本發(fā)明涉及蒸鍍裝置和托盤保持件。

背景技術(shù)：

作為一例，蒸鍍裝置被用于在透鏡等光學(xué)元件的表面形成反射防止膜。蒸鍍裝置包括用于釋放出形成膜的物質(zhì)的蒸鍍源、和覆蓋蒸鍍源并能夠繞中心軸旋轉(zhuǎn)的拱頂。在拱頂上安裝有多個(gè)托盤，在各個(gè)托盤上安裝有多個(gè)工件，例如透鏡。

利用上述蒸鍍裝置來處理工件的工藝包括蒸鍍準(zhǔn)備步驟和蒸鍍步驟。蒸鍍準(zhǔn)備步驟包括：在蒸鍍裝置上安裝工件；準(zhǔn)備蒸鍍源；以及生成蒸鍍用環(huán)境。在蒸鍍步驟中，在蒸鍍用環(huán)境中從蒸鍍源釋放出的物質(zhì)到達(dá)安裝于拱頂?shù)墓ぜ?，形成該物質(zhì)的膜。

在蒸鍍準(zhǔn)備步驟中，蒸鍍裝置的動(dòng)作被中斷。因此，為了提高蒸鍍裝置的生產(chǎn)效率，需要縮短由于蒸鍍準(zhǔn)備步驟造成的蒸鍍裝置的中斷時(shí)間。

在現(xiàn)有技術(shù)中，開發(fā)了如下的蒸鍍裝置：其構(gòu)成為將拱頂分割為多個(gè)片段，使在雙面安裝了工件的該片段翻轉(zhuǎn)(例如，專利文獻(xiàn)1的圖2和圖6)。利用上述結(jié)構(gòu)，能夠縮短由于蒸鍍準(zhǔn)備步驟造成的蒸鍍裝置的中斷時(shí)間，提高生產(chǎn)效率。

但是，在上述結(jié)構(gòu)中，無法相對于蒸鍍源以適當(dāng)?shù)慕嵌扰渲霉ぜ?。因此，無法對多個(gè)工件均勻進(jìn)行蒸鍍。并且，蒸鍍裝置的生產(chǎn)效率的提高也不充分。

專利文獻(xiàn)1：日本特開2011-179102號公報(bào)

因此，對于對多個(gè)工件均勻進(jìn)行蒸鍍、并且進(jìn)一步提高了生產(chǎn)效率的蒸鍍裝置和托盤保持件存在需求。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的第1方式的托盤保持件具有：框架，其具有第1旋轉(zhuǎn)部件；以及旋轉(zhuǎn)部，其具有第2旋轉(zhuǎn)部件，并被安裝成能夠與所述第2旋轉(zhuǎn)部件一起繞被所述框架支承的軸旋轉(zhuǎn)。所述旋轉(zhuǎn)部具有繞所述軸配置的多個(gè)工件保持用托盤，所述第2旋轉(zhuǎn)部件構(gòu) 成為，通過所述第1旋轉(zhuǎn)部件與所述旋轉(zhuǎn)部一起旋轉(zhuǎn)。

本方式的托盤保持件能夠?qū)ぜ３钟猛斜P進(jìn)行切換，其中，該工件保持用托盤配置成在安裝到蒸鍍裝置的拱頂?shù)拈_口中時(shí)，通過拱頂?shù)男D(zhuǎn)，其面覆蓋拱頂?shù)拈_口。因此，能夠縮短由于蒸鍍準(zhǔn)備步驟造成的蒸鍍裝置的中斷時(shí)間，提高蒸鍍裝置的生產(chǎn)效率。

本發(fā)明的第2方式的蒸鍍裝置具有：蒸鍍源；能夠旋轉(zhuǎn)的拱頂，其覆蓋所述蒸鍍源，并具有至少一個(gè)開口；至少一個(gè)第1桿，其設(shè)置于所述拱頂?shù)耐鈧?cè)；以及至少一個(gè)托盤保持件，該托盤保持件具有：框架，其具有第1旋轉(zhuǎn)部件；以及旋轉(zhuǎn)部，其具有第2旋轉(zhuǎn)部件，并被安裝成能夠與所述第2旋轉(zhuǎn)部件一起繞被所述框架支承的軸旋轉(zhuǎn)。所述旋轉(zhuǎn)部具有繞所述軸配置的多個(gè)工件保持用托盤，所述托盤保持件以所述多個(gè)工件保持用托盤中的1個(gè)工件保持用托盤的面覆蓋所述至少一個(gè)開口的方式設(shè)置于所述拱頂，所述至少一個(gè)第1桿構(gòu)成為，能夠處于在所述拱頂?shù)男D(zhuǎn)中不與所述第1旋轉(zhuǎn)部件接觸的待機(jī)位置、和在所述拱頂?shù)男D(zhuǎn)中能夠與所述第1旋轉(zhuǎn)部件接觸的工作位置，所述第1旋轉(zhuǎn)部件構(gòu)成為，在所述至少一個(gè)第1桿處于工作位置的情況下，在所述拱頂?shù)男D(zhuǎn)中，通過與所述至少一個(gè)第1桿接觸而進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，所述第2旋轉(zhuǎn)部件構(gòu)成為，以在所述拱頂?shù)男D(zhuǎn)中，對配置成其面覆蓋所述開口的工件保持用托盤進(jìn)行切換的方式，通過所述第1旋轉(zhuǎn)部件與所述旋轉(zhuǎn)部一起旋轉(zhuǎn)。

在本方式的蒸鍍裝置中，托盤保持部具有多個(gè)工件保持用托盤，且能夠通過拱頂?shù)男D(zhuǎn)，對配置成其面覆蓋拱頂?shù)拈_口的工件保持用托盤進(jìn)行切換。因此，能夠縮短由于蒸鍍準(zhǔn)備步驟造成的蒸鍍裝置的中斷時(shí)間，提高蒸鍍裝置的生產(chǎn)效率。此外，由于拱頂?shù)男螤钆c以往的蒸鍍裝置沒有區(qū)別，所以能夠與以往的蒸鍍裝置同樣地進(jìn)行均勻的蒸鍍。

本發(fā)明的第2方式的第1實(shí)施方式的蒸鍍裝置還具有：設(shè)置在所述拱頂?shù)耐鈧?cè)的至少一個(gè)第1檢測用觸點(diǎn)，所述旋轉(zhuǎn)部還具有托盤顯示用觸點(diǎn)，該托盤顯示用觸點(diǎn)分別與所述多個(gè)工件保持用托盤對應(yīng)，在所述拱頂?shù)男D(zhuǎn)中，與所述至少一個(gè)第1檢測用觸點(diǎn)接觸。

根據(jù)本實(shí)施方式，能夠在拱頂?shù)男D(zhuǎn)中，檢測托盤保持件內(nèi)的托盤的相對位置。因此，能夠在拱頂?shù)男D(zhuǎn)中，針對安裝于拱頂?shù)乃型斜P保持件，確認(rèn)托盤的切換動(dòng)作。

本發(fā)明的第2方式的第2實(shí)施方式的蒸鍍裝置還具有設(shè)置在所述拱頂?shù)耐鈧?cè)的至少一個(gè)第2桿，所述旋轉(zhuǎn)部具有分別與所述多個(gè)工件保持用托盤對應(yīng)的第3旋轉(zhuǎn)部件，所述多個(gè)工件保持用托盤分別具有第4旋轉(zhuǎn)部件，并被安裝成能夠與所述第4旋轉(zhuǎn)部件一起繞被所述旋轉(zhuǎn)部支承的軸旋轉(zhuǎn)，所述至少一個(gè)第2桿構(gòu)成為，能夠處于在所述拱頂?shù)男D(zhuǎn)中不與所述第3旋轉(zhuǎn)部件接觸的待機(jī)位置、和在所述拱頂?shù)男D(zhuǎn)中能夠與所述第3旋轉(zhuǎn)部件接觸的工作位置，所述第3旋轉(zhuǎn)部件構(gòu)成為，在所述至少一個(gè)第2桿處于工作位置的情況下，在所述拱頂?shù)男D(zhuǎn)中，通過與所述至少一個(gè)第2桿接觸而進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，所述第4旋轉(zhuǎn)部件構(gòu)成為，以分別使所述多個(gè)工件保持用托盤翻轉(zhuǎn)的方式，分別通過所述第3旋轉(zhuǎn)部件與所述多個(gè)工件保持用托盤一起旋轉(zhuǎn)。

在本實(shí)施方式的蒸鍍裝置中，能夠在拱頂?shù)男D(zhuǎn)中，分別使安裝于托盤保持件的多個(gè)工件保持用托盤翻轉(zhuǎn)。因此，在托盤的雙面安裝工件，在安裝于一個(gè)面的工件的處理結(jié)束之后，使托盤翻轉(zhuǎn)，對安裝于另一個(gè)面的工件進(jìn)行處理，由此能夠進(jìn)一步提高蒸鍍裝置的生產(chǎn)效率。

本發(fā)明的第2方式的第3實(shí)施方式的蒸鍍裝置還具有設(shè)置在所述拱頂?shù)耐鈧?cè)的至少一個(gè)第2檢測用觸點(diǎn)，所述多個(gè)工件保持用托盤還分別具有托盤面顯示用觸點(diǎn)，該托盤面顯示用觸點(diǎn)在所述拱頂?shù)男D(zhuǎn)中，與所述至少一個(gè)第2檢測用觸點(diǎn)接觸。

根據(jù)本實(shí)施方式，能夠在拱頂?shù)男D(zhuǎn)中檢測托盤面。因此，能夠在拱頂?shù)男D(zhuǎn)中，針對安裝于拱頂?shù)乃型斜P保持件，確認(rèn)托盤的翻轉(zhuǎn)動(dòng)作。

本發(fā)明的第2方式的第4實(shí)施方式的蒸鍍裝置還具有設(shè)置在所述拱頂?shù)耐鈧?cè)的第3檢測用觸點(diǎn)，至少一個(gè)工件保持用托盤保持件包括多個(gè)工件保持用托盤保持件，所述多個(gè)工件保持用托盤保持件中的一個(gè)還具有至少一個(gè)旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)位置顯示用觸點(diǎn)，該至少一個(gè)旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)位置顯示用觸點(diǎn)在所述拱頂?shù)男D(zhuǎn)中，與所述第3檢測用觸點(diǎn)接觸。

根據(jù)本實(shí)施方式，能夠在拱頂?shù)男D(zhuǎn)中檢測拱頂?shù)男D(zhuǎn)基準(zhǔn)位置。因此，能夠針對安裝于拱頂?shù)乃型斜P保持件，可靠地進(jìn)行托盤的切換動(dòng)作和托盤的翻轉(zhuǎn)動(dòng)作。

在本發(fā)明的第2方式的第5實(shí)施方式的蒸鍍裝置中，所述旋轉(zhuǎn)部具有3個(gè)工件保持用托盤。

附圖說明

圖1是示出本發(fā)明的蒸鍍裝置的結(jié)構(gòu)的圖。

圖2是用于說明本發(fā)明的蒸鍍裝置的特征性結(jié)構(gòu)的圖。

圖3是托盤保持件的主視圖。

圖4是托盤保持件的側(cè)視圖。

圖5是托盤保持件的后視圖。

圖6是用于說明本發(fā)明的蒸鍍裝置進(jìn)行的蒸鍍工藝的流程圖。

圖7是用于說明以往的蒸鍍裝置和本發(fā)明的蒸鍍裝置進(jìn)行的蒸鍍準(zhǔn)備工藝和蒸鍍工藝的圖。

圖8是用于說明利用旋轉(zhuǎn)部的旋轉(zhuǎn)進(jìn)行的托盤切換動(dòng)作的流程圖。

圖9是用于說明托盤的翻轉(zhuǎn)動(dòng)作的流程圖。

圖10A是用于說明旋轉(zhuǎn)部旋轉(zhuǎn)120度的動(dòng)作的圖。

圖10B是用于說明旋轉(zhuǎn)部旋轉(zhuǎn)120度的動(dòng)作的圖。

圖10C是用于說明旋轉(zhuǎn)部旋轉(zhuǎn)120度的動(dòng)作的圖。

圖10D是用于說明旋轉(zhuǎn)部旋轉(zhuǎn)120度的動(dòng)作的圖。

圖10E是用于說明旋轉(zhuǎn)部旋轉(zhuǎn)120度的動(dòng)作的圖。

圖10F是用于說明旋轉(zhuǎn)部旋轉(zhuǎn)120度的動(dòng)作的圖。

圖10G是用于說明旋轉(zhuǎn)部旋轉(zhuǎn)120度的動(dòng)作的圖。

圖10H是用于說明旋轉(zhuǎn)部旋轉(zhuǎn)120度的動(dòng)作的圖。

圖10I是用于說明旋轉(zhuǎn)部旋轉(zhuǎn)120度的動(dòng)作的圖。

圖10J是用于說明旋轉(zhuǎn)部旋轉(zhuǎn)120度的動(dòng)作的圖。

圖10K是用于說明旋轉(zhuǎn)部旋轉(zhuǎn)120度的動(dòng)作的圖。

圖10L是用于說明旋轉(zhuǎn)部旋轉(zhuǎn)120度的動(dòng)作的圖。

圖11A是用于說明托盤旋轉(zhuǎn)180度的動(dòng)作的圖。

圖11B是用于說明托盤旋轉(zhuǎn)180度的動(dòng)作的圖。

圖11C是用于說明托盤旋轉(zhuǎn)180度的動(dòng)作的圖。

圖12是用于說明托盤的識別、托盤的面的識別和旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)位置檢測的圖。

圖13是示出通過本發(fā)明的蒸鍍裝置在表面形成膜的光學(xué)元件和通過現(xiàn)有技術(shù)的蒸鍍裝置在表面形成膜的光學(xué)元件的、光的波長與反射率之間的關(guān)系的圖。

圖14是用于說明蒸鍍工藝的光學(xué)監(jiān)視的原理的圖。

圖15A是示出第1層膜的處理時(shí)間與光量之間的關(guān)系的圖。

圖15B是示出第2層膜的處理時(shí)間與光量之間的關(guān)系的圖。

圖15C是示出第3層膜的處理時(shí)間與光量之間的關(guān)系的圖。

圖15D是示出第4層膜的處理時(shí)間與光量之間的關(guān)系的圖。

具體實(shí)施方式

圖1是示出本發(fā)明的蒸鍍裝置100的結(jié)構(gòu)的圖。蒸鍍裝置100包括蒸鍍源120、拱頂110、以及將它們圍起的腔室130。腔室130通過使用排氣口135進(jìn)行排氣，被保持為規(guī)定的真空度。拱頂110構(gòu)成為在其內(nèi)表面安裝工件200，并設(shè)置成覆蓋蒸鍍源120。從蒸鍍源120釋放出的物質(zhì)到達(dá)安裝于拱頂110的內(nèi)表面的工件200，并被蒸鍍到其表面，該拱頂110覆蓋蒸鍍源120。為了對安裝于拱頂110的內(nèi)表面的多個(gè)工件200均勻蒸鍍物質(zhì)，在蒸鍍工藝中，通過未圖示的驅(qū)動(dòng)部使拱頂110繞其中心軸旋轉(zhuǎn)。工件200作為一例是透鏡等光學(xué)元件，被安裝于未圖示的托盤，該托盤被安裝于拱頂110的內(nèi)表面。上述記述在本發(fā)明的蒸鍍裝置100和以往的蒸鍍裝置中共同適用。以下說明本發(fā)明的蒸鍍裝置100的特征性結(jié)構(gòu)。

圖2是用于說明本發(fā)明的蒸鍍裝置100的特征性結(jié)構(gòu)的圖。本發(fā)明的蒸鍍裝置100具有設(shè)置于拱頂110的外表面的托盤保持件1000。托盤保持件1000構(gòu)成為具有多個(gè)工件保持用托盤，并且其中的1個(gè)托盤被配置在設(shè)置于拱頂110的開口中。通過依次將多個(gè)工件保持用托盤配置到拱頂110的開口中，與使工件保持用托盤固定于拱頂110的內(nèi)表面的以往的蒸鍍裝置相比，能夠高效地處理更多工件。之后將說明處理的詳細(xì)內(nèi)容。

本發(fā)明的蒸鍍裝置100還具有安裝于腔室130的固定機(jī)構(gòu)1500。固定機(jī)構(gòu)1500作用于與拱頂110一起繞其中心軸旋轉(zhuǎn)的托盤保持件1000。之后將說明托盤保持件1000和固定機(jī)構(gòu)1500的動(dòng)作的詳細(xì)內(nèi)容。

圖3是托盤保持件1000的主視圖。

圖4是托盤保持件1000的側(cè)視圖。

圖5是托盤保持件1000的后視圖。

托盤保持件1000包括框架1100F和1100R、以及旋轉(zhuǎn)部1200。如圖3所示，在框架1100F的正面設(shè)置有包括葉輪1101和旋轉(zhuǎn)板1103的第1旋轉(zhuǎn)部件。葉輪1101 和旋轉(zhuǎn)板1103一體旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)板1103具有銷1105。旋轉(zhuǎn)部1200包括托盤1251A、1251B和1251C、以及槽輪1211。如圖4所示，旋轉(zhuǎn)部1200構(gòu)成為繞被框架1100F和1100R支承的軸1213旋轉(zhuǎn)。當(dāng)旋轉(zhuǎn)板1103旋轉(zhuǎn)時(shí)，銷1105與槽輪1211的槽卡合，使槽輪1211繞軸1213旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)部1200與槽輪1211一起旋轉(zhuǎn)。這樣，旋轉(zhuǎn)部1200繞軸1213旋轉(zhuǎn)。

固定機(jī)構(gòu)1500包括具有桿1503F和1503R的第1桿保持部1501。在第1桿保持部1501處于待機(jī)位置時(shí)，在拱頂110的旋轉(zhuǎn)中，桿1503F和1503R不與框架1100的葉輪1101接觸。在第1桿保持部1501處于工作位置時(shí)，在拱頂110的旋轉(zhuǎn)中，桿1503F和1503R與框架1100的葉輪1101接觸，使葉輪1101旋轉(zhuǎn)。這樣，在拱頂110的旋轉(zhuǎn)中，桿1503F和1503R使葉輪1101旋轉(zhuǎn)時(shí)，具有槽輪1211的旋轉(zhuǎn)部1200旋轉(zhuǎn)。能夠通過旋轉(zhuǎn)部1200旋轉(zhuǎn)，切換配置到拱頂110的開口中的托盤。之后將詳細(xì)說明利用旋轉(zhuǎn)部1200的旋轉(zhuǎn)進(jìn)行的托盤切換動(dòng)作。

如圖5所示，旋轉(zhuǎn)部1200包括分別與托盤1251A、1251B和1251C對應(yīng)的第2旋轉(zhuǎn)部件。作為一例，與托盤1251C對應(yīng)的第2旋轉(zhuǎn)部件包括葉輪1231C和旋轉(zhuǎn)板1233C。葉輪1231C和旋轉(zhuǎn)板1233C一體旋轉(zhuǎn)。托盤1251C具有旋轉(zhuǎn)板1253C，并被安裝成能夠繞被旋轉(zhuǎn)部1200支承的軸旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)板1233C和旋轉(zhuǎn)板1253C通過齒輪進(jìn)行卡合，當(dāng)葉輪1231C旋轉(zhuǎn)時(shí)，具有旋轉(zhuǎn)板1253C的托盤1251C旋轉(zhuǎn)。

固定機(jī)構(gòu)1500包括具有桿1543F和1543R的第2桿保持部1541。在第2桿保持部1541處于待機(jī)位置時(shí)，在拱頂110的旋轉(zhuǎn)中，桿1543F和1543R不與旋轉(zhuǎn)軸1200的葉輪1231C接觸。在第2桿保持部1541處于工作位置時(shí)，在拱頂110的旋轉(zhuǎn)中，桿1543F和1543R與旋轉(zhuǎn)軸1200的葉輪1231C接觸，使葉輪1231C旋轉(zhuǎn)。這樣，在拱頂110的旋轉(zhuǎn)中，桿1543F和1543R使葉輪1231C旋轉(zhuǎn)時(shí)，具有旋轉(zhuǎn)板1253C的托盤1251C旋轉(zhuǎn)。通過使托盤1251C旋轉(zhuǎn)，能夠使托盤的外側(cè)的面和內(nèi)側(cè)的面互換。將使托盤的外側(cè)的面和內(nèi)側(cè)的面互換的情況稱作托盤的翻轉(zhuǎn)。之后將詳細(xì)說明利用托盤的旋轉(zhuǎn)進(jìn)行的托盤翻轉(zhuǎn)動(dòng)作。

圖6是用于說明本發(fā)明的蒸鍍裝置100進(jìn)行的蒸鍍作業(yè)的流程圖。

在圖6的步驟S1010中，檢測旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)位置。之后將說明旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)位置的檢測。

在圖6的步驟S1020中，使拱頂110旋轉(zhuǎn)規(guī)定周數(shù)。在此期間，利用蒸鍍工藝在工件上形成期望的膜。作為一例，蒸鍍中的拱頂110的旋轉(zhuǎn)速度為每分鐘旋轉(zhuǎn)10周 (10rpm)。

在圖6的步驟S1030中，判定是否為所有面的工件的處理都已結(jié)束。如果所有面的工件的處理結(jié)束，則結(jié)束蒸鍍作業(yè)。如果任意一個(gè)工件的處理未結(jié)束，則進(jìn)入步驟S1040。

在圖6的步驟S1040中，進(jìn)行托盤的切換和托盤的翻轉(zhuǎn)中的至少一方。之后，返回到步驟S1010。托盤的切換和托盤的翻轉(zhuǎn)可以按照任意順序進(jìn)行。如上所述，托盤的切換和托盤的翻轉(zhuǎn)是在拱頂110的旋轉(zhuǎn)中進(jìn)行的。作為一例，托盤的切換和托盤的翻轉(zhuǎn)時(shí)的拱頂110的旋轉(zhuǎn)速度為每分鐘旋轉(zhuǎn)2周(2rpm)。之后將詳細(xì)說明托盤的切換動(dòng)作和托盤的翻轉(zhuǎn)動(dòng)作。

在蒸鍍裝置100不具有托盤的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的情況、或即使具有托盤的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)也僅在托盤的一個(gè)面安裝了工件的情況下，不進(jìn)行托盤的翻轉(zhuǎn)。

圖7是用于說明以往的蒸鍍裝置和本發(fā)明的蒸鍍裝置進(jìn)行的蒸鍍準(zhǔn)備步驟和蒸鍍步驟的圖。

在使用以往的蒸鍍裝置的情況下，依次實(shí)施以下的步驟。

步驟1)、2)和4)是蒸鍍準(zhǔn)備步驟。上述時(shí)間表示各步驟的所需時(shí)間。成膜準(zhǔn)備步驟包括蒸鍍源120的準(zhǔn)備等。抽真空步驟包括使用排氣口135進(jìn)行腔室130的排氣，使腔室內(nèi)成為規(guī)定的真空度。成膜步驟包括蒸鍍工藝。大氣開放步驟包括使腔室130向大氣開放。

在使用本發(fā)明的蒸鍍裝置100的情況下，依次實(shí)施以下的步驟。另外這里，說明不進(jìn)行托盤的翻轉(zhuǎn)而僅進(jìn)行托盤的切換的情況。

步驟1)、2)、4)、6)和8)是蒸鍍準(zhǔn)備步驟。成膜準(zhǔn)備步驟、抽真空步驟、成膜步驟和大氣開放步驟與使用以往的蒸鍍裝置的情況相同。

這里，用相對于整體所需時(shí)間(蒸鍍步驟和蒸鍍準(zhǔn)備步驟的所需時(shí)間)的蒸鍍步驟所需時(shí)間來表示效率，并對使用以往的蒸鍍裝置的情況下的效率和使用本發(fā)明的蒸鍍裝置100的情況下的效率進(jìn)行比較。使用以往的蒸鍍裝置的情況下的效率如下。

23/(7+22+23+13)＝35.4％

使用本發(fā)明的蒸鍍裝置100的情況下的效率如下。

(23×3)/(7+22+23×3+3×2+13)＝59.0％

這樣，通過使用本發(fā)明的蒸鍍裝置100，效率得到大幅度改善。

接著，說明圖6的步驟S1040所示的、利用旋轉(zhuǎn)部1200的旋轉(zhuǎn)進(jìn)行的托盤切換動(dòng)作。

圖8是用于說明利用旋轉(zhuǎn)部1200的旋轉(zhuǎn)進(jìn)行的托盤切換動(dòng)作的流程圖。

在圖8的步驟S2010中，檢測旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)位置。之后將說明旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)位置的檢測。

在圖8的步驟S2020中，如圖3所示，使第1桿保持部1501從待機(jī)位置下降到工作位置。其結(jié)果是，在拱頂110的旋轉(zhuǎn)中，第1桿1503F和1503R成為能夠與設(shè)置于框架1100F的葉輪1101接觸的狀態(tài)。

在圖8的步驟S2030中，旋轉(zhuǎn)部1200旋轉(zhuǎn)120度，設(shè)置在拱頂110的開口中的托盤從1251A切換到1251B。

圖10A至圖10L是用于說明旋轉(zhuǎn)部1200旋轉(zhuǎn)120度的動(dòng)作的圖。

圖10A示出第1桿1503F與葉輪1101接觸之前的狀態(tài)。

圖10B示出第1桿1503F與葉輪1101接觸、并使葉輪1101和旋轉(zhuǎn)板1103旋轉(zhuǎn)90度之后的狀態(tài)。在圖10B中，第1桿1503R不與葉輪1101接觸。

另外，在示出旋轉(zhuǎn)部1200的正面的圖10A至圖10L中，桿從右向左移動(dòng)。

圖10C示出第1桿1503R與葉輪1101接觸、并使葉輪1101和旋轉(zhuǎn)板1103進(jìn)一步旋轉(zhuǎn)90度之后的狀態(tài)。旋轉(zhuǎn)板1103的銷1105與槽輪1211的槽卡合，使槽輪1211旋轉(zhuǎn)30度。

如圖10A至圖10C所示，第1桿1503F和1503R使旋轉(zhuǎn)板1103旋轉(zhuǎn)180度，使槽輪1211旋轉(zhuǎn)30度。

如圖10D至圖10F所示，當(dāng)拱頂110進(jìn)一步旋轉(zhuǎn)1周時(shí)，第1桿1503F和1503R使旋轉(zhuǎn)板1103進(jìn)一步旋轉(zhuǎn)180度，使槽輪1211進(jìn)一步旋轉(zhuǎn)30度。

如圖10G至圖10I所示，當(dāng)拱頂110進(jìn)一步旋轉(zhuǎn)1周時(shí)，第1桿1503F和1503R使旋轉(zhuǎn)板1103進(jìn)一步旋轉(zhuǎn)180度，使槽輪1211進(jìn)一步旋轉(zhuǎn)30度。

如圖10J至圖10L所示，當(dāng)拱頂110進(jìn)一步旋轉(zhuǎn)1周時(shí)，第1桿1503F和1503R使旋轉(zhuǎn)板1103進(jìn)一步旋轉(zhuǎn)180度，使槽輪1211進(jìn)一步旋轉(zhuǎn)30度。

這樣，當(dāng)拱頂110旋轉(zhuǎn)4周時(shí)，旋轉(zhuǎn)部1200旋轉(zhuǎn)120度，配置在拱頂110的開口中的托盤從1251A切換到1251B。

在圖8的步驟S2040中，識別托盤并確認(rèn)托盤的位置。之后將說明托盤的識別。

接著，說明圖6的步驟S1040所示的托盤的翻轉(zhuǎn)動(dòng)作。

圖9是用于說明托盤的翻轉(zhuǎn)動(dòng)作的流程圖。

在圖9的步驟S3010中，檢測旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)位置。之后將說明旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)位置的檢測。

在圖9的步驟S3020中，如圖5所示那樣使第2桿保持部1541從待機(jī)位置下降到工作位置。其結(jié)果是，在拱頂110的旋轉(zhuǎn)中，第2桿1543F和1543R成為能夠與設(shè)置于旋轉(zhuǎn)部1200的葉輪1231A、1231B或1231C接觸的狀態(tài)。

在圖9的步驟S3030中，托盤旋轉(zhuǎn)180度。

圖11A至圖11C是用于說明托盤1253A旋轉(zhuǎn)180度的動(dòng)作的圖。

圖11A示出第2桿1543F與葉輪1231A接觸之前的狀態(tài)。

圖11B示出第2桿1543F與葉輪1231A接觸、并使葉輪1231A和旋轉(zhuǎn)板1233A旋轉(zhuǎn)90度之后的狀態(tài)。當(dāng)旋轉(zhuǎn)板1233A旋轉(zhuǎn)90度時(shí)，通過齒輪與旋轉(zhuǎn)板1233A卡合的旋轉(zhuǎn)板1253A也旋轉(zhuǎn)90度，托盤1251A也旋轉(zhuǎn)90度。在圖11B中，第2桿1543R不與葉輪1231A接觸。

另外，如上所述，在示出旋轉(zhuǎn)部1200的正面的圖10A至圖10L中，桿從右向左移動(dòng)，與此相對，在示出旋轉(zhuǎn)部的背面的圖11A至圖11C中，桿從左向右移動(dòng)。

圖11C示出第2桿1543R與葉輪1231A接觸、并使葉輪1231A和旋轉(zhuǎn)板1233A進(jìn)一步旋轉(zhuǎn)90度之后的狀態(tài)。

這樣，當(dāng)拱頂110旋轉(zhuǎn)1周時(shí)，托盤旋轉(zhuǎn)180度。

在圖9的步驟S3040中，識別并確認(rèn)托盤的面。之后將說明托盤的面的識別。

接著，說明托盤的識別、托盤的面的識別和旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)位置檢測。

圖12是用于說明托盤的識別、托盤的面的識別和旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)位置檢測的圖。

托盤1251A、1251B和1251C分別具有托盤顯示用觸點(diǎn)1255A、1255B和1255C。固定機(jī)構(gòu)1500具有第1觸點(diǎn)保持部1511、和安裝于第1觸點(diǎn)保持部1511的3個(gè)檢測用觸點(diǎn)1513。如圖3所示，在第1觸點(diǎn)保持部1511處于工作位置的情況下，在拱頂110的旋轉(zhuǎn)中，3個(gè)檢測用觸點(diǎn)1513能夠與托盤顯示用觸點(diǎn)1255A、1255B或1255C接觸。由于托盤顯示用觸點(diǎn)1255A、1255B和1255C的形狀不同，所以能夠通過檢測3個(gè)檢測用觸點(diǎn)1513與托盤顯示用觸點(diǎn)之間的接觸狀態(tài)，進(jìn)行3個(gè)托盤的識別。

此外，托盤1251A、1251B和1251C分別具有2個(gè)托盤面顯示用觸點(diǎn)1257AT和1257AB、1257BT和1257BB以及1257CT和1257CB。固定機(jī)構(gòu)1500具有第2觸點(diǎn)保持部1521、和安裝于觸點(diǎn)保持部1521的3個(gè)檢測用觸點(diǎn)1523。在第2觸點(diǎn)保持部1521處于工作位置的情況下，在拱頂110的旋轉(zhuǎn)中，3個(gè)檢測用觸點(diǎn)1523例如能夠與托盤面顯示用觸點(diǎn)1257AT或1257AB接觸。由于托盤面顯示用觸點(diǎn)1257AT的形狀與托盤面顯示用觸點(diǎn)1257AB的形狀不同，所以能夠通過檢測3個(gè)檢測用觸點(diǎn)1523與托盤面顯示用觸點(diǎn)1257AT或1257AB之間的接觸狀態(tài)，進(jìn)行托盤面的識別。另外，用于進(jìn)行托盤面的識別的檢測用觸點(diǎn)也可以是2個(gè)。

設(shè)置于拱頂110的多個(gè)托盤保持件1000中的一個(gè)所保持的3個(gè)托盤1251A、1251B和1251C分別具有旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)位置顯示用觸點(diǎn)1256A、1256B和1256C。固定機(jī)構(gòu)1500具有第3觸點(diǎn)保持部1531、和安裝于觸點(diǎn)保持部1531的1個(gè)檢測用觸點(diǎn)1533。在第3觸點(diǎn)保持部1531處于工作位置的情況下，在拱頂110的旋轉(zhuǎn)中，檢測用觸點(diǎn)1533能夠與旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)位置顯示用觸點(diǎn)1256A、1256B或1256C接觸。這樣，能夠檢測拱頂110的旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)位置。

圖13是示出通過本發(fā)明的蒸鍍裝置在表面形成膜的光學(xué)元件和通過現(xiàn)有技術(shù)的蒸鍍裝置在表面形成膜的光學(xué)元件的、光的波長與反射率之間的關(guān)系的圖。圖13的橫軸表示光的波長，圖13的縱軸表示反射率。在圖13中，實(shí)線表示通過本發(fā)明的蒸鍍裝置在表面形成膜的光學(xué)元件的、光的波長與反射率之間的關(guān)系，虛線表示通過現(xiàn)有技術(shù)的蒸鍍裝置在表面形成膜的光學(xué)元件的、光的波長與反射率之間的關(guān)系。根據(jù)圖13，通過本發(fā)明的蒸鍍裝置在表面形成膜的光學(xué)元件的反射率相對于波長的分布 與通過現(xiàn)有技術(shù)的蒸鍍裝置在表面形成膜的光學(xué)元件的反射率相對于波長的分布實(shí)質(zhì)上沒有區(qū)別。

圖14是用于說明蒸鍍工藝的光學(xué)監(jiān)視的圖。在蒸鍍裝置100的拱頂110安裝監(jiān)視器玻璃210，通過投光器使光從監(jiān)視器玻璃210的背面以規(guī)定的入射角入射，通過受光器測量反射光的光量。當(dāng)腔室內(nèi)的真空狀態(tài)發(fā)生變化時(shí)，監(jiān)視器玻璃210的蒸鍍膜的折射率發(fā)生變化，從而反射光的光量發(fā)生變化。因此，能夠通過測量反射光的光量，對腔室內(nèi)的真空狀態(tài)的變化進(jìn)行監(jiān)視。

圖15A至圖15D是示出從第1層到第4層的膜的處理時(shí)間與反射光的光量之間的關(guān)系的圖。橫軸表示處理時(shí)間，縱軸表示由受光器測量出的反射光的光量。在圖15A至圖15D中，實(shí)線表示本發(fā)明的蒸鍍裝置的情況下的上述關(guān)系，虛線表示現(xiàn)有技術(shù)的蒸鍍裝置的情況下的上述關(guān)系。光量的100％是入射光的光量。本發(fā)明的蒸鍍裝置的情況下的反射光的光量與現(xiàn)有技術(shù)的蒸鍍裝置的情況下的反射光的光量實(shí)質(zhì)上沒有區(qū)別。如果蒸鍍工藝的操作條件、即腔室內(nèi)的真空狀態(tài)發(fā)生變化，考慮反映到反射光的光量上時(shí)，即便使用本發(fā)明的蒸鍍裝置，與使用現(xiàn)有技術(shù)的蒸鍍裝置的情況相比，蒸鍍工藝的操作條件也不變。

這樣，本發(fā)明的蒸鍍裝置能夠以更高的生產(chǎn)效率生產(chǎn)與現(xiàn)有技術(shù)的蒸鍍裝置的光學(xué)元件相同質(zhì)量的光學(xué)元件。

雖然以上說明了托盤保持件具備3個(gè)托盤的情況，但是托盤保持件也可以具備4個(gè)以上的托盤。