第2波長轉換元件(第2非線形晶體)4B)構成。在該情況下，以一個波長轉換元件(第1波長轉換元件4A)來將振蕩波長AS轉換成中間波長λm，并