1.一種沉積用掩模，沉積物質(zhì)通過所述沉積用掩模沉積到襯底上以制造顯示裝置，其包括：
沉積圖案部，供所述沉積物質(zhì)通過；
肋部，與所述沉積圖案部連接并支承所述沉積圖案部；以及
凹陷部，與所述襯底面對地凹陷形成在所述沉積圖案部和所述肋部的外圍。
2.一種沉積用掩模框架組件，包括：
框架；以及
沉積用掩模，其一面與所述框架接觸并且其另一面面對襯底，
其中，所述沉積用掩模包括：
沉積圖案部，供沉積物質(zhì)通過；
肋部，與所述沉積圖案部連接并支承所述沉積圖案部；以及
凹陷部，與所述襯底面對地凹陷形成在所述沉積圖案部和所述肋部的外圍。
3.如權(quán)利要求2所述的沉積用掩?？蚣芙M件，其中，所述沉積用掩模的邊緣部通過切割所述凹陷部來去除。
4.如權(quán)利要求2所述的沉積用掩模框架組件，還包括：
凸起，在所述凹陷部的外側(cè)從所述凹陷部的底面凸出。
5.如權(quán)利要求4所述的沉積用掩?？蚣芙M件，其中，所述凸起的高度小于所述凹陷部的深度。
6.如權(quán)利要求2所述的沉積用掩模框架組件，其中，所述框架包括：
基座部；以及
支承部，從所述基座部凸出，并且其一面與所述沉積用掩模接觸。
7.如權(quán)利要求6所述的沉積用掩?？蚣芙M件，其中，所述凹陷部在豎直方向上對齊到所述支承部的外圍末端。
8.如權(quán)利要求2所述的沉積用掩?？蚣芙M件，還包括：
焊接部，布置在所述凹陷部與所述沉積圖案部之間，并且對所述框架與所述沉積用掩模進(jìn)行固定。
9.一種沉積用掩?？蚣芙M件制造方法，包括：
準(zhǔn)備框架的步驟；
準(zhǔn)備沉積用掩模的步驟，其中所述沉積用掩模包括：
沉積圖案部，供沉積物質(zhì)通過；
肋部，與所述沉積圖案部連接并支承所述沉積圖案部；以及
凹陷部，與襯底面對地凹陷形成在所述沉積圖案部和所述肋部的外圍；
將所述沉積用掩模對齊到所述框架上的步驟；以及
對所述凹陷部進(jìn)行切割以去除所述沉積用掩模的邊緣部的步驟。
10.如權(quán)利要求9所述的沉積用掩?？蚣芙M件制造方法，其中，在去除所述邊緣部的步驟中，對所述凹陷部照射激光、或者用旋轉(zhuǎn)切割機(jī)對所述凹陷部進(jìn)行切割。
11.如權(quán)利要求10所述的沉積用掩模框架組件制造方法，其中，在去除所述邊緣部的步驟中，在所述凹陷部被切割的同時(shí)形成從所述凹陷部的底面凸出的凸起。
12.如權(quán)利要求11所述的沉積用掩?？蚣芙M件制造方法，其中，所述凸起的高度小于所述凹陷部的深度。
13.如權(quán)利要求10所述的沉積用掩?？蚣芙M件制造方法，其中，所述凹陷部的寬度大于所述激光的光點(diǎn)的直徑。
14.如權(quán)利要求9所述的沉積用掩?？蚣芙M件制造方法，在將所述沉積用掩模對齊到所述框架上的步驟與去除所述邊緣部的步驟之間還包括：
將焊接部形成在所述凹陷部與所述沉積圖案部之間以對所述框架與所述沉積用掩模進(jìn)行固定的步驟。