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      磁控管的安裝機(jī)構(gòu)及磁控濺射設(shè)備的制作方法

      文檔序號(hào):12056983閱讀:796來源:國知局
      磁控管的安裝機(jī)構(gòu)及磁控濺射設(shè)備的制作方法與工藝

      本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域,具體地,涉及一種磁控管的

      安裝機(jī)構(gòu)及磁控濺射設(shè)備。



      背景技術(shù):

      磁控濺射技術(shù)是一類常見的物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)技術(shù),其特點(diǎn)是在靶材的背部設(shè)置磁控管,用于提供可穿過靶材的磁場(chǎng),該磁場(chǎng)在工藝腔室內(nèi)對(duì)等離子體中的電子形成磁場(chǎng)束縛,使其沿著磁力線作螺旋運(yùn)動(dòng),從而可以延長電子運(yùn)動(dòng)軌跡,并提高電子對(duì)工藝氣體的電離幾率,進(jìn)而達(dá)到增加濺射產(chǎn)額的目的。

      磁控管與靶材之間的間距稱為靶間距,若靶間距過大,則會(huì)使穿過靶材的磁場(chǎng)強(qiáng)度過低,導(dǎo)致膜層沉積速率下降;若靶間距過小,則穿過靶材的磁場(chǎng)強(qiáng)度過高,這可以在工藝開始時(shí)獲得較高的沉積速率,但在濺射一段時(shí)間之后,沉積速率會(huì)迅速下降到一個(gè)非常低的水平。因此,為了獲得理想的沉積速率,經(jīng)常需要調(diào)整靶間距。

      圖1為現(xiàn)有的磁控管的安裝機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)圖。圖2為現(xiàn)有的磁控管的安裝機(jī)構(gòu)的剖視圖。請(qǐng)一并參閱圖1和圖2,該安裝結(jié)構(gòu)用于將傳動(dòng)軸4豎直安裝在絕緣腔6的頂壁上,在絕緣腔6的底部設(shè)置有靶材7,磁控管8通過磁控管安裝座10固定在傳動(dòng)軸4的下端,且位于靶材7上方。傳動(dòng)軸4的上端通過傳動(dòng)機(jī)構(gòu)3與驅(qū)動(dòng)電機(jī)1連接,該驅(qū)動(dòng)電機(jī)1通過電機(jī)安裝座2固定在絕緣腔6的頂壁上。在驅(qū)動(dòng)電機(jī)1的驅(qū)動(dòng)下,傳動(dòng)軸4帶動(dòng)磁控管8作旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),掃描靶材7表面。安裝結(jié)構(gòu)包括軸承組件和軸承固定座5,其中,軸承組件用于支撐傳動(dòng)軸4,其包括深溝球軸承、角接觸軸承、上下端蓋、密封圈等等,以實(shí)現(xiàn)傳動(dòng)軸4的旋轉(zhuǎn)和密封。軸承固定座5用于將該軸承組件固定 在軸承底座5絕緣腔6的頂壁上。

      在需要調(diào)整磁控管8與靶材7之間的靶間距D時(shí),可以通過更換設(shè)置在磁控管8的上端面與磁控管安裝座10之間的不同厚度的墊片9來實(shí)現(xiàn),即,當(dāng)需要增大靶間距D時(shí),使用厚度較小的墊片10;當(dāng)需要減小靶間距D時(shí),使用厚度較大的墊片10。但是,這會(huì)存在以下問題:

      其一,采用更換墊片10的方式無法實(shí)現(xiàn)靶間距D的無級(jí)調(diào)節(jié)。

      其二,在更換墊片10時(shí),需要打開絕緣腔6,并卸載磁控管8,在完成墊片10的更換之后,還需要重新安裝磁控管8,這一過程非常繁瑣。

      其三,打開絕緣腔6還會(huì)打斷工藝的連續(xù)性,從而降低了產(chǎn)能。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一,提出了一種磁控管的安裝機(jī)構(gòu)及磁控濺射設(shè)備,其不僅可以實(shí)現(xiàn)靶間距的無級(jí)調(diào)節(jié),而且無需打開絕緣腔,也無需裝卸磁控管,調(diào)節(jié)過程簡單、保證了工藝的連續(xù)性。

      為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的而提供一種磁控管的安裝機(jī)構(gòu),用于將傳動(dòng)軸豎直安裝在絕緣腔的頂壁上,所述傳動(dòng)軸的下端延伸至所述絕緣腔內(nèi),在所述絕緣腔的底部設(shè)置有靶材,所述磁控管固定在所述傳動(dòng)軸的下端,且位于所述靶材上方,所述安裝機(jī)構(gòu)包括軸承組件、軸承底座、軸承固定座和壓緊塊,其中,所述軸承組件用于支撐所述傳動(dòng)軸;所述軸承底座用于固定所述軸承組件;所述軸承固定座固定在所述絕緣腔的頂壁上,且套在所述軸承底座上,并且所述軸承固定座與所述軸承底座螺紋連接;通過調(diào)節(jié)所述軸承底座與所述軸承固定座在豎直方向上的相對(duì)旋合位置,來調(diào)整所述軸承底座相對(duì)于所述絕緣腔的頂壁的高度;所述壓緊塊與所述軸承固定座螺紋連接,且位于所述軸承底座的上方,用以在完成對(duì)所述軸承底座與所述軸承固定座在豎直方向上的相對(duì)旋合位置的調(diào)節(jié)之后,壓緊所述軸承底座。

      優(yōu)選的,在所述軸承底座的外周壁上形成有第一環(huán)形凸臺(tái),并 且在所述第一環(huán)形凸臺(tái)的外周壁上形成有第一外螺紋;在所述軸承固定座的內(nèi)周壁上形成有內(nèi)螺紋,所述內(nèi)螺紋和所述第一外螺紋螺紋相配合;所述壓緊塊環(huán)繞在所述軸承底座和所述軸承固定座之間,并且在所述壓緊塊的外周壁上,且位于其下端形成有第二環(huán)形凸臺(tái),并且在所述第二環(huán)形凸臺(tái)的外周壁上形成有第二外螺紋,所述內(nèi)螺紋和所述第二外螺紋相配合。

      優(yōu)選的,在所述軸承固定座的內(nèi)周壁上,且位于所述內(nèi)螺紋的底部形成有第三環(huán)形凸臺(tái),所述第三環(huán)形凸臺(tái)的內(nèi)徑小于所述第一環(huán)形凸臺(tái)的外徑,用以防止所述軸承底座下移,致使靶間距為零。

      優(yōu)選的,所述軸承固定座的頂端低于所述軸承底座的頂端,且在所述軸承底座的外周壁上,且位于所述軸承固定座上方的位置處設(shè)置有第一螺紋孔,用以安裝用于手動(dòng)驅(qū)動(dòng)所述軸承底座旋轉(zhuǎn)的第一把手。

      優(yōu)選的,所述第一螺紋孔為一個(gè)或多個(gè),且多個(gè)所述第一螺紋孔沿所述軸承底座的外周壁對(duì)稱分布。

      優(yōu)選的,所述壓緊塊的上端高于所述軸承固定座的頂端,且低于所述第一螺紋孔,并且在所述壓緊塊的外周壁上,且位于所述軸承固定座上方的位置處設(shè)置有第二螺紋孔,用以安裝用于手動(dòng)驅(qū)動(dòng)所述壓緊塊旋轉(zhuǎn)的第二把手。

      優(yōu)選的,所述第二螺紋孔為一個(gè)或多個(gè),且多個(gè)所述第二螺紋孔沿所述軸承底座的外周壁對(duì)稱分布。

      優(yōu)選的,分別對(duì)應(yīng)地在所述軸承固定座和所述軸承底座上設(shè)置有讀數(shù)盤和指針,其中,所述讀數(shù)盤沿所述軸承固定座的周向環(huán)繞設(shè)置,且標(biāo)有靶間距的數(shù)值。

      優(yōu)選的,在所述軸承固定座的內(nèi)周壁與所述軸承底座的外周壁之間設(shè)置有動(dòng)密封件,用以實(shí)現(xiàn)二者之間的動(dòng)密封。

      優(yōu)選的,在所述絕緣腔的頂壁上設(shè)置有貫穿其厚度的安裝孔,所述軸承固定座位于所述安裝孔內(nèi),且在所述軸承固定座的外周壁上還設(shè)置有安裝法蘭,所述安裝法蘭與所述絕緣腔的頂壁通過螺釘固定連接,且在二者之間設(shè)置有密封圈。

      作為另一個(gè)技術(shù)方案,本發(fā)明還提供一種磁控濺射設(shè)備,包括反應(yīng)腔、絕緣腔、磁控管、磁控管旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和磁控管的安裝機(jī)構(gòu),其中,所述絕緣腔設(shè)置在所述反應(yīng)腔的頂部,且在所述絕緣腔的底部設(shè)置有靶材,所述靶材的下表面暴露在所述反應(yīng)腔的內(nèi)部環(huán)境中;所述磁控管旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括傳動(dòng)軸和驅(qū)動(dòng)電機(jī),所述傳動(dòng)軸通過所述磁控管的安裝機(jī)構(gòu)豎直安裝在絕緣腔的頂壁上,且所述傳動(dòng)軸的下端延伸至所述絕緣腔內(nèi),所述磁控管固定在所述傳動(dòng)軸的下端;所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)用于驅(qū)動(dòng)所述傳動(dòng)軸旋轉(zhuǎn),所述磁控管的安裝機(jī)構(gòu)采用本發(fā)明提供的上述磁控管的安裝機(jī)構(gòu)。

      本發(fā)明具有以下有益效果:

      本發(fā)明提供的磁控管的安裝機(jī)構(gòu),其通過設(shè)置軸承固定座,該軸承固定座固定在絕緣腔的頂壁上,且套在軸承底座上,并且與之螺紋連接,可以通過調(diào)節(jié)軸承底座與軸承固定座在豎直方向上的相對(duì)旋合位置,來調(diào)整軸承底座相對(duì)于絕緣腔的頂壁的高度,從而帶動(dòng)軸承組件和傳動(dòng)軸以及與該傳動(dòng)軸連接的磁控管整體上升或下降,且由于螺紋連接具有連續(xù)可調(diào)性,進(jìn)而可以實(shí)現(xiàn)靶間距的無級(jí)調(diào)節(jié)。而且,由于僅通過旋轉(zhuǎn)軸承底座即可實(shí)現(xiàn)磁控管的升降,而無需打開絕緣腔,也無需裝卸磁控管,因此,本發(fā)明提供的磁控管的安裝機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)過程簡單、保證了工藝的連續(xù)性。

      本發(fā)明提供的磁控濺射設(shè)備,其通過采用本發(fā)明提供的磁控管的安裝機(jī)構(gòu),不僅可以實(shí)現(xiàn)靶間距的無級(jí)調(diào)節(jié),而且無需打開絕緣腔,也無需裝卸磁控管,調(diào)節(jié)過程簡單、保證了工藝的連續(xù)性。

      附圖說明

      圖1為現(xiàn)有的磁控管的安裝機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)圖;

      圖2為現(xiàn)有的磁控管的安裝機(jī)構(gòu)的剖視圖;

      圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的磁控管的安裝機(jī)構(gòu)的立體圖;

      圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的磁控管的安裝機(jī)構(gòu)的剖視圖;

      圖5為圖4中A區(qū)域的放大圖;以及

      圖6為圖3中B區(qū)域的放大圖。

      具體實(shí)施方式

      為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案,下面結(jié)合附圖來對(duì)本發(fā)明提供的磁控管的安裝機(jī)構(gòu)及磁控濺射設(shè)備進(jìn)行詳細(xì)描述。

      圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的磁控管的安裝機(jī)構(gòu)的立體圖。圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的磁控管的安裝機(jī)構(gòu)的剖視圖。請(qǐng)一并參閱圖3和圖4,磁控管的安裝機(jī)構(gòu)用于將傳動(dòng)軸14豎直安裝在絕緣腔19的頂壁上。其中,在絕緣腔19的底部設(shè)置有靶材21,傳動(dòng)軸14的下端延伸至絕緣腔19內(nèi),磁控管20通過磁控管安裝件24固定在傳動(dòng)軸14的下端,且位于靶材21上方,磁控管20的下端面與靶材21之間的間距稱為靶間距D。而且,傳動(dòng)軸14的上端通過傳動(dòng)機(jī)構(gòu)13與驅(qū)動(dòng)電機(jī)11連接,該驅(qū)動(dòng)電機(jī)11通過電機(jī)固定架12固定在絕緣腔19的頂壁上,用以通過傳動(dòng)機(jī)構(gòu)13驅(qū)動(dòng)傳動(dòng)軸14旋轉(zhuǎn),從而帶動(dòng)磁控管20圍繞傳動(dòng)軸14旋轉(zhuǎn)。在本實(shí)施例中,傳動(dòng)機(jī)構(gòu)13為帶傳動(dòng),其由主動(dòng)輪、從動(dòng)輪和傳動(dòng)帶組成,其中,主動(dòng)輪與驅(qū)動(dòng)電機(jī)11的驅(qū)動(dòng)軸連接;從動(dòng)輪與傳動(dòng)軸14連接;傳動(dòng)帶分別套在主動(dòng)輪和從動(dòng)輪上,在驅(qū)動(dòng)電機(jī)11工作時(shí),主動(dòng)輪通過傳送帶驅(qū)動(dòng)從動(dòng)輪旋轉(zhuǎn),從而帶動(dòng)傳動(dòng)軸14旋轉(zhuǎn)。當(dāng)然,在實(shí)際應(yīng)用中,傳動(dòng)機(jī)構(gòu)還可以采用諸如齒輪傳動(dòng)等的其他任意傳動(dòng)方式。

      圖5為圖4中A區(qū)域的放大圖。請(qǐng)參閱圖5,磁控管的安裝機(jī)構(gòu)包括軸承組件23、軸承底座15、軸承固定座16和壓緊塊22,其中,軸承組件23用于支撐傳動(dòng)軸14,其由軸承底座15固定在傳動(dòng)軸14上。該軸承組件23包括軸承鎖緊螺母231、壓軸套筒232、上端蓋233、深溝球軸承234、內(nèi)圈調(diào)整環(huán)235、角接觸球軸承236、機(jī)械密封237、壓緊套筒238、內(nèi)部密封圈239和下端蓋240,用以實(shí)現(xiàn)傳動(dòng)軸14的旋轉(zhuǎn),以及軸承底座15與傳動(dòng)軸14之間的密封,保證防止絕緣腔19內(nèi)的去離子水溢出。當(dāng)然,在實(shí)際應(yīng)用中,軸承組件還可以采用其他任意結(jié)構(gòu),只要能夠?qū)崿F(xiàn)上述支撐和密封作用即可。

      軸承固定座16固定在絕緣腔19的頂壁上,且套在軸承底座15上,并且軸承固定座16與軸承底座15螺紋連接,該螺紋連接的具體方式為:在軸承底座15的外周壁上形成有第一環(huán)形凸臺(tái)152,且在該第一環(huán)形凸臺(tái)152的外周壁上形成有第一外螺紋;并且,在軸承固定座16的內(nèi)周壁上形成有內(nèi)螺紋161,該內(nèi)螺紋161與第一外螺紋相配合,從而實(shí)現(xiàn)軸承固定座16與軸承底座15的螺紋連接,通過調(diào)節(jié)二者在豎直方向上的相對(duì)旋合位置,可以調(diào)整軸承底座15相對(duì)于絕緣腔19的頂壁的高度,即,通過使軸承底座15圍繞傳動(dòng)軸14轉(zhuǎn)動(dòng),在內(nèi)螺紋與第一外螺紋的配合作用下,軸承底座15相對(duì)于軸承固定座16上升或下降,且由于螺紋連接具有連續(xù)可調(diào)性,從而可以實(shí)現(xiàn)靶間距D的無級(jí)調(diào)節(jié)。

      壓緊塊22環(huán)繞在軸承固定座16與軸承底座15之間,且位于軸承底座15的上方,并且與軸承固定座16螺紋連接,用以在完成對(duì)軸承底座15與軸承固定座16在豎直方向上的相對(duì)旋合位置的調(diào)節(jié)之后,壓緊軸承底座15,以鎖緊該軸承底座15,保證其位置固定不動(dòng)。具體來說,在壓緊塊22的外周壁上,且位于其下端形成有第二環(huán)形凸臺(tái)222,且在該第二環(huán)形凸臺(tái)222的外周壁上形成有第二外螺紋,軸承固定座16的內(nèi)螺紋161與該第二外螺紋相配合,從而實(shí)現(xiàn)壓緊塊22與軸承固定座16的螺紋連接。當(dāng)完成靶間距D的調(diào)節(jié),即軸承底座15的高度確定之后,通過旋緊壓緊塊22,其第二環(huán)形凸臺(tái)222與第一環(huán)形凸臺(tái)152相接觸,且在二者之間形成預(yù)緊力,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)軸承底座15的鎖定。此外,在調(diào)節(jié)靶間距D之前,應(yīng)首先旋松壓緊塊22,以解除對(duì)軸承底座15的鎖定。

      由上可知,本發(fā)明實(shí)施例提供的磁控管的安裝機(jī)構(gòu)僅通過旋轉(zhuǎn)軸承底座15即可實(shí)現(xiàn)磁控管20的升降,而無需打開絕緣腔19,也無需裝卸磁控管20,調(diào)節(jié)過程簡單、保證了工藝的連續(xù)性。

      優(yōu)選的,在軸承固定座16的內(nèi)周壁上,且位于其內(nèi)螺紋161的底部形成有第三環(huán)形凸臺(tái)162,該第三環(huán)形凸臺(tái)162的內(nèi)徑小于第一環(huán)形凸臺(tái)152的外徑,以防止第一環(huán)形凸臺(tái)152下移,導(dǎo)致靶間距D為零,從而避免因磁控管20接觸靶材21影響工藝效果甚至損壞靶材 21。

      另外,為了在調(diào)節(jié)靶間距D時(shí),更方便地轉(zhuǎn)動(dòng)軸承底座15,優(yōu)選的,軸承固定座16的頂端低于軸承底座15的頂端,且在軸承底座15的外周壁上,且位于軸承固定座16上方的位置處設(shè)置有第一螺紋孔151,用以安裝用于手動(dòng)驅(qū)動(dòng)軸承底座15旋轉(zhuǎn)的第一把手。在需要調(diào)節(jié)靶間距D時(shí),將第一把手安裝在第一螺紋孔151中即可。在本實(shí)施例中,第一螺紋孔151為兩個(gè),且相對(duì)設(shè)置,從而可以使操作人員更省力。當(dāng)然,在實(shí)際應(yīng)用中,第一螺紋孔151還可以為一個(gè)或者三個(gè)以上,且三個(gè)以上的第一螺紋孔151沿軸承底座15的外周壁對(duì)稱分布,以方便操作人員根據(jù)具體情況選擇多個(gè)第一螺紋孔151中位置較合適的第一螺紋孔151安裝第一把手。

      另外,與轉(zhuǎn)動(dòng)軸承底座15的方式相類似的,優(yōu)選的,壓緊塊22的上端高于軸承固定座16的頂端,且低于第一螺紋孔151,并且在壓緊塊22的外周壁上,且位于軸承固定座16上方的位置處設(shè)置有第二螺紋孔221,用于安裝用于手動(dòng)驅(qū)動(dòng)壓緊塊22進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的第二把手。優(yōu)選的,第二螺紋孔221與第一螺紋孔151的尺寸相同,從而可以通用一個(gè)把手驅(qū)動(dòng)軸承底座15和壓緊塊22,即,同一把手既用作第一把手,又用作第二把手。另外,與第一螺紋孔151相類似的,第二螺紋孔221的數(shù)量同樣可以設(shè)計(jì)為一個(gè)或多個(gè),且多個(gè)第二螺紋孔221沿軸承底座15的外周壁對(duì)稱分布。

      進(jìn)一步優(yōu)選的,圖6為圖3中B區(qū)域的放大圖。請(qǐng)參閱圖6,分別對(duì)應(yīng)地在軸承固定座16和軸承底座15上設(shè)置有讀數(shù)盤18和指針17,其中,讀數(shù)盤18沿軸承固定座16的周向環(huán)繞設(shè)置,且標(biāo)有靶間距D的數(shù)值。具體來說,在本實(shí)施例中,讀數(shù)盤18設(shè)置在軸承固定座16的上端面;指針17的安裝端固定在軸承底座15的外周壁上,且位于軸承固定座16和壓緊塊22的上方的位置處,指針17的指示端延伸至讀數(shù)盤18的上方,用以指示靶間距D的當(dāng)前讀數(shù)。在需要調(diào)節(jié)靶間距D時(shí),可以根據(jù)指針17所指示的初始讀數(shù)以及軸承固定座16的內(nèi)螺紋161的導(dǎo)程計(jì)算出靶間距D的調(diào)整量,從而獲得指針17的目標(biāo)位置,然后轉(zhuǎn)動(dòng)軸承底座15,直至其上的指針17到 達(dá)該目標(biāo)位置。借助讀數(shù)盤18和指針17,可以更準(zhǔn)確地調(diào)節(jié)靶間距D。

      在本實(shí)施例中,在軸承固定座16的內(nèi)周壁與軸承底座15的外周壁之間設(shè)置有動(dòng)密封件26,用于實(shí)現(xiàn)二者之間的動(dòng)密封,從而可以在保證軸承固定座16和軸承底座15的相對(duì)旋轉(zhuǎn)的前提下,實(shí)現(xiàn)密封效果,以防止絕緣腔19內(nèi)的去離子水自二者之間的間隙溢出。

      在本實(shí)施例中,在絕緣腔19的頂壁上還設(shè)置有貫穿其厚度的安裝孔,軸承固定座16位于該安裝孔內(nèi),且在軸承固定座16的外周壁上還設(shè)置有安裝法蘭163,該安裝法蘭163與絕緣腔19的頂壁通過螺釘固定連接,并且在二者之間還設(shè)置有密封圈25,以防止絕緣腔19內(nèi)的去離子水溢出。

      綜上所述,本發(fā)明提供的磁控管的安裝機(jī)構(gòu),其通過設(shè)置軸承固定座,該軸承固定座固定在絕緣腔的頂壁上,且套在軸承底座上,并且與之螺紋連接,可以通過調(diào)節(jié)軸承底座與軸承固定座在豎直方向上的相對(duì)旋合位置,來調(diào)整軸承底座相對(duì)于絕緣腔的頂壁的高度,從而帶動(dòng)軸承組件和傳動(dòng)軸以及與該傳動(dòng)軸連接的磁控管整體上升或下降,且由于螺紋連接具有連續(xù)可調(diào)性,進(jìn)而可以實(shí)現(xiàn)靶間距的無級(jí)調(diào)節(jié)。而且,由于僅通過旋轉(zhuǎn)軸承底座即可實(shí)現(xiàn)磁控管的升降,而無需打開絕緣腔,也無需裝卸磁控管,因此,本發(fā)明提供的磁控管的安裝機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)過程簡單、保證了工藝的連續(xù)性。

      作為另一個(gè)技術(shù)方案,本發(fā)明還提供一種磁控濺射設(shè)備,其包括反應(yīng)腔、絕緣腔、磁控管、磁控管旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和磁控管的安裝機(jī)構(gòu),其中,絕緣腔設(shè)置在反應(yīng)腔的頂部,且在該絕緣腔的底部設(shè)置有靶材,靶材的下表面暴露在反應(yīng)腔的內(nèi)部環(huán)境中。

      磁控管旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括傳動(dòng)軸和驅(qū)動(dòng)電機(jī),其中,傳動(dòng)軸通過磁控管的安裝機(jī)構(gòu)豎直安裝在絕緣腔的頂壁上,且該傳動(dòng)軸的下端延伸至絕緣腔內(nèi),磁控管則固定在傳動(dòng)軸的下端。驅(qū)動(dòng)電機(jī)用于驅(qū)動(dòng)傳動(dòng)軸旋轉(zhuǎn),從而帶動(dòng)磁控管在靶材上方進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。在上述結(jié)構(gòu)中,磁控管的安裝機(jī)構(gòu)采用本發(fā)明提供的上述磁控管的安裝機(jī)構(gòu)。

      本發(fā)明提供的磁控濺射設(shè)備,其通過采用本發(fā)明提供的磁控管 的安裝機(jī)構(gòu),不僅可以實(shí)現(xiàn)靶間距的無級(jí)調(diào)節(jié),而且無需打開絕緣腔,也無需裝卸磁控管,調(diào)節(jié)過程簡單、保證了工藝的連續(xù)性。

      可以理解的是,以上實(shí)施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實(shí)施方式,然而本發(fā)明并不局限于此。對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言,在不脫離本發(fā)明的精神和實(shí)質(zhì)的情況下,可以做出各種變型和改進(jìn),這些變型和改進(jìn)也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。

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