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      一種化學(xué)氣相沉積裝置及其清潔方法與流程

      文檔序號(hào):11061884閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

      技術(shù)特征:

      1.一種化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于,該裝置包含:

      反應(yīng)腔(1);

      進(jìn)氣部件(2),設(shè)置在所述反應(yīng)腔(1)頂部,并與該反應(yīng)腔(1)內(nèi)部相通;

      旋轉(zhuǎn)軸(3),設(shè)置在所述反應(yīng)腔(1)內(nèi)底部;

      托盤(5),設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)軸(3)頂部,并與所述進(jìn)氣部件(2)相對(duì)設(shè)置;

      加熱部件(4),環(huán)繞設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)軸(3)、所述托盤(5)下方;

      限流環(huán)(6),設(shè)置在所述托盤(5)周邊;

      氣體抽取部件(7),設(shè)置在所述反應(yīng)腔(1)內(nèi)底部,并環(huán)繞設(shè)置在所述加熱裝置(4)周邊;所述氣體抽取部件(7)與外部相通,所述氣體抽取環(huán)頂蓋(72)設(shè)有多個(gè)抽氣孔(721);

      多個(gè)清潔部件(8),每個(gè)所述清潔部件(8)包含:一個(gè)傳動(dòng)單元(81)和刮片(82);所述傳動(dòng)單元(81)還包含第一旋轉(zhuǎn)軸(812)、第二旋轉(zhuǎn)軸(813),所述刮片(82)設(shè)置在所述第一旋轉(zhuǎn)軸(812)、所述第二旋轉(zhuǎn)軸(813)上;

      所述傳動(dòng)單元(81)還包括曲軸結(jié)構(gòu)(811),所述曲軸結(jié)構(gòu)(811)包含一對(duì)旋轉(zhuǎn)臂(8111)、一個(gè)第一連桿(8112);

      所述清潔部件(8)還包括與所述限流環(huán)(6)上向下延伸的連動(dòng)桿(83),所述第一連桿(8112)與所述連動(dòng)桿(83)相連接,所述第一連桿(8112)通過(guò)一對(duì)所述旋轉(zhuǎn)臂(8111)分別與所述第一旋轉(zhuǎn)軸(812)、第二旋轉(zhuǎn)軸(813)連接;

      所述刮片(82)的位置與相應(yīng)所述抽氣孔(721)位置對(duì)應(yīng),所述限流環(huán)上下運(yùn)動(dòng)時(shí),所述連動(dòng)桿(83)驅(qū)動(dòng)所述傳動(dòng)單元(81)上的刮片(82)沿旋轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng),所述刮片掃過(guò)所述抽氣孔(721)。

      2.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于,所述氣體抽取部件(7)包含:

      氣體抽取環(huán)(71),呈環(huán)形,設(shè)置在所述反應(yīng)腔(1)內(nèi)底部,并環(huán)繞設(shè)置在所述加熱裝置(4)周邊;

      氣體抽取環(huán)頂蓋(72),呈環(huán)形,對(duì)應(yīng)設(shè)置在所述氣體抽取環(huán)(71)頂部。

      3.如權(quán)利要求2所述的化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于,所述氣體抽取環(huán)(71)截面呈U形;該氣體抽取環(huán)(71)設(shè)有一對(duì)匯總孔(711),所述一對(duì)匯總孔(711)對(duì)稱設(shè)置在該氣體抽取環(huán)(71)底部;

      所述氣體抽取部件(7)通過(guò)該對(duì)匯總孔(711)于外部相通。

      4.如權(quán)利要求2所述的化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于,所述傳動(dòng)桿單元(81)中:

      所述第一旋轉(zhuǎn)軸(812)的一端與所述氣體抽取環(huán)(71)的一內(nèi)側(cè)壁連接,該第一旋轉(zhuǎn)軸(812)的另一端與所述曲軸結(jié)構(gòu)(811)連接; 所述刮片(82)設(shè)置在該第一旋轉(zhuǎn)軸(812)上;

      所述第二旋轉(zhuǎn)軸(813)的一端與所述氣體抽取環(huán)(71)的另一內(nèi)側(cè)壁連接,該第二旋轉(zhuǎn)軸(813)的另一端與所述曲軸結(jié)構(gòu)(811)連接;

      所述第一旋轉(zhuǎn)軸(812)與所述第二旋轉(zhuǎn)軸(813)處于一條直線上。

      5.如權(quán)利要求2所述的化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于,所述曲軸結(jié)構(gòu)(811)中:

      所述第一旋轉(zhuǎn)軸(812)的一端與所述反應(yīng)腔(1)的一內(nèi)側(cè)壁連接,該第一旋轉(zhuǎn)軸(812)的另一端與所述曲軸結(jié)構(gòu)(811)連接; 所述刮片(82)設(shè)置在該第一旋轉(zhuǎn)軸(812)上;

      所述第二旋轉(zhuǎn)軸(813)的一端與該反應(yīng)腔(1)的同側(cè)內(nèi)側(cè)壁連接,該第二旋轉(zhuǎn)軸(813)的另一端與所述曲軸結(jié)構(gòu)(811)連接;

      所述第一旋轉(zhuǎn)軸(812)與所述第二旋轉(zhuǎn)軸(813)處于一條直線上。

      6.權(quán)利要求4或5所述的化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于,所述曲軸結(jié)構(gòu)(811)中:

      一對(duì)對(duì)稱設(shè)置的旋轉(zhuǎn)臂(8111),一個(gè)所述旋轉(zhuǎn)臂(8111)的外側(cè)壁底部與所述第一旋轉(zhuǎn)軸(812)連接;另一個(gè)所述旋轉(zhuǎn)臂(8111)的外側(cè)壁底部所述第二旋轉(zhuǎn)軸(813)連接;

      第一連桿(8112),設(shè)置在所述一對(duì)旋轉(zhuǎn)臂(8111)頂部之間。

      7.如權(quán)利要求6所述的化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于,所述連動(dòng)桿(83)包含:

      連動(dòng)環(huán)(831),套置在所述第一連桿(8112)上;

      第二連桿(832),所述第二連桿(832)的一端與所述連動(dòng)環(huán)(831)連接,該第二連桿(832)的另一端與所述限流環(huán)(6)連接。

      8.如權(quán)利要求7所述的化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)臂(8111)的直徑大于所述第二連桿(832)的長(zhǎng)度。

      9.如權(quán)利要求7所述的化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于,所述第二連桿(832)的初始位置與鉛垂面呈一個(gè)銳角。

      10.一種用于化學(xué)氣相沉積裝置的清潔部件,所述化學(xué)氣相沉積裝置包含:反應(yīng)腔(1),設(shè)于反應(yīng)腔(1)的頂部進(jìn)氣部件(2),設(shè)于反應(yīng)腔(1)內(nèi)部的旋轉(zhuǎn)軸(3)、托盤(5)、加熱部件(4)、限流環(huán)(6),以及設(shè)于反應(yīng)腔(1)內(nèi)底部的氣體抽取部件(7);

      其特征在于,該清潔部件(8)設(shè)置于所述反應(yīng)腔(1)內(nèi),并與限流環(huán)(6)連接;所述清潔部件(8)包含:

      一個(gè)傳動(dòng)單元(81)和刮片(82);所述傳動(dòng)單元(81)還包含第一旋轉(zhuǎn)軸(812)、第二旋轉(zhuǎn)軸(813),所述刮片(82)設(shè)置在所述第一旋轉(zhuǎn)軸(812)、所述第二旋轉(zhuǎn)軸(813)上;

      所述傳動(dòng)單元(81)還包括曲軸結(jié)構(gòu)(811),所述曲軸結(jié)構(gòu)(811)包含一對(duì)旋轉(zhuǎn)臂(8111)、一個(gè)第一連桿(8112);

      所述清潔部件(8)還包括與所述限流環(huán)(6)上向下延伸的連動(dòng)桿(83),所述第一連桿(8112)與所述連動(dòng)桿(83)相連接,所述第一連桿(8112)通過(guò)一對(duì)所述旋轉(zhuǎn)臂(8111)分別與所述第一旋轉(zhuǎn)軸(812)、第二旋轉(zhuǎn)軸(813)連接;

      所述刮片(82)的位置與相應(yīng)所述抽氣孔(721)位置對(duì)應(yīng),所述限流環(huán)上下運(yùn)動(dòng)時(shí),所述連動(dòng)桿(83)驅(qū)動(dòng)所述傳動(dòng)單元(81)上的刮片(82)沿旋轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng),所述刮片掃過(guò)所述抽氣孔(721)。

      11.如權(quán)利要求10所述的用于化學(xué)氣相沉積裝置的清潔部件,其特征在于,所述氣體抽取部件(7)包含:

      氣體抽取環(huán)(71),呈環(huán)形,設(shè)置在所述反應(yīng)腔(1)內(nèi)底部,并環(huán)繞設(shè)置在所述加熱裝置(4)周邊;

      氣體抽取環(huán)頂蓋(72),呈環(huán)形,對(duì)應(yīng)設(shè)置在所述氣體抽取環(huán)(71)頂部,所述氣體抽取環(huán)頂蓋(72)設(shè)有抽氣孔(721)。

      12.如權(quán)利要求10所述的用于化學(xué)氣相沉積裝置的清潔部件,其特征在于,所述氣體抽取環(huán)(71)截面呈U形;該氣體抽取環(huán)(71)設(shè)有一對(duì)匯總孔(711),所述一對(duì)匯總孔(711)對(duì)稱設(shè)置在該氣體抽取環(huán)(71)底部;

      所述氣體抽取部件(7)通過(guò)該對(duì)匯總孔(711)于外部相通。

      13.如權(quán)利要求11所述的用于化學(xué)氣相沉積裝置的清潔部件,其特征在于,所述傳動(dòng)桿單元(81)中:

      第一旋轉(zhuǎn)軸(812),所述第一旋轉(zhuǎn)軸(812)的一端與所述氣體抽取環(huán)(71)的一內(nèi)側(cè)壁連接,該第一旋轉(zhuǎn)軸(812)的另一端與所述曲軸結(jié)構(gòu)(811)連接;所述刮片(82)設(shè)置在該第一旋轉(zhuǎn)軸(812)上;

      第二旋轉(zhuǎn)軸(813),所述第二旋轉(zhuǎn)軸(813)的一端與所述氣體抽取環(huán)(71)的另一內(nèi)側(cè)壁連接,該第二旋轉(zhuǎn)軸(813)的另一端與所述曲軸結(jié)構(gòu)(811)連接;

      所述第一旋轉(zhuǎn)軸(812)與所述第二旋轉(zhuǎn)軸(813)處于一條直線上。

      14.如權(quán)利要求11所述的化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于,所述曲軸結(jié)構(gòu)(811)中:

      所述第一旋轉(zhuǎn)軸(812)的一端與所述反應(yīng)腔(1)的一內(nèi)側(cè)壁連接,該第一旋轉(zhuǎn)軸(812)的另一端與所述曲軸結(jié)構(gòu)(811)連接; 所述刮片(82)設(shè)置在該第一旋轉(zhuǎn)軸(812)上;

      所述第二旋轉(zhuǎn)軸(813)的一端與該反應(yīng)腔(1)的同側(cè)內(nèi)側(cè)壁連接,該第二旋轉(zhuǎn)軸(813)的另一端與所述曲軸結(jié)構(gòu)(811)連接;

      所述第一旋轉(zhuǎn)軸(812)與所述第二旋轉(zhuǎn)軸(813)處于一條直線上。

      15.如權(quán)利要求13或14所述的化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于,所述曲軸結(jié)構(gòu)(811)中:

      一個(gè)所述旋轉(zhuǎn)臂(8111)的外側(cè)壁底部與所述第一旋轉(zhuǎn)軸(812)連接;另一個(gè)所述旋轉(zhuǎn)臂(8111)的外側(cè)壁底部所述第二旋轉(zhuǎn)軸(813)連接;

      第一連桿(8112),設(shè)置在所述一對(duì)旋轉(zhuǎn)臂(8111)頂部之間。

      16.如權(quán)利要求15所述的用于化學(xué)氣相沉積裝置的清潔部件,其特征在于,所述連動(dòng)桿(83)包含:

      連動(dòng)環(huán)(831),設(shè)置在所述第一連桿(8112)上;

      第二連桿(832),所述第二連桿(832)的一端與所述連動(dòng)環(huán)(831)連接,該第二連桿(832)的另一端與所述限流環(huán)(6)連接。

      17.如權(quán)利要求16所述的用于化學(xué)氣相沉積裝置的清潔部件,其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)臂(8111)的直徑大于所述第二連桿(832)的長(zhǎng)度。

      18.如權(quán)利要求16所述的用于化學(xué)氣相沉積裝置的清潔部件,其特征在于,所述第二連桿(832)的初始位置與鉛垂面呈一個(gè)銳角。

      19.一種化學(xué)氣相沉積裝置的清潔方法,其特征在于,該方法包含如下步驟:

      在所述氣體抽取部件(7)內(nèi)設(shè)定多個(gè)所述清潔部件(8),或在反應(yīng)腔(1)內(nèi)設(shè)定多個(gè)所述清潔部件(8);

      當(dāng)所述限流環(huán)(6)移動(dòng)時(shí),帶動(dòng)多個(gè)所述清潔部件(8)轉(zhuǎn)動(dòng);

      每個(gè)所述清潔部件(8)與對(duì)應(yīng)的所述抽氣孔(721)相接觸,以清潔該抽氣孔(721)。

      20.如權(quán)利要求19所述的化學(xué)氣相沉積裝置的清潔方法,其特征在于,根據(jù)所述氣體抽取部件(7)中抽氣孔(721)的數(shù)量,設(shè)定所述清潔部件(8)的數(shù)量;

      將每個(gè)所述清潔部件(8)的刮片(82)位置與相應(yīng)的所述抽氣孔(721)位置一一對(duì)應(yīng);

      將所有的清潔部件(8)設(shè)定在所述氣體抽取環(huán)(71)內(nèi)或設(shè)定在所述反應(yīng)腔(1)內(nèi);同時(shí)確保初始狀態(tài)時(shí),所述第二連桿(832)的初始位置與鉛垂面之間呈一個(gè)銳角。

      21.如權(quán)利要求19所述的化學(xué)氣相沉積裝置的清潔方法,其特征在于,當(dāng)所述限流環(huán)(6)進(jìn)行上下移動(dòng)時(shí),帶動(dòng)所有的連動(dòng)桿(83)進(jìn)行上下移動(dòng);

      每個(gè)所述連動(dòng)桿(83)帶動(dòng)與其連接的曲軸結(jié)構(gòu)(811)轉(zhuǎn)動(dòng),從而帶動(dòng)刮片(82)轉(zhuǎn)動(dòng)。

      22.如權(quán)利要求19所述的化學(xué)氣相沉積裝置的清潔方法,其特征在于,當(dāng)每個(gè)所述刮片(82)在轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí),該刮片(82)與對(duì)應(yīng)的所述抽氣孔(721)充分接觸,將沉積在該抽氣孔(721)上的沉淀物去除,并將沉淀物帶入截面呈U形的所述氣體抽取環(huán)(71)內(nèi),實(shí)現(xiàn)所有抽氣孔(721)的清潔。

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