本發(fā)明屬于微電子加工技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種反應(yīng)腔室及半導(dǎo)體加工設(shè)備。

背景技術(shù)：

物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，以下簡(jiǎn)稱(chēng)PVD)設(shè)備是應(yīng)用比較廣泛的用于在基片等被加工工件的表面上沉積薄膜的設(shè)備。PVD方法包括真空蒸鍍、濺射鍍膜和電弧等離子體鍍膜，并且，到目前為止，不僅可以沉積金屬和合金薄膜，而且還可以沉積化合物、陶瓷、半導(dǎo)體和聚合物薄膜等。另外，一般在PVD工藝進(jìn)行之前，需要對(duì)暴露在大氣環(huán)境中或者停用一段時(shí)間的靶材進(jìn)行清洗工藝，以去除掉靶材表面上形成的氧化物或者其他雜質(zhì)，以及在完成預(yù)設(shè)數(shù)量的被加工工件之后，需要對(duì)反應(yīng)腔室內(nèi)的其他部件進(jìn)行涂覆工藝(即，沉積一層覆蓋物)，來(lái)防止其上沉積的副產(chǎn)物掉落。為了防止在上述清洗工藝和涂覆工藝過(guò)程中對(duì)承載被加工工件的基座的表面造成污染，通常采用遮擋盤(pán)對(duì)該基座的表面進(jìn)行遮擋。

圖1為現(xiàn)有的具有遮擋盤(pán)的反應(yīng)腔室的結(jié)構(gòu)示意圖。請(qǐng)參閱圖1，反應(yīng)腔室10包括基座11、用于驅(qū)動(dòng)基座11升降的第一驅(qū)動(dòng)單元12、至少三個(gè)頂針13、用于驅(qū)動(dòng)頂針13升降的第二驅(qū)動(dòng)單元14、用于放置遮擋盤(pán)15的車(chē)庫(kù)16和遮擋盤(pán)系統(tǒng)。其中，基座11設(shè)置在反應(yīng)腔室10內(nèi)，用于承載被加工工件或遮擋盤(pán)15，基座11上設(shè)置有貫穿其上下表面且與頂針13一一對(duì)應(yīng)的通孔，借助頂針13在與之對(duì)應(yīng)的通孔內(nèi)相對(duì)升降，可實(shí)現(xiàn)遮擋盤(pán)15在頂針13和基座11之間的傳輸。遮擋盤(pán)系統(tǒng)包括傳送臂17、第三驅(qū)動(dòng)單元18和四個(gè)激光對(duì)射傳感器1～4，其中，傳送臂17用于承載遮擋盤(pán)15，第三驅(qū)動(dòng)單元18的驅(qū)動(dòng)軸19與傳送臂17相連接，用以驅(qū)動(dòng)該傳送臂17圍繞該驅(qū)動(dòng)軸19旋轉(zhuǎn)，以使 其在安全位置和傳輸位置之間移動(dòng)；所謂安全位置是指預(yù)先設(shè)置的傳送臂17安全地位于車(chē)庫(kù)16內(nèi)的位置(如圖1中傳送臂17所在的位置)，所謂傳輸位置是指預(yù)先設(shè)置的傳送臂17借助頂針13實(shí)現(xiàn)與基座11傳輸遮擋盤(pán)15的位置，具體地，通過(guò)頂針13相對(duì)位于傳輸位置的傳送臂17升降可實(shí)現(xiàn)二者之間傳輸遮擋盤(pán)15，以及通過(guò)頂針13和基座11相對(duì)升降可實(shí)現(xiàn)二者之間傳輸遮擋盤(pán)15。車(chē)庫(kù)16的頂蓋和底壁上均內(nèi)嵌有觀(guān)察窗20，每個(gè)激光對(duì)射傳感器包括接收端和發(fā)射端，接收端和發(fā)射端相對(duì)設(shè)置在車(chē)庫(kù)16頂蓋和底壁內(nèi)嵌的觀(guān)察窗20的外側(cè)，具體地，如圖2所示，激光對(duì)射傳感器1和2分別設(shè)置在位于安全位置的傳送臂17的邊緣兩側(cè)且靠近邊緣的位置處，激光對(duì)射傳感器3和4分別設(shè)置在位于安全位置的傳送臂17上遮擋盤(pán)15的邊緣兩側(cè)且靠近邊緣的位置處。每個(gè)激光對(duì)射傳感器的工作原理為：接收端用于向發(fā)射端發(fā)送激光束，若接收端接收到發(fā)射端發(fā)出的激光束，則該激光對(duì)射傳感器不發(fā)出信號(hào)，若接收端未接收到發(fā)射端發(fā)出的激光束，則該激光對(duì)射傳感器發(fā)出信號(hào)。

下面詳細(xì)地描述上述反應(yīng)腔室的具體工作過(guò)程。具體地，初始狀態(tài)為承載有遮擋盤(pán)15的傳送臂17位于安全位置，頂針13和基座均位于預(yù)設(shè)低位。在需要進(jìn)行清洗工藝或涂覆工藝時(shí)，包括以下步驟：步驟S10，第三驅(qū)動(dòng)單元18驅(qū)動(dòng)承載有遮擋盤(pán)15的傳送臂17旋轉(zhuǎn)至傳輸位置(即，出庫(kù))，接著第二驅(qū)動(dòng)單元14驅(qū)動(dòng)頂針13上升至預(yù)設(shè)高位，以將位于傳輸位置的傳送臂17上的遮擋盤(pán)15頂起，此時(shí)實(shí)現(xiàn)遮擋盤(pán)15自傳送臂17傳輸至頂針13；步驟S11，第三驅(qū)動(dòng)單元18驅(qū)動(dòng)空載的傳送臂17旋轉(zhuǎn)至安全位置(即，入庫(kù))，并且，當(dāng)激光對(duì)射傳感器1發(fā)出信號(hào)且激光對(duì)射傳感器2不發(fā)出信號(hào)時(shí)，則傳送臂17到達(dá)安全位置，接著第一驅(qū)動(dòng)單元12驅(qū)動(dòng)基座11上升至預(yù)設(shè)高位，以將頂針13上的遮擋盤(pán)15托起，此時(shí)實(shí)現(xiàn)遮擋盤(pán)15傳輸給基座11，由于遮擋盤(pán)15可實(shí)現(xiàn)將基座11遮擋，因此可以開(kāi)始進(jìn)行清洗工藝或涂覆工藝。在清洗工藝或涂覆工藝完成之后，包括以下步驟：步驟S20，第一驅(qū)動(dòng)單元12驅(qū)動(dòng)基座11下降至預(yù)設(shè)低位，以使其位于傳輸位置的下方，將遮擋盤(pán)15傳輸給頂針13，第三驅(qū)動(dòng)單元18驅(qū)動(dòng)空載的傳 送臂17出庫(kù)，此時(shí)，傳送臂17旋轉(zhuǎn)至遮擋盤(pán)15下方且位于基座11上方，接著第二驅(qū)動(dòng)單元14驅(qū)動(dòng)頂針13下降至預(yù)設(shè)低位，以使傳送臂17托起遮擋盤(pán)15，此時(shí)實(shí)現(xiàn)使遮擋盤(pán)15傳輸給傳送臂17；步驟S21，第三驅(qū)動(dòng)單元18驅(qū)動(dòng)承載有遮擋盤(pán)15的傳送臂17入庫(kù)，當(dāng)激光對(duì)射傳感器1～3發(fā)出信號(hào)且激光對(duì)射傳感器4不發(fā)出信號(hào)時(shí)，此時(shí)，傳送臂17到達(dá)安全位置，第三驅(qū)動(dòng)單元18停止驅(qū)動(dòng)，可以開(kāi)始在該反應(yīng)腔室內(nèi)進(jìn)行PVD工藝。

在實(shí)際應(yīng)用中，往往在工藝之前需要2～3個(gè)人的配合來(lái)調(diào)試遮擋盤(pán)系統(tǒng)，以確定標(biāo)準(zhǔn)傳輸位置，所謂標(biāo)準(zhǔn)傳輸位置是指?jìng)魉捅?7上的遮擋盤(pán)15傳輸至基座11上時(shí)能夠完全遮擋基座11的傳輸位置。調(diào)試過(guò)程具體為：先需要將反應(yīng)腔室自真空切換成大氣環(huán)境，再開(kāi)腔來(lái)進(jìn)行肉眼估測(cè)遮擋盤(pán)的當(dāng)前位置，最后相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)傳輸位置對(duì)當(dāng)前位置進(jìn)行調(diào)試，由于采用肉眼估測(cè)的方式調(diào)試遮擋盤(pán)的位置，因此，需要反復(fù)開(kāi)腔調(diào)試，不僅費(fèi)時(shí)，而且還會(huì)造成調(diào)試的精確度差，從而有可能造成在清洗工藝和涂覆工藝過(guò)程中遮擋盤(pán)15未完全覆蓋基座11的上表面，也就存在基座11被污染(例如，被鍍上金屬)的風(fēng)險(xiǎn)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題之一，提出了一種反應(yīng)腔室及半導(dǎo)體加工設(shè)備，通過(guò)機(jī)械的計(jì)算，準(zhǔn)確的監(jiān)控遮擋盤(pán)在腔室中的位置，以輔助人工定位調(diào)節(jié)，這樣可以提高調(diào)試的精確度，從而不僅可以減小在清洗工藝和涂覆工藝造成基座表面被污染的風(fēng)險(xiǎn)；而且還可以減少開(kāi)腔的次數(shù)，節(jié)省時(shí)間，提高調(diào)試效率。

為解決上述問(wèn)題之一，本發(fā)明提供了一種反應(yīng)腔室，包括頂針系統(tǒng)、基座系統(tǒng)和遮擋盤(pán)系統(tǒng)，所述反應(yīng)腔室能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)遮擋盤(pán)的位置進(jìn)行監(jiān)控；所述反應(yīng)腔室，還包括重量傳感器，所述重量傳感器，設(shè)置在每個(gè)頂針下端，每個(gè)所述重量傳感器用于在遮擋盤(pán)位于多個(gè)所述頂針上時(shí)檢測(cè)與之對(duì)應(yīng)的頂針承受到的重力，根據(jù)各個(gè)所述重量傳感器檢測(cè)到的重力判斷所述遮擋盤(pán)是否位于標(biāo)準(zhǔn)傳輸位置。

優(yōu)選地，所述反應(yīng)腔室，還包括檢測(cè)裝置，用于檢測(cè)傳送臂或位 于傳送臂上的遮擋盤(pán)是否被準(zhǔn)確地移動(dòng)至安全位置。

優(yōu)選地，所述檢測(cè)裝置包括：光源、光學(xué)傳感器和處理器，其中，所述光源，固定于所述遮蔽盤(pán)上方，用于朝向所述傳送臂或遮擋盤(pán)表面的任一固定位置發(fā)射光信號(hào)；所述光學(xué)傳感器，與所述處理器電連接，所述光學(xué)傳感器用于接收所述遮擋盤(pán)或所述傳送臂的表面反射的光信號(hào)，并將反射的光信號(hào)處理成電信號(hào)后傳輸至所述處理器；所述處理器，用于根據(jù)所述電信號(hào)獲得所述傳送臂或所述遮擋盤(pán)的移動(dòng)信息，并根據(jù)所述移動(dòng)信息和移動(dòng)至所述安全位置的標(biāo)準(zhǔn)移動(dòng)信息來(lái)判斷所述傳送臂或所述遮擋盤(pán)是否準(zhǔn)確地移動(dòng)至安全位置。

優(yōu)選地，所述處理器，用于根據(jù)所述移動(dòng)信息判斷所述遮擋盤(pán)或所述傳送臂的當(dāng)前位置是否移動(dòng)至所述標(biāo)準(zhǔn)移動(dòng)信息對(duì)應(yīng)的安全位置或安全位置范圍，若是，則判定所述傳送臂或所述遮擋盤(pán)準(zhǔn)確地移動(dòng)至安全位置，若否，則判定所述傳送臂或所述遮擋盤(pán)未準(zhǔn)確地移動(dòng)至安全位置。

優(yōu)選地，所述傳送臂的移動(dòng)信息和標(biāo)準(zhǔn)移動(dòng)信息均包括移動(dòng)方向和移動(dòng)距離。

優(yōu)選地，所述反應(yīng)腔室還包括：距離傳感器，用于在所述基座位于預(yù)設(shè)低位時(shí)檢測(cè)所述距離傳感器與所述基座之間的距離；根據(jù)所述距離判斷所述基座上表面是否低于所述傳送臂下表面，若是，則所述驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)所述傳送臂在安全位置與傳輸位置之間移動(dòng)；若否，調(diào)整所述預(yù)設(shè)低位，以使位于所述基座在所述預(yù)設(shè)低位時(shí)其上表面低于所述傳送臂的下表面。

優(yōu)選地，所述反應(yīng)腔室還包括：顯示器，所述重量傳感器，用于將其檢測(cè)到的重力發(fā)送至所述顯示器；所述處理器，用于將獲得所述傳送臂或所述遮擋盤(pán)的移動(dòng)信息發(fā)送至所述顯示器；所述顯示器，用于顯示所述重力、所述移動(dòng)信息和所述標(biāo)準(zhǔn)移動(dòng)信息。

優(yōu)選地，所述光源朝向靠近所述傳送臂或所述遮擋盤(pán)的移動(dòng)軌跡中點(diǎn)的固定位置發(fā)射光信號(hào)。

優(yōu)選地，所述檢測(cè)裝置還包括透鏡，所述透鏡用于將所述傳送臂或所述遮擋盤(pán)表面反射的光信號(hào)匯聚后再發(fā)送至所述光學(xué)傳感器。

作為另外一個(gè)技術(shù)方案，本發(fā)明還提供一種半導(dǎo)體加工設(shè)備，包括反應(yīng)腔室，所述反應(yīng)腔室采用本發(fā)明上述提供的反應(yīng)腔室。

本發(fā)明具有以下有益效果：

本發(fā)明提供的反應(yīng)腔室，通過(guò)在每個(gè)頂針下端設(shè)置重量傳感器，每個(gè)重量傳感器在遮擋盤(pán)位于多個(gè)頂針上時(shí)檢測(cè)與之對(duì)應(yīng)的頂針承受到的重力，根據(jù)各個(gè)重量傳感器檢測(cè)到的重力判斷遮擋盤(pán)是否位于標(biāo)準(zhǔn)傳輸位置。即，重量傳感器檢測(cè)到的重力可作為判斷遮擋盤(pán)是否位于標(biāo)準(zhǔn)傳輸位置的依據(jù)，這與現(xiàn)有技術(shù)中未根據(jù)任何檢測(cè)數(shù)據(jù)而直接采用肉眼估測(cè)進(jìn)行調(diào)試相比，可以提高調(diào)試的精確度，從而不僅可以減小在清洗工藝和涂覆工藝造成基座表面被污染的風(fēng)險(xiǎn)；而且還可以減少開(kāi)腔的次數(shù)，節(jié)省時(shí)間，提高調(diào)試效率。

本發(fā)明提供的半導(dǎo)體加工設(shè)備，其通過(guò)采用本發(fā)明提供的反應(yīng)腔室，不僅可以提高調(diào)試遮擋盤(pán)系統(tǒng)的精確度，從而可以減小在清洗工藝和涂覆工藝造成基座表面被污染的風(fēng)險(xiǎn)；而且還可以避免開(kāi)腔進(jìn)行調(diào)試，從而可以節(jié)省時(shí)間，提高調(diào)試效率。

附圖說(shuō)明

圖1為現(xiàn)有的具有遮擋盤(pán)的反應(yīng)腔室的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為圖1所示的反應(yīng)腔室去除頂蓋后的俯視圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的反應(yīng)腔室的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為應(yīng)用圖3所示的反應(yīng)腔室進(jìn)行調(diào)試遮擋盤(pán)系統(tǒng)的工作流程圖；

圖5為圖3所示的反應(yīng)腔室的俯視圖；

圖6為顯示器上顯示的狀態(tài)圖；以及

圖7為檢測(cè)遮擋盤(pán)的位置的工作流程圖。

具體實(shí)施方式

為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖來(lái)對(duì)本發(fā)明提供的反應(yīng)腔室及半導(dǎo)體加工設(shè)備進(jìn)行詳細(xì)描述。

圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的反應(yīng)腔室的結(jié)構(gòu)示意圖。請(qǐng)參閱圖3， 本發(fā)明實(shí)施例提供的反應(yīng)腔室30能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)遮擋盤(pán)S的位置進(jìn)行監(jiān)控，該反應(yīng)腔室30包括頂針系統(tǒng)、基座系統(tǒng)、遮擋盤(pán)系統(tǒng)、重量傳感器36、距離傳感器37、存儲(chǔ)器、顯示器和檢測(cè)裝置38。其中，頂針系統(tǒng)包括多個(gè)頂針31和承載頂針31的托架32，基座系統(tǒng)包括用于承載遮擋盤(pán)S的基座33，基座33上設(shè)置有貫穿其上下表面的且與頂針31一一對(duì)應(yīng)的通孔；遮擋盤(pán)系統(tǒng)包括傳送臂34和驅(qū)動(dòng)器35。其中，傳送臂34用于承載遮擋盤(pán)S，驅(qū)動(dòng)器35用于驅(qū)動(dòng)傳送臂34在安全位置和傳輸位置之間移動(dòng)，即，驅(qū)動(dòng)器35用于驅(qū)動(dòng)傳送臂34出入庫(kù)，入庫(kù)指的是自傳輸位置移動(dòng)至安全位置的過(guò)程，出庫(kù)指的是自安全位置移動(dòng)至傳輸位置的過(guò)程。具體地，在本實(shí)施例中，驅(qū)動(dòng)器35為旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)器，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)器用于驅(qū)動(dòng)傳送臂34在水平方向上旋轉(zhuǎn)，以使其在安全位置和傳輸位置之間移動(dòng)，通過(guò)頂針31在與之對(duì)應(yīng)的通孔內(nèi)相對(duì)升降來(lái)實(shí)現(xiàn)遮擋盤(pán)S在位于傳輸位置的傳送臂34和基座33之間傳輸，具體的傳輸過(guò)程與現(xiàn)有技術(shù)相類(lèi)似，在此不再詳述。

重量傳感器36設(shè)置在每個(gè)頂針31下端和托架32之間，每個(gè)重量傳感器36用于在遮擋盤(pán)S位于多個(gè)頂針31上時(shí)檢測(cè)與之對(duì)應(yīng)的頂針31承受到的重力，根據(jù)各個(gè)重量傳感器36檢測(cè)到的重力判斷遮擋盤(pán)是否位于標(biāo)準(zhǔn)傳輸位置。

由上可知，本發(fā)明實(shí)施例提供的反應(yīng)腔室，可將重量傳感器檢測(cè)到的重力作為判斷遮擋盤(pán)是否位于標(biāo)準(zhǔn)傳輸位置的依據(jù)，這與現(xiàn)有技術(shù)中未根據(jù)任何檢測(cè)數(shù)據(jù)而直接采用肉眼估測(cè)進(jìn)行調(diào)試相比，可以提高調(diào)試的精確度，從而不僅可以減小在清洗工藝和涂覆工藝造成基座表面被污染的風(fēng)險(xiǎn)；而且還可以減少開(kāi)腔的次數(shù)，節(jié)省時(shí)間，提高調(diào)試效率。

具體地，若判斷遮擋盤(pán)未位于標(biāo)準(zhǔn)傳輸位置，則根據(jù)各個(gè)重量傳感器檢測(cè)到的重力調(diào)整遮擋盤(pán)的當(dāng)前位置直至為標(biāo)準(zhǔn)傳輸位置。

可以理解，優(yōu)選地，多個(gè)頂針31的相同，以使其空載時(shí)重量傳感器36檢測(cè)到的重力相等，這可避免上述判斷過(guò)程需要考慮各個(gè)頂針31不同造成各個(gè)重量傳感器檢測(cè)到的初始值不等的因素；并且，在空載時(shí)多個(gè)頂針31的頂端應(yīng)在一個(gè)水平面上，以穩(wěn)定地支撐遮擋盤(pán)S。

在本實(shí)施例中，優(yōu)選地，頂針31相對(duì)基座33的分布方式為：多個(gè)頂針33所圍成圖形的中心與基座33的中心同心。遮擋盤(pán)S的重心和中心的位置關(guān)系為：遮擋盤(pán)S的重心和中心同心。在上述種情況下，根據(jù)各個(gè)重量傳感器36檢測(cè)到的重力，判斷若各個(gè)重量傳感器36檢測(cè)到的重力相等或在預(yù)設(shè)差異范圍內(nèi)，則說(shuō)明遮擋盤(pán)S的重心(或中心)、頂針31所圍成圖形的中心以及基座33的中心三者同心，由于遮擋盤(pán)S中心和基座33的中心同心是最理想的實(shí)現(xiàn)遮擋盤(pán)S完成遮擋基座33的情形，故當(dāng)然可以確定當(dāng)前傳輸位置為標(biāo)準(zhǔn)傳輸位置。所謂預(yù)設(shè)差異范圍是指預(yù)先根據(jù)重量傳感器36的檢測(cè)誤差、頂針31的裝配誤差等設(shè)置的誤差允許范圍。

其中，距離傳感器37用于在基座33位于預(yù)設(shè)低位時(shí)檢測(cè)距離傳感器37與基座33之間的距離；根據(jù)該距離判斷基座22上表面是否低于傳送臂34下表面，若是，則說(shuō)明基座33不會(huì)阻擋傳送臂34的移動(dòng)，因此，驅(qū)動(dòng)器35可驅(qū)動(dòng)傳送臂34在安全位置和傳輸位置(包括當(dāng)前傳輸位置和標(biāo)準(zhǔn)傳輸位置)之間移動(dòng)；若否，則說(shuō)明基座33位于傳送臂34的移動(dòng)路徑上，基座33會(huì)阻擋傳送臂34的移動(dòng)，因此，驅(qū)動(dòng)器35不可驅(qū)動(dòng)傳送臂34在安全位置和傳輸位置之間移動(dòng)，而進(jìn)行調(diào)整預(yù)設(shè)低位，以使位于基座33在預(yù)設(shè)低位時(shí)其上表面低于傳送臂34的下表面?？梢岳斫?，借助距離傳感器37的上述檢測(cè)和判斷過(guò)程作為遮擋盤(pán)S出入庫(kù)的互鎖條件，從而可以提高調(diào)試過(guò)程的可靠性和穩(wěn)定性；另外，上述判斷過(guò)程不僅可以人為判斷還可以采用控制器進(jìn)行自動(dòng)判斷，若采用控制器自動(dòng)判斷，不僅可以提高調(diào)試過(guò)程的自動(dòng)化，從而可以節(jié)省調(diào)試時(shí)間，特別是，應(yīng)用在基座系統(tǒng)中的基座等其他部件更換或變動(dòng)的情況下可以更能進(jìn)一步節(jié)省調(diào)試時(shí)間。優(yōu)選地，距離傳感器37包括紅外距離傳感器。

在本實(shí)施例中，具體地，距離傳感器37設(shè)置在基座33的下方，如圖3所示，距離傳感器37設(shè)置在反應(yīng)腔室30的底壁外側(cè)，距離傳感器37用于檢測(cè)基座33的高度h1，該高度h1和基座的厚度h2計(jì)算位于預(yù)設(shè)低位的基座33上表面在反應(yīng)腔室30內(nèi)的第一高度h＝h1+h2，判斷該第一高度h是否小于傳送臂34下表面在反應(yīng)腔室30內(nèi)的第二 高度H，若是，則驅(qū)動(dòng)器35驅(qū)動(dòng)傳送臂34在安全位置和傳輸位置之間移動(dòng)；若否，調(diào)整預(yù)設(shè)低位，以使位于基座33在預(yù)設(shè)低位時(shí)其上表面低于傳送臂34的下表面?？梢岳斫?，上述第一高度h和第二高度H應(yīng)該是以同一基準(zhǔn)而言的，這樣才能進(jìn)行二者的比較，在本實(shí)施例中，如圖3所示，二者均是以反應(yīng)腔室30的底壁為基準(zhǔn)；另外，在本實(shí)施例中，由于驅(qū)動(dòng)器35為旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)器，使得傳送臂34僅在水平方向移動(dòng)，因此，第二高度為恒值。

存儲(chǔ)器用于存儲(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)傳輸位置和/或調(diào)整后的預(yù)設(shè)低位，以便于工藝過(guò)程中直接讀取應(yīng)用。

重量傳感器36還用于將其檢測(cè)到的重力發(fā)送至顯示器(圖中未示出)，具體地，顯示器包括上位機(jī)界面；顯示器用于顯示每個(gè)重量傳感器36檢測(cè)到的重力，便于實(shí)現(xiàn)調(diào)試人員讀取重量傳感器36檢測(cè)到的重力。

下面結(jié)合圖4詳細(xì)描述應(yīng)用本發(fā)明實(shí)施例提供的反應(yīng)腔室來(lái)調(diào)試遮擋盤(pán)系統(tǒng)的過(guò)程。具體地，請(qǐng)參閱圖4，包括以下步驟：

步驟S1，驅(qū)動(dòng)基座33位于預(yù)設(shè)低位；

步驟S2，距離傳感器37檢測(cè)其與基座下表面之間的高度h1，控制器根據(jù)該高度h1和基座厚度h2計(jì)算第一高度h；

步驟S3，判斷第一高度h是否小于第二高度H，若是，則執(zhí)行步驟S4，若否，則執(zhí)行步驟S10；

步驟S4，存儲(chǔ)當(dāng)前預(yù)設(shè)低位，并且，驅(qū)動(dòng)器35驅(qū)動(dòng)承載有遮擋盤(pán)S的傳送臂34至預(yù)設(shè)傳輸位置，即出庫(kù)；

步驟S5，驅(qū)動(dòng)頂針31在與之對(duì)應(yīng)的通孔內(nèi)上升至預(yù)設(shè)高位，以將位于傳送臂34上的遮擋盤(pán)S頂起，各個(gè)重量傳感器37檢測(cè)重力且將其發(fā)送至顯示器；

步驟S6，驅(qū)動(dòng)頂針31在與之對(duì)應(yīng)的通孔內(nèi)下降至預(yù)設(shè)低位，以使遮擋盤(pán)S傳輸至傳送臂34上；

步驟S7，調(diào)試人員判斷各個(gè)重量傳感器37檢測(cè)到的重力是否相等或者是否在預(yù)設(shè)差異范圍內(nèi)，若是，則進(jìn)入步驟S8，若否，則進(jìn)入步驟S9；

步驟S8，存儲(chǔ)器存儲(chǔ)遮擋盤(pán)S的當(dāng)前位置為標(biāo)準(zhǔn)傳輸位置，并且，驅(qū)動(dòng)器35驅(qū)動(dòng)傳送臂34至安全位置，即入庫(kù)，調(diào)試完成；

步驟S9，調(diào)試人員根據(jù)各個(gè)重量傳感器37檢測(cè)到的重力調(diào)整驅(qū)動(dòng)器35驅(qū)動(dòng)傳送臂34旋轉(zhuǎn)的位置，即調(diào)整當(dāng)前傳輸位置，并返回步驟S5；

步驟10，發(fā)出報(bào)警并顯示第一高度h和第二高度H的高度差，調(diào)試人員根據(jù)該高度差調(diào)整預(yù)設(shè)低位，以使位于基座33在預(yù)設(shè)低位時(shí)其上表面低于傳送臂34的下表面。

值得說(shuō)明的是，上述調(diào)試過(guò)程只是本發(fā)明實(shí)施例提供的反應(yīng)腔室調(diào)試遮擋盤(pán)系統(tǒng)的示范性舉例，并不局限上述過(guò)程。

另外，通過(guò)步驟S1～S10可以看出：應(yīng)用本發(fā)明實(shí)施例提供的反應(yīng)腔室可以實(shí)現(xiàn)遮擋盤(pán)系統(tǒng)的調(diào)試過(guò)程的半自動(dòng)化，從而可以節(jié)省調(diào)試時(shí)間，提高調(diào)試效率，尤其是，應(yīng)用在腔室配置經(jīng)常變動(dòng)的反應(yīng)腔室。

下面結(jié)合圖5和圖6詳細(xì)描述檢測(cè)裝置38。檢測(cè)裝置38用于檢測(cè)傳送臂34或位于傳送臂34上的遮擋盤(pán)S是否準(zhǔn)確地移動(dòng)至安全位置。具體地，在本實(shí)施例中，檢測(cè)裝置38包括光源、光學(xué)傳感器和處理器，其中，光源，固定于遮擋盤(pán)上方，用于朝向傳送臂34或遮擋盤(pán)S表面的任一固定位置發(fā)射光信號(hào)，例如，如圖5中的位置P；光學(xué)傳感器與處理器電連接，光學(xué)傳感器用于接收傳送臂34或遮擋盤(pán)S的表面反射的光信號(hào)，并將反射的光信號(hào)處理成電信號(hào)后傳輸至處理器；處理器用于根據(jù)電信號(hào)獲得傳送臂或遮擋盤(pán)的移動(dòng)信息，并根據(jù)移動(dòng)信息和移動(dòng)至安全位置的標(biāo)準(zhǔn)移動(dòng)信息來(lái)判斷傳送臂或遮擋盤(pán)是否準(zhǔn)確地移動(dòng)至安全位置。具體地，處理器根據(jù)移動(dòng)信息判斷遮擋盤(pán)或傳送臂的當(dāng)前位置是否移動(dòng)至標(biāo)準(zhǔn)移動(dòng)信息對(duì)應(yīng)的安全位置或安全位置范圍，若是，則判定傳送臂或遮擋盤(pán)準(zhǔn)確地移動(dòng)至安全位置，若否，則判定傳送臂或遮擋盤(pán)未準(zhǔn)確地移動(dòng)至安全位置。

其中，傳送臂的移動(dòng)信息和標(biāo)準(zhǔn)移動(dòng)信息均包括移動(dòng)方向和移動(dòng)距離，也就是說(shuō)，處理器根據(jù)光學(xué)傳感器發(fā)送的信號(hào)獲得一組圖像，并對(duì)該圖像進(jìn)行分析處理來(lái)獲得移動(dòng)方向和移動(dòng)距離。具體地，處理器為數(shù)字信號(hào)處理器。

由于上述光源的設(shè)置位置以及發(fā)射光信號(hào)的朝向固定，傳送臂在驅(qū)動(dòng)器的驅(qū)動(dòng)下進(jìn)行水平移動(dòng)，因此，傳送臂或遮擋盤(pán)相對(duì)光源水平移動(dòng)，從而處理器獲得的移動(dòng)方向和移動(dòng)距離為傳送臂或遮擋盤(pán)相對(duì)光源的相對(duì)移動(dòng)方向和移動(dòng)距離。

在本實(shí)施例中，處理器，用于將獲得傳送臂34或遮擋盤(pán)S的移動(dòng)信息發(fā)送至顯示器；顯示器還用于顯示該移動(dòng)信息和標(biāo)準(zhǔn)移動(dòng)信息。在此情況下，如圖6所示，圖中的橫坐標(biāo)X為圖3所示的水平方向，縱坐標(biāo)Y為圖3中垂直紙面向里且與橫坐標(biāo)X垂直的方向，原點(diǎn)位置O為傳送臂出入庫(kù)時(shí)傳送臂或其上遮擋盤(pán)與光源剛開(kāi)始出現(xiàn)相對(duì)位移時(shí)的位置，顯示器用于實(shí)時(shí)根據(jù)處理器發(fā)送而來(lái)的移動(dòng)方向和移動(dòng)距離顯示傳送臂34的位置，因此，在傳送臂34入庫(kù)時(shí)顯示器上會(huì)顯示表示傳送臂34當(dāng)前位置的光標(biāo)自原點(diǎn)位置O沿移動(dòng)軌跡L移動(dòng)；另外，顯示器還用于標(biāo)記顯示標(biāo)準(zhǔn)移動(dòng)信息對(duì)應(yīng)的位置(如圖6中移動(dòng)軌跡L上的黑點(diǎn)位置)或者對(duì)應(yīng)的位置范圍(如圖6中的橫坐標(biāo)X1～X2對(duì)應(yīng)在移動(dòng)軌跡L上的位置范圍)；判斷當(dāng)前位置是否移動(dòng)至標(biāo)記顯示的位置或位置范圍。這樣，通過(guò)觀(guān)察光標(biāo)是否移動(dòng)至黑點(diǎn)位置或移動(dòng)至上述位置范圍內(nèi)即可判斷是否準(zhǔn)確地移動(dòng)至安全位置。

優(yōu)選地，如圖5所示，光源朝向靠近傳送臂34或遮擋盤(pán)S的移動(dòng)軌跡L中點(diǎn)的固定位置P發(fā)射光信號(hào)，這使得傳送臂34入庫(kù)時(shí)傳送臂34或遮擋盤(pán)S相對(duì)光源的相對(duì)移動(dòng)距離較大，即，檢測(cè)裝置檢測(cè)的傳送臂34的移動(dòng)范圍較大，從而不僅可以提高檢測(cè)精度，而且還可以在顯示器上顯示傳送臂34在更大相對(duì)移動(dòng)距離范圍內(nèi)的位置，也就可以觀(guān)察傳送臂在更大范圍的位置。

優(yōu)選地，遮擋盤(pán)S和/或傳送臂34表面上形成有凹凸點(diǎn)，凹凸點(diǎn)用于反射光信號(hào)。

另外優(yōu)選地，檢測(cè)裝置38還包括透鏡，透鏡用于將傳送臂34或遮擋盤(pán)S表面反射的光信號(hào)匯聚后再發(fā)送至光學(xué)傳感器，這可以進(jìn)一步增強(qiáng)光信號(hào)的傳輸，從而可以進(jìn)一步提高檢測(cè)精度。

可以理解，采用上述檢測(cè)裝置38可以實(shí)現(xiàn)檢測(cè)傳送臂34是否準(zhǔn)確地移動(dòng)至安全位置，這與現(xiàn)有技術(shù)中采用四個(gè)激光對(duì)射傳感器檢測(cè) 相比，現(xiàn)有技術(shù)中四個(gè)激光對(duì)射傳感器的安裝要求為：其激光傳輸路徑必須經(jīng)過(guò)靠近遮擋盤(pán)或傳送臂的邊緣位置，若驅(qū)動(dòng)器旋轉(zhuǎn)誤差以及激光對(duì)射傳感器的松動(dòng)容易造成不能滿(mǎn)足上述安裝要求，而基于本發(fā)明上述檢測(cè)裝置的工作原理，其對(duì)檢測(cè)裝置的安裝準(zhǔn)確度要求低，在驅(qū)動(dòng)器旋轉(zhuǎn)誤差和傳感器松動(dòng)等情況下仍然能夠滿(mǎn)足要求，從而不僅可以提高檢測(cè)裝置的可靠性和穩(wěn)定性，而且還可以降低安裝難度和調(diào)試難度，另外，與現(xiàn)有技術(shù)中采用過(guò)多單一功能的激光對(duì)射傳感器造成結(jié)構(gòu)復(fù)雜相比，可以簡(jiǎn)化檢測(cè)裝置的結(jié)構(gòu)。

本發(fā)明實(shí)施例提供的反應(yīng)腔室，借助上述重量傳感器和檢測(cè)裝置還可以實(shí)現(xiàn)監(jiān)測(cè)遮擋盤(pán)S和傳送臂34的位置，請(qǐng)參閱圖7，在檢測(cè)裝置38檢測(cè)出傳送臂34準(zhǔn)確地移動(dòng)至安全位置之后，根據(jù)重量傳感器36檢測(cè)到的重力，判斷重量傳感器36檢測(cè)的重力是否發(fā)生變化，若是，則說(shuō)明遮擋盤(pán)S位于頂針31上，因此，可判定傳送臂34移動(dòng)至安全位置，且遮擋盤(pán)S位于頂針31上，若否，則說(shuō)明遮擋盤(pán)S未位于頂針31上，因此，可判定承載有遮擋盤(pán)S的傳送臂34移動(dòng)至安全位置；以及在檢測(cè)裝置38檢測(cè)出傳送臂34未準(zhǔn)確地移動(dòng)至安全位置之后，調(diào)整驅(qū)動(dòng)器35的驅(qū)動(dòng)傳送臂34移動(dòng)至安全位置的預(yù)設(shè)參數(shù)。

需要說(shuō)明的是，盡管在本實(shí)施例中驅(qū)動(dòng)器35為旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)器，驅(qū)動(dòng)傳送臂34在水平方向上旋轉(zhuǎn)，以在安全位置和傳輸位置之間移動(dòng)；但是，本發(fā)明并不局限于此，在實(shí)際應(yīng)用中，驅(qū)動(dòng)器35還可以采用其他驅(qū)動(dòng)裝置，只要能夠?qū)崿F(xiàn)傳送臂34在安全位置和傳輸位置之間移動(dòng)即可。

還需要說(shuō)明的是，盡管本實(shí)施例中距離傳感器37設(shè)置在基座33的下方，用以檢測(cè)基座33下表面的高度；但是，本發(fā)明并不局限于此，在實(shí)際應(yīng)用中，距離傳感器37還可以設(shè)置在基座33的上方，用于檢測(cè)距離傳感器37和基座33上表面之間的豎直距離，對(duì)比該豎直距離是否大于傳送臂34下表面與距離傳感器37之間的豎直距離，若是，則驅(qū)動(dòng)器35驅(qū)動(dòng)傳送臂34在安全位置和傳輸位置之間移動(dòng)；若否，調(diào)整預(yù)設(shè)低位，以使位于基座33在預(yù)設(shè)低位時(shí)其上表面低于傳送臂34的下表面。

另外需要說(shuō)明的是，盡管在本實(shí)施例中，檢測(cè)裝置38采用上述結(jié)構(gòu)；但是，本發(fā)明并不局限于此，在實(shí)際應(yīng)用中，還可以采用其他結(jié)構(gòu)的檢測(cè)裝置，只要能夠?qū)崿F(xiàn)檢測(cè)傳送臂34是否準(zhǔn)確地移動(dòng)至安全位置即可，例如，檢測(cè)裝置38可以采用本發(fā)明背景技術(shù)所描述的按照預(yù)設(shè)方式設(shè)置的四個(gè)對(duì)射式傳感器。

作為另外一個(gè)技術(shù)方案，本發(fā)明實(shí)施例還提供一種半導(dǎo)體加工設(shè)備，包括反應(yīng)腔室，反應(yīng)腔室采用本發(fā)明上述實(shí)施例提供的反應(yīng)腔室。

具體地，半導(dǎo)體加工設(shè)備包括物理氣相沉積設(shè)備。

本發(fā)明實(shí)施例提供的半導(dǎo)體加工設(shè)備，不僅可以提高調(diào)試遮擋盤(pán)系統(tǒng)的精確度，從而可以減小在清洗工藝和涂覆工藝造成基座表面被污染的風(fēng)險(xiǎn)；而且還可以避免開(kāi)腔進(jìn)行調(diào)試，從而可以節(jié)省時(shí)間，提高調(diào)試效率。

可以理解的是，以上實(shí)施方式僅僅是為了說(shuō)明本發(fā)明的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。