技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種帶遮擋板的限流環(huán)裝置與化學(xué)氣相沉積設(shè)備及其調(diào)節(jié)方法，在反應(yīng)腔內(nèi)將耐熱材料制成的遮擋板設(shè)置在限流環(huán)內(nèi)側(cè)及托盤外側(cè)之間，通過該遮擋板將限流環(huán)內(nèi)表面的全部或局部進(jìn)行遮蔽，以阻擋從被加熱的托盤射向被冷卻的限流環(huán)的熱輻射，并通過遮擋板、或遮擋板與托盤的組合、或遮擋板與限流環(huán)的組合，構(gòu)成引導(dǎo)化學(xué)氣相沉積工藝所需工藝氣體在反應(yīng)腔內(nèi)流通的空間。本發(fā)明通過限流環(huán)內(nèi)側(cè)的遮擋板阻擋來自托盤的高溫?zé)彷椛?，抑制反?yīng)副產(chǎn)物沉積，降低功耗，并實(shí)現(xiàn)對(duì)反應(yīng)腔內(nèi)的溫場(chǎng)及流場(chǎng)的調(diào)節(jié)，有效改善工藝反應(yīng)處理效果。

技術(shù)研發(fā)人員：尹志堯;杜志游;何乃明;李可
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）有限公司
文檔號(hào)碼：201510788966
技術(shù)研發(fā)日：2015.11.17
技術(shù)公布日：2017.05.24