1.一種涂布材料，其包含Cr含量>95質(zhì)量％的形成含Cr粒子的富含Cr的區(qū)域，其特征在于至少一些所述含Cr粒子以聚集物或聚結(jié)物的形式存在。
2.一種涂布材料，其包含Cr含量>95質(zhì)量％的形成含Cr區(qū)域的富含Cr的區(qū)域，其特征在于至少一些含Cr粒子具有孔。
3.一種涂布材料，其包含Cr含量>95質(zhì)量％的形成含Cr粒子的富含Cr的區(qū)域，其特征在于所述富含Cr的區(qū)域的平均納米硬度HIT 0.005/5/1/5≤4GPa。
4.一種涂布材料，其包含Cr含量>95質(zhì)量％的形成含Cr粒子的富含Cr的區(qū)域，其特征在于所述含Cr粒子的平均表面積借助于BET測(cè)量是>0.05m2/g。
5.根據(jù)權(quán)利要求1、2或4所述的涂布材料，其特征在于所述富含Cr的區(qū)域的平均納米硬度HIT0.005/5/1/5≤4GPa。
6.根據(jù)權(quán)利要求1、3或4所述的涂布材料，其特征在于至少一些所述含Cr粒子具有孔。
7.根據(jù)權(quán)利要求2、3或4所述的涂布材料，其特征在于至少一些所述含Cr粒子以聚集物或聚結(jié)物的形式存在。
8.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的涂布材料，其特征在于所述含Cr粒子的平均表面積借助于BET測(cè)量是>0.05m2/g。
9.根據(jù)前述權(quán)利要求中的一項(xiàng)權(quán)利要求所述的涂布材料，其特征在于其以粉末或顆粒形式存在。
10.根據(jù)前述權(quán)利要求中的一項(xiàng)權(quán)利要求所述的涂布材料，其特征在于至少一些所述含Cr粒子的平均孔隙率借助于定量圖像分析測(cè)定是>10體積％。
11.根據(jù)前述權(quán)利要求中的一項(xiàng)權(quán)利要求所述的涂布材料，其特征在于將具有與Cr相比較低的屈服強(qiáng)度的材料施用于所述含Cr粒子的表面，至少在區(qū)域中。
12.根據(jù)前述權(quán)利要求中的一項(xiàng)權(quán)利要求所述的涂布材料，其特征在于所述含Cr粒子的平均粒徑/粒度d50借助于激光衍射測(cè)定法測(cè)量是5μm<d50<150μm。
13.根據(jù)前述權(quán)利要求中的一項(xiàng)權(quán)利要求所述的涂布材料，其特征在于所述涂布材料包含至少一種來自由硬質(zhì)材料和潤滑劑組成的群組的組分。
14.根據(jù)前述權(quán)利要求中的一項(xiàng)權(quán)利要求所述的涂布材料，其特征在于所述涂布材料包含至少一種其它金屬或是粉末混合物的成分。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的涂布材料，其特征在于所述粉末混合物具有MCrAlY合金的組成。
16.根據(jù)權(quán)利要求1到14中的一項(xiàng)權(quán)利要求所述的涂布材料，其特征在于所述Cr含量>50質(zhì)量％。
17.一種用于產(chǎn)生涂層的方法，其使用根據(jù)權(quán)利要求1到16中的一項(xiàng)權(quán)利要求所述的涂布材料。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其特征在于所述涂布材料的產(chǎn)生包含任選地用添加的固體碳源在氫氣和烴的至少暫時(shí)作用下還原至少一種來自由Cr氧化物和Cr氫氧化物組成的群組的化合物。
19.根據(jù)權(quán)利要求17或18所述的方法，其特征在于所述涂層通過熱噴涂方法產(chǎn)生。
20.根據(jù)權(quán)利要求17到19中的一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法，其特征在于所述涂層通過冷氣噴涂產(chǎn)生。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的方法，其特征在于其包含至少以下步驟：
提供具有10到100巴的壓力和在室溫與1400℃之間的溫度的處理氣體；
在收斂擴(kuò)散噴嘴中使所述處理氣體加速；
在所述收斂擴(kuò)散噴嘴上游、當(dāng)中或下游將所述涂布材料注入到所述處理氣體中；
在所述涂布材料沖擊在襯底上時(shí)形成粘著涂層。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，其特征在于所述處理氣體是氮?dú)饣蚋缓獨(dú)獾臍怏w。
23.根據(jù)權(quán)利要求17到19中的一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法，其特征在于所述涂層通過高速火焰噴涂方法產(chǎn)生。
24.一種涂層，其具有>50質(zhì)量％的Cr含量、>20μm的平均厚度以及含有至少部分變形的含Cr晶粒的微結(jié)構(gòu)，其可通過根據(jù)權(quán)利要求20到23中的一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法獲得。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的涂層，其特征在于所述變形的含Cr晶粒是冷變形。
26.根據(jù)權(quán)利要求24或25所述的涂層，其特征在于至少一些所述晶粒在平行于層表面的方向上伸展。
27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的涂層，其特征在于所述晶粒的平均縱橫比>1.3。
28.根據(jù)權(quán)利要求24到27中的一項(xiàng)權(quán)利要求所述的涂層，其特征在于所述變形的含Cr晶粒的平均納米硬度HIT 0.005/5/1/5>4GPa。