技術總結
本發(fā)明揭示一種高精度金屬掩膜裝置及其制造方法，所述高精度掩膜裝置包括：電鑄基板，所述電鑄基板包括：基板主體；開口部，設置于所述基板主體上，且貫穿所述基板主體。掩膜主體，設置于所述電鑄基板上，位于所述開口部，所述掩膜主體的邊緣與所述電鑄基板相連接。所述高精度金屬掩膜裝置可以提高電鑄的高精度金屬掩膜裝置的合格率、尺寸精度以及位置精度。

技術研發(fā)人員：吳建;鄭慶靚;樊春雷
受保護的技術使用者：上海和輝光電有限公司
文檔號碼：201510726941
技術研發(fā)日：2015.10.30
技術公布日：2017.05.10