技術(shù)總結(jié)
一種濺射系統(tǒng)具有帶有入口端都和出口端都的處理室以及被定位在該處理室的壁上的濺射靶材?；顒哟朋w布置被定位在濺射靶材之后，并且在該靶材后面往復(fù)地滑動。傳送帶將襯底以恒定的速度連續(xù)地傳輸通過該濺射靶材，使得在任何給定的時刻處，若干個襯底面對位于前緣和尾緣之間的靶材?；顒哟朋w布置以比傳送機(jī)的恒定速度快至少若干倍的速度滑動。在靶材的前緣和尾緣后面限定旋轉(zhuǎn)區(qū)域，其中，磁體布置在它進(jìn)入旋轉(zhuǎn)區(qū)域時減速，并且在它在旋轉(zhuǎn)區(qū)域內(nèi)逆轉(zhuǎn)滑動方向時加速。磁體功率和/或速度根據(jù)磁體行進(jìn)方向而變化。

技術(shù)研發(fā)人員：V·沙阿;A·里波薩恩;T·布魯克;V·庫德里亞夫采夫
受保護(hù)的技術(shù)使用者：因特瓦克公司
文檔號碼：201580017462
技術(shù)研發(fā)日：2015.02.18
技術(shù)公布日：2017.02.15