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      渦電流傳感器以及研磨方法和裝置與流程

      文檔序號:12006299閱讀:來源:國知局
      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明提供一種無需提升渦電流傳感器的振蕩頻率、內(nèi)部電路的放大率及勵磁電壓,并且即使不在研磨臺內(nèi)的不同位置設(shè)置靈敏度不同的多個傳感器,也可以正確檢測半導(dǎo)體晶片等基板上的金屬薄膜(或?qū)щ娦员∧ぃ┑臏u電流傳感器。該渦電流傳感器為配置于形成有金屬膜或?qū)щ娦阅さ幕錡的附近、檢測金屬膜或?qū)щ娦阅ど闲纬傻臏u電流的渦電流傳感器(50),其構(gòu)成為,將卷繞了導(dǎo)線或?qū)щ婓w的尺寸不同的多個線圈(63A、63B)互相分離配置為外側(cè)的線圈(63B)包圍內(nèi)側(cè)的線圈(63A),多個線圈(63A、63B)各自分別檢測金屬膜或?qū)щ娦阅ど闲纬傻臏u電流。

      技術(shù)研發(fā)人員:高橋太郎;多田光男
      受保護的技術(shù)使用者:株式會社荏原制作所
      文檔號碼:201310110317
      技術(shù)研發(fā)日:2013.03.29
      技術(shù)公布日:2017.03.01

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