1.一種用于MOCVD反應(yīng)器的襯底加熱裝置，包括：
紅外加熱燈，所述紅外加熱燈相對于襯托器成間隔設(shè)置，所述襯托器承載至少一個襯底，所述至少一個襯底用于通過使用來自所述燈的紅外光的對所述襯托器的照射進(jìn)行加熱；和
多個間隔開的紅外反射器，所述多個間隔開的紅外反射器位于所述燈的與所述襯托器相對的側(cè)上并具有朝向所述加熱燈的反射面，所述反射器被配置成以期望的圖案在所述襯托器上分布紅外光，所述期望的圖案被選擇使得提供對所述襯托器的均勻加熱，并從而還提供對由所述襯托器承載的所述至少一個襯底的均勻加熱。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述紅外反射器相對于所述燈的中心部分在所述燈的端部部分處更寬。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述紅外反射器只關(guān)于所述燈的端部部分定位，而關(guān)于所述燈的中心部分則不存在。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述紅外反射器由不透明(體散射)石英材料構(gòu)造。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述紅外反射器由銅鍍金材料構(gòu)造。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置，其中，所述紅外反射器的特征在于，與靠近所述燈的中心部分中的較低紅外反射率相比較，其在所述燈的端部部分處具有相對較高的紅外反射率。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其中，所述紅外反射器在關(guān)于所述燈的中心部分處具有石墨涂層。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，還包括位于所述襯托器下側(cè)的一組一個或多個紅外低熱質(zhì)量屏蔽反射器，所述屏蔽反射器被配置成以被選定來微調(diào)對所述襯托器的均勻加熱的期望的圖案反射紅外光的一部分離開所 述襯托器。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其中，所述屏蔽反射器是具有相同寬度的平行金屬條。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其中，所述屏蔽反射器是具有不同寬度的平行金屬條。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其中，所述屏蔽反射器是盤。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其中，所述屏蔽反射器是金屬絲網(wǎng)。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述襯托器具有安置所述屏蔽反射器的容器。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述加熱燈被構(gòu)造和布置成提供期望的功率輸出模式。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的裝置，其中，位于所述襯托器的邊緣附近的所述加熱燈比位于較中心的加熱燈提供更大的功率輸出。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述加熱燈是線性管。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，其他反射器被布置在所述加熱燈的側(cè)面上。
18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述襯托器承載多個襯底。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的裝置，其中，所述多個襯底是襯底陣列。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的裝置，其中，所述多個襯底包括陣列之間隔開的多個襯底陣列。
21.一種用于MOCVD反應(yīng)器的襯底加熱結(jié)構(gòu)，包括：
紅外加熱燈，所述紅外加熱燈相對于襯托器成間隔設(shè)置，所述襯托器承載用于加熱的至少一個襯底；以及
多個間隔開的初級反射器和多個間隔開的次級反射器，所述多個間隔開的初級反射器將來自所述加熱燈的輻射引向所述襯托器，所述多個間隔開的次級反射器位于所述燈和所述襯托器之間，在將來自所述加熱燈的輻 射引導(dǎo)離開所述襯托器的位置中，在所述襯托器中具有凈熱量增益，并且所述初級反射器和所述次級反射器被配置成以期望的圖案在所述襯托器上分布熱量。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的裝置，其中，石英片被插在所述襯托器和所述燈之間，所述石英片和所述襯托器限定用于安置所述次級反射器的容器。