本發(fā)明總體上涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，更具體涉及抗瞬變噴頭。

背景技術(shù)：

半導(dǎo)體處理工具經(jīng)常包括被設(shè)計(jì)成在整個(gè)半導(dǎo)體襯底或晶片以相對(duì)均勻的方式分配處理氣體的部件。這些部件在業(yè)內(nèi)通常被稱為“噴頭”。噴頭一般包括在內(nèi)部可以處理半導(dǎo)體襯底或者晶片的半導(dǎo)體處理容積空間前面的面板。面板可包括多個(gè)氣體分配端口，這些端口使得在充氣室容積空間內(nèi)的氣體能夠流過(guò)面板并進(jìn)入襯底和面板之間(或支撐晶片的晶片支撐件和面板之間)的反應(yīng)空間。在一些情況下，噴頭可被配置為在該噴頭內(nèi)將兩種不同氣體彼此隔離的同時(shí)，以同步方式在整個(gè)半導(dǎo)體襯底或晶片上分配這兩種不同氣體。氣體分配端口通常被布置成使得整個(gè)晶片上的氣體分配導(dǎo)致基本均勻的襯底處理。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本公開(kāi)的一個(gè)方面涉及一種裝置，其具有：第一氣體入口；第一表面；多個(gè)第一氣體分配端口；第二表面；第三表面，其置于所述第一表面和第二表面之間；第四表面，其置于所述第三表面和第二表面之間；和多個(gè)第一氣流通道，其置于所述第一表面和所述第三表面之間。在這樣的裝置中，所述第一氣體入口可以被配置為輸送第一處理氣體通過(guò)所述第一表面，并且所述第一氣體分配端口被配置成輸送所述第一處理氣體通過(guò)所述第二表面。

所述裝置可以具有與所述第一氣體入口流體連接的第一入口充氣室容積空間，所述第一入口充氣室容積空間至少部分地被所述第一表面和所述第三表面限定。所述裝置可以進(jìn)一步具有與所述第一氣體分配端口流體連接的第一氣體分配充氣室容積空間，所述第一氣體分配充氣室容積空間至少部分地被所述第二表面和所述第四表面限定。

所述第一氣流通道可以各自具有第一端和第二端，所述第一端將所述第一氣流通道與所述第一入口充氣室容積空間流體連接，所述第二端將所述第一氣流通道與所述第一氣體分配充氣室容積空間流體連接。每個(gè)第一氣流通道都可以是基本相同的總長(zhǎng)度，在第一端延伸遠(yuǎn)離所述第一入口充氣室容積空間，并且包括介于所述第一端和所述第二端之間的在140°和200°之間的彎曲，使得所述第一氣流通道的所述第二端朝向所述第一入口充氣室容積空間定位。

在一些實(shí)施方式中，每個(gè)第一氣流通道的所述第二端可以通過(guò)穿過(guò)所述第四表面的相應(yīng)的第一孔與所述第一氣體分配充氣室容積空間流體連接，每個(gè)第一孔可以具有標(biāo)稱孔直徑。在一些實(shí)施方式中，多個(gè)第一凸臺(tái)可以從所述第二表面朝向所述第四表面向上延伸，每個(gè)第一凸臺(tái)居中于所述第一孔中的一個(gè)上，并且具有標(biāo)稱臺(tái)直徑。在一些這樣的實(shí)施方式中，每個(gè)第一凸臺(tái)可以從所述第四表面偏移介于0.025mm和1.2mm之間的距離。在其它的或另外的這樣的實(shí)施方式中，每個(gè)第一凸臺(tái)可以從所述第四表面偏移介于所述標(biāo)稱直徑的1/11和1/13之間的距離。在還有的另外的或替代的這樣的實(shí)施方式中，每個(gè)第一凸臺(tái)可以從所述第四表面偏移小于所述標(biāo)稱臺(tái)直徑和所述標(biāo)稱孔直徑之間的差的2倍并且大于所述標(biāo)稱臺(tái)直徑和所述標(biāo)稱孔直徑之間的差的0.2倍的距離。

在一些實(shí)施方式中，第一氣體分配端口的不同子集可以與所述第一凸臺(tái)中的每個(gè)第一凸臺(tái)相鄰，并且每個(gè)第一凸臺(tái)都可以居中于所述多個(gè)第一氣體分配端口中的與該第一凸臺(tái)相鄰的第一氣體分配端口之間。

在一些實(shí)施方式中，多個(gè)第一支撐柱可以跨于第二表面與第四表面之間。

在一些實(shí)施方式中，所述第一孔可以具有介于1.5mm和3mm之間的直徑，并且在某些替代的或者另外的實(shí)施方式中，所述第一凸臺(tái)可以具有介于5mm和8mm之間的直徑。

在一些實(shí)施方式中，所述裝置還可以包括多個(gè)第一半島。每個(gè)第一半島可以伸入所述第一入口充氣室容積空間內(nèi)，并且所述第一氣流通道中的一個(gè)或多個(gè)的所述第二端可以延伸到所述第一半島中的每個(gè)中。在這樣的實(shí)施方式中，在所述第一半島內(nèi)的所述第一氣流通道的所述第二端可以比這樣的第一氣流通道的所述第一端更接近所述第一中心點(diǎn)。

在一些實(shí)施方式中，第一氣流通道可以包括介于所述第一端和所述第二端之間的在150°和190°之間的彎曲。在一些實(shí)施方式中，所述第一氣流通道中的每個(gè)可以具有其它第一氣流通道的長(zhǎng)度±30％、±20％、±10％或±5％內(nèi)的長(zhǎng)度。

在一些實(shí)施方式中，所述第一氣流通道中的每個(gè)沿其長(zhǎng)度可以具有恒定的橫截面面積。在一些實(shí)施方式中，所述第一氣流通道中的每個(gè)的第一端與所述裝置的第一軸線可以是等距離的。在一些實(shí)施方式中，所述裝置可以包括介于20個(gè)和100個(gè)之間的第一氣流通道。

在一些實(shí)施方式中，所述裝置還可以包括：第二氣體入口；第五表面；多個(gè)第二氣體分配端口；第六表面；第七表面，其置于所述第五表面和第六表面之間；第八表面，其置于所述第六表面和第七表面之間；和多個(gè)第二氣流通道，其置于所述第五表面和所述第七表面之間。在這樣的實(shí)施方式中，所述第二氣體入口可以被配置為輸送第二處理氣體通過(guò)所述第五表面，并且所述第二氣體分配端口可以被配置成輸送所述第二處理氣體通過(guò)所述第六表面。

在一些實(shí)施方式中，所述裝置可以具有與所述第二氣體入口流體連接的第二入口充氣室容積空間。第二入口充氣室容積空間可以至少部分地由所述第五表面和所述第七表面限定。所述裝置可以進(jìn)一步具有與所述第二氣體分配端口流體連接的第二氣體分配充氣室容積空間，并且第二氣體分配充氣室容積空間可以至少部分地由所述第六表面和所述第八表面限定。

在一些實(shí)施方式中，第二氣流通道各自可以具有第一端和第二端，所述第一端將所述第二氣流通道與所述第二入口充氣室容積空間流體連接，所述第二端將所述第二氣流通道與所述第二氣體分配充氣室容積空間流體連接。每個(gè)第二氣流通道都可以是基本相同的總長(zhǎng)度，在所述第一端延伸遠(yuǎn)離所述第二入口充氣室容積空間，并且包括介于所述第一端和所述第二端之間的在140°和200°之間的彎曲，使得該第二氣流通道的所述第二端朝向所述第一入口充氣室容積空間定位。

在一些實(shí)施方式中，這樣的裝置的每個(gè)第一氣流通道的所述第二端可以通過(guò)穿過(guò)所述第四表面的相應(yīng)的第一孔與所述第一氣體分配充氣室容積空間流體連接；每個(gè)第一孔可以具有標(biāo)稱孔直徑。在一些情況下，多個(gè)第一凸臺(tái)可以從所述第二表面朝向所述第四表面向上延伸，并且每個(gè)第一凸臺(tái)可以居中于所述第一孔中的一個(gè)上，并且可以具有標(biāo)稱臺(tái)直徑。在這樣的實(shí)施方式中，每個(gè)第二氣流通道的所述第二端可以通過(guò)穿過(guò)所述第八表面的相應(yīng)的第二孔與所述第二氣體分配充氣室容積空間流體連接；每個(gè)第二孔可以具有標(biāo)稱孔直徑。在一些情況下，多個(gè)第二凸臺(tái)從所述第六表面朝向所述第八表面向上延伸，其中每個(gè)第二凸臺(tái)居中于所述第二孔中的一個(gè)上，并且可以具有標(biāo)稱臺(tái)直徑。

在一些情況下，每個(gè)第一凸臺(tái)可以從所述第四表面偏移和/或每個(gè)第二凸臺(tái)可以從所述第八表面偏移介于0.025mm和1.2mm之間的距離。在其它的或者另外的情況下，每個(gè)第一凸臺(tái)可以從所述第四表面偏移和/或每個(gè)第二凸臺(tái)可以從所述第八表面偏移介于相應(yīng)的每個(gè)凸臺(tái)的標(biāo)稱直徑的1/11和1/13之間的距離。在還有的其它情況下，每個(gè)第一凸臺(tái)可以從所述第四表面偏移和/或每個(gè)第二凸臺(tái)可以從所述第八表面偏移小于所述標(biāo)稱臺(tái)直徑和所述相應(yīng)的標(biāo)稱孔直徑之間的差的2倍并且大于所述標(biāo)稱臺(tái)直徑和所述相應(yīng)的標(biāo)稱孔直徑之間的差的0.2倍的距離。

在某些實(shí)施方式中，所述裝置可以具有一個(gè)或多個(gè)另外的第一氣體入口，并且所述第一入口充氣室容積空間可以被劃分成多個(gè)第一入口充氣室子容積空間，每個(gè)第一入口充氣室子容積空間通過(guò)所述第一氣體入口中的不同的第一氣體入口進(jìn)給。

在某些實(shí)施方式中，所述第一入口充氣室容積空間和所述第一氣體分配充氣室容積空間可以置于所述第二入口充氣室容積空間和第二氣體分配充氣室容積空間之間。在其它實(shí)施方式中，所述第一入口充氣室容積空間和所述第二氣體分配充氣室容積空間可以置于所述第二入口充氣室容積空間和第一氣體分配充氣室容積空間之間。

在一些實(shí)施方式中，所述裝置內(nèi)的所述第一氣體分配端口的不同子集與所述第一凸臺(tái)中的每個(gè)第一凸臺(tái)相鄰，并且每個(gè)第一凸臺(tái)居中于鄰近該第一凸臺(tái)的所述第一氣體分配端口之間。

在一些實(shí)施方式中，在經(jīng)修改的所述裝置內(nèi)的第二氣體分配端口的不同子集與所述第二凸臺(tái)中的每個(gè)第二凸臺(tái)相鄰，并且每個(gè)第二凸臺(tái)居中于鄰近該第二凸臺(tái)的所述第二氣體分配端口之間。

在一些實(shí)施方式中，所述裝置還可以包括多個(gè)第一支撐柱和多個(gè)第二支撐柱，所述第一支撐柱跨于第二表面與第四表面之間，而所述第二支撐柱跨于第六表面與第八表面之間。

在一些實(shí)施方式中，所述裝置還可以包括多個(gè)第一半島，每個(gè)第一半島伸入所述第一入口充氣室容積空間內(nèi)，并且所述第一氣流通道中的一個(gè)或多個(gè)的所述第二端延伸到所述第一半島中的每個(gè)中。在這樣的實(shí)施方式中，在所述第一半島內(nèi)的所述第一氣流通道的所述第二端可以比那些第一氣流通道的所述第一端更接近所述第一入口充氣室容積空間的所述第一中心點(diǎn)。

在一些實(shí)施方式中，所述裝置還可以包括多個(gè)第二半島，每個(gè)第二半島伸入所述第二入口充氣室容積空間內(nèi)，并且所述第二氣流通道中的一個(gè)或多個(gè)的所述第二端延伸到所述第二半島中的每個(gè)中。在這樣的實(shí)施方式中，在所述第二半島內(nèi)的所述第二氣流通道的所述第二端可以比那些第二氣流通道的所述第一端更接近所述第二入口充氣室容積空間的所述第二中心點(diǎn)。

具體而言，本發(fā)明的一些方面可以闡述如下：

1.一種裝置，其包括：

第一氣體入口；

第一表面，其中所述第一氣體入口被配置為輸送第一處理氣體通過(guò)所述第一表面；

多個(gè)第一氣體分配端口；

第二表面，其中所述第一氣體分配端口被配置成輸送所述第一處理氣體通過(guò)所述第二表面；

第三表面，其置于所述第一表面和第二表面之間；

第四表面，其置于所述第三表面和第二表面之間；和

多個(gè)第一氣流通道，其置于所述第一表面和所述第三表面之間，其中：

所述第一表面和所述第三表面至少部分地限定與所述第一氣體入口流體連接的第一入口充氣室容積空間，

所述第二表面和所述第四表面至少部分地限定與所述第一氣體分配端口流體連接的第一氣體分配充氣室容積空間，

第一氣流通道各自具有第一端和第二端，所述第一端將所述第一氣流通道與所述第一入口充氣室容積空間流體連接，所述第二端將所述第一氣流通道與所述第一氣體分配充氣室容積空間流體連接，以及

每個(gè)第一氣流通道都是基本相同的總長(zhǎng)度，在第一端延伸遠(yuǎn)離所述第一入口充氣室容積空間，并且包括介于所述第一端和所述第二端之間的在140°和200°之間的彎曲，使得所述第一氣流通道的所述第二端朝向所述第一入口充氣室容積空間定位。

2.根據(jù)條款1所述的裝置，其中：

每個(gè)第一氣流通道的所述第二端通過(guò)穿過(guò)所述第四表面的相應(yīng)的第一孔與所述第一氣體分配充氣室容積空間流體連接，

多個(gè)第一凸臺(tái)從所述第二表面朝向所述第四表面向上延伸，

每個(gè)第一凸臺(tái)居中于所述第一孔中的一個(gè)上，并且

每個(gè)第一凸臺(tái)從所述第四表面偏移介于0.025mm和1.2mm之間的距離。

3.根據(jù)條款1所述的裝置，其中：

每個(gè)第一氣流通道的所述第二端通過(guò)穿過(guò)所述第四表面的相應(yīng)的第一孔與所述第一氣體分配充氣室容積空間流體連接，

多個(gè)第一凸臺(tái)從所述第二表面朝向所述第四表面向上延伸，

每個(gè)第一凸臺(tái)居中于所述第一孔中的一個(gè)上并具有標(biāo)稱孔直徑，并且

每個(gè)第一凸臺(tái)從所述第四表面偏移介于所述標(biāo)稱直徑的1/11和1/13之間的距離。

4.根據(jù)條款1所述的裝置，其中：

每個(gè)第一氣流通道的所述第二端通過(guò)穿過(guò)所述第四表面的相應(yīng)的第一孔與所述第一氣體分配充氣室容積空間流體連接，

每個(gè)第一孔具有標(biāo)稱孔直徑，

多個(gè)第一凸臺(tái)從所述第二表面朝向所述第四表面向上延伸，

每個(gè)第一凸臺(tái)居中于所述第一孔中的一個(gè)上并具有標(biāo)稱臺(tái)直徑，并且

每個(gè)第一凸臺(tái)從所述第四表面偏移小于介于所述標(biāo)稱臺(tái)直徑和所述標(biāo)稱孔直徑之間的差的2倍并且大于介于所述標(biāo)稱臺(tái)直徑和所述標(biāo)稱孔直徑之間的差的0.2倍的距離。

5.根據(jù)條款2-4中任一項(xiàng)所述的裝置，其中第一氣體分配端口的不同子集與所述第一凸臺(tái)中的每個(gè)第一凸臺(tái)相鄰，并且每一個(gè)第一凸臺(tái)都居中于所述多個(gè)第一氣體分配端口中的與該第一凸臺(tái)相鄰的第一氣體分配端口之間。

6.根據(jù)條款2-4中任一項(xiàng)所述的裝置，其還包括多個(gè)第一支撐柱，其中，所述第一支撐柱跨于所述第二表面與所述第四表面之間。

7.根據(jù)條款2-4中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述第一孔具有介于1.5mm和3mm之間的直徑。

8.根據(jù)條款2-4中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述第一凸臺(tái)具有介于5mm和8mm之間的直徑。

9.根據(jù)條款1-4中任一項(xiàng)所述的裝置，其還包括多個(gè)第一半島，其中：

所述第一入口充氣室容積空間具有第一中心點(diǎn)，

每個(gè)第一半島伸入所述第一入口充氣室容積空間內(nèi)，

所述第一氣流通道中的一個(gè)或多個(gè)的所述第二端延伸到所述第一半島中的每個(gè)中，并且

在所述第一半島內(nèi)的所述第一氣流通道的所述第二端比所述第一氣流通道的所述第一端更接近所述第一中心點(diǎn)。

10.根據(jù)條款1-4中任一項(xiàng)所述的裝置，其中每個(gè)第一氣流通道包括介于所述第一端和所述第二端之間的在150°和190°之間的彎曲。

11.根據(jù)條款1-4中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述第一氣流通道中的每個(gè)具有其它第一氣流通道的長(zhǎng)度±5％內(nèi)的長(zhǎng)度。

12.根據(jù)條款1-4中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述第一氣流通道中的每個(gè)具有其它第一氣流通道的長(zhǎng)度±10％內(nèi)的長(zhǎng)度。

13.根據(jù)條款1-4中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述第一氣流通道中的每個(gè)具有其它第一氣流通道的長(zhǎng)度±20％內(nèi)的長(zhǎng)度。

14.根據(jù)條款1-4中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述第一氣流通道中的每個(gè)具有其它第一氣流通道的長(zhǎng)度±30％內(nèi)的長(zhǎng)度。

15.根據(jù)條款1-4中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述第一氣流通道中的每個(gè)沿其長(zhǎng)度具有恒定的橫截面面積。

16.根據(jù)條款1-4中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述第一氣流通道中的每個(gè)的第一端與所述裝置的第一軸線是等距離的。

17.根據(jù)條款1-4中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述裝置包括介于20個(gè)和100個(gè)之間的第一氣流通道。

18.根據(jù)條款1-4中任一項(xiàng)所述的裝置，其還包括：

第二氣體入口；

第五表面，其中所述第二氣體入口被配置為輸送第二處理氣體通過(guò)所述第五表面；

多個(gè)第二氣體分配端口；

第六表面，其中所述第二氣體分配端口被配置成輸送所述第二處理氣體通過(guò)所述第六表面；

第七表面，其置于所述第五表面和第六表面之間；

第八表面，其置于所述第六表面和第七表面之間；和

多個(gè)第二氣流通道，其置于所述第五表面和所述第七表面之間，其中：

所述第五表面和所述第七表面至少部分地限定與所述第二氣體入口流體連接的第二入口充氣室容積空間，

所述第六表面和所述第八表面至少部分地限定與所述第二氣體分配端口流體連接的第二氣體分配充氣室容積空間，

所述第二氣流通道各自具有第一端和第二端，所述第一端將所述第二氣流通道與所述第二入口充氣室容積空間流體連接，所述第二端將所述第二氣流通道與所述第二氣體分配充氣室容積空間流體連接，以及

每個(gè)第二氣流通道都是基本相同的總長(zhǎng)度，在所述第一端延伸遠(yuǎn)離所述第二入口充氣室容積空間，并且包括介于所述第一端和所述第二端之間的在140°和200°之間的彎曲，使得該第二氣流通道的所述第二端朝向所述第二入口充氣室容積空間定位。

19.根據(jù)條款18所述的裝置，其中：

每個(gè)第一氣流通道的所述第二端通過(guò)穿過(guò)所述第四表面的相應(yīng)的第一孔與所述第一氣體分配充氣室容積空間流體連接，

多個(gè)第一凸臺(tái)從所述第二表面朝向所述第四表面向上延伸，

每個(gè)第一凸臺(tái)居中于所述第一孔中的一個(gè)上，

每個(gè)第一凸臺(tái)從所述第四表面偏移介于所述第一凸臺(tái)標(biāo)稱直徑的1/11和1/13之間的距離，

每個(gè)第二氣流通道的所述第二端通過(guò)穿過(guò)所述第八表面的相應(yīng)的第二孔與所述第二氣體分配充氣室容積空間流體連接，

多個(gè)第二凸臺(tái)從所述第六表面朝向所述第八表面向上延伸，

每個(gè)第二凸臺(tái)居中于所述第二孔中的一個(gè)上，并且

每個(gè)第二凸臺(tái)從所述第八表面偏移介于所述第二凸臺(tái)標(biāo)稱直徑的1/11和1/13之間的距離。

20.根據(jù)條款18或條款19所述的裝置，其還包括一個(gè)或多個(gè)另外的第一氣體入口，其中所述第一入口充氣室容積空間被劃分成多個(gè)第一入口充氣室子容積空間，每個(gè)第一入口充氣室子容積空間通過(guò)所述第一氣體入口中的不同第一氣體入口進(jìn)給。

21.根據(jù)條款18或條款19所述的裝置，其中，所述第一入口充氣室容積空間和所述第一氣體分配充氣室容積空間置于所述第二入口充氣室容積空間和第二氣體分配充氣室容積空間之間。

22.根據(jù)條款18或條款19所述的裝置，其中，所述第一入口充氣室容積空間和所述第二氣體分配充氣室容積空間置于所述第二入口充氣室容積空間和所述第一氣體分配充氣室容積空間之間。

23.根據(jù)條款18或條款19所述的裝置，其中，所述第一氣體分配端口的不同子集與所述第一凸臺(tái)中的每個(gè)第一凸臺(tái)相鄰，并且每個(gè)第一凸臺(tái)居中于鄰近該第一凸臺(tái)的所述第一氣體分配端口之間。

24.根據(jù)條款18或條款19所述的裝置，其中，所述多個(gè)第二氣體分配端口的不同子集與所述第二凸臺(tái)中的每個(gè)第二凸臺(tái)相鄰，并且每個(gè)第二凸臺(tái)居中于鄰近該第二凸臺(tái)的所述第二氣體分配端口之間。

25.根據(jù)條款18或條款19所述的裝置，其還包括多個(gè)第一支撐柱和多個(gè)第二支撐柱，其中：

所述第一支撐柱跨于所述第二表面與所述第四表面之間，以及

所述第二支撐柱跨于所述第六表面與所述第八表面之間。

26.根據(jù)條款18或條款19所述的裝置，其還包括多個(gè)第一半島，其中：

所述第一入口充氣室容積空間具有第一中心點(diǎn)，

每個(gè)第一半島伸入所述第一入口充氣室容積空間內(nèi)，

所述第一氣流通道中的一個(gè)或多個(gè)的所述第二端延伸到所述第一半島中的每個(gè)中，并且

在所述第一半島內(nèi)的所述第一氣流通道的所述第二端比所述第一氣流通道的所述第一端更接近所述第一中心點(diǎn)。

27.根據(jù)條款18或條款19所述的裝置，其還包括多個(gè)第二半島，其中：

所述第二入口充氣室容積空間具有第二中心點(diǎn)，

每個(gè)第二半島伸入所述第二入口充氣室容積空間內(nèi)，

所述第二氣流通道中的一個(gè)或多個(gè)的所述第二端延伸到所述第二半島中的每個(gè)中，并且

在所述第二半島內(nèi)的所述第二氣流通道的所述第二端比所述第二氣流通道的所述第一端更接近所述第二中心點(diǎn)。

附圖說(shuō)明

圖1描繪了一示例性的抗瞬變噴頭的等軸測(cè)分解圖。

圖2描繪了圖1的示例性的抗瞬變噴頭的第一隔板的俯視圖。

圖3描繪了圖1的示例性的抗瞬變噴頭的面板的俯視圖。

圖4描繪了圖1的示例性的抗瞬變噴頭的等角剖視圖。

圖5描繪了圖1的示例性的抗瞬變噴頭的截面圖。

圖6描繪了圖5的一部分的詳圖。

圖7示出了示例性的抗瞬變的雙充氣室噴頭的等軸測(cè)分解圖。

圖8描述了圖7的示例性的抗瞬變的雙充氣室噴頭的第一隔板的俯視圖。

圖9描繪了圖7的示例性的抗瞬變的雙充氣室噴頭的擋板的俯視圖。

圖10描繪了圖7的示例性的抗瞬變的雙充氣室噴頭的第二隔板的俯視圖。

圖11描繪了圖7的示例性的抗瞬變的雙充氣室噴頭的面板的俯視圖。

圖12描述了圖7的示例性的抗瞬變的雙充氣室噴頭的等角剖視圖。

圖1至圖12中的每個(gè)圖中按比例繪制，但圖與圖之間的比例可能不同。

具體實(shí)施方式

在下面的描述中，闡述了多個(gè)具體細(xì)節(jié)以提供對(duì)所提出的構(gòu)思的透徹理解。所提出的構(gòu)思在沒(méi)有這些具體細(xì)節(jié)中的一些或全部的情況下也可以實(shí)施。在其它情況下，未詳細(xì)地描述公知的處理操作以避免不必要地模糊所描述的構(gòu)思。盡管將結(jié)合具體實(shí)施方式描述一些構(gòu)思，但應(yīng)理解這些實(shí)施方式不意在進(jìn)行限制。

在本申請(qǐng)中，術(shù)語(yǔ)“半導(dǎo)體晶片”、“晶片”、“襯底”、“晶片襯底”等等是可互換使用的。用于半導(dǎo)體器件產(chǎn)業(yè)中的晶片或襯底典型地具有200mm、或300mm、或450mm的直徑，但也可以是非圓形的或者有其它尺寸。除了半導(dǎo)體晶片外，可從本發(fā)明獲益的其它工件還包括多種物品，例如印刷電路板、磁記錄介質(zhì)、磁記錄傳感器、鏡、光學(xué)元件、微機(jī)械器件等等。

在本公開(kāi)的一些附圖和描述中已采納了若干慣例。例如，在多處引述“容積空間(volume)”，例如“充氣室容積空間”。這些容積空間一般在各附圖中指出，但要理解這些附圖和伴隨的數(shù)值標(biāo)記表示這些容積空間的近似值并且實(shí)際容積空間可例如延伸至對(duì)容積空間構(gòu)成約束的多個(gè)固體表面。多個(gè)較小容積空間(例如導(dǎo)向充氣室容積空間的邊界表面的氣體入口或其它孔)可流體連接至這些充氣室容積空間。

應(yīng)理解，例如“之上”、“在……頂部”、“之下”、“下面”等相對(duì)術(shù)語(yǔ)的使用應(yīng)被理解為指在噴頭正常使用期間一些部件的與這些部件的方位有關(guān)或與該頁(yè)的附圖的方位有關(guān)的空間關(guān)系。在正常的使用中，噴頭通常被定向以在襯底處理操作期間向下朝向襯底分配氣體。

半導(dǎo)體制造通常要求處理氣體(諸如沉積氣體和蝕刻氣體)以均勻或受控的方式在正在進(jìn)行處理的半導(dǎo)體晶片或襯底上流動(dòng)。為此目的，本文中也稱為氣體分配歧管的并且有時(shí)也被稱為氣體分配器的“噴頭”可以用來(lái)在晶片的整個(gè)表面上分配氣體。當(dāng)氣體開(kāi)始流入噴頭時(shí)，初始?xì)饬骺赡芑ㄙM(fèi)不同的時(shí)間以到達(dá)在噴頭的整個(gè)面板布置的氣體分配端口中的每一個(gè)，這可能會(huì)導(dǎo)致在噴頭的整個(gè)面的非均勻的氣體分布。在穿過(guò)噴頭的氣流穩(wěn)定后，例如，在噴頭的一個(gè)或多個(gè)充氣室容積空間內(nèi)的壓強(qiáng)環(huán)境穩(wěn)定后，氣流會(huì)均勻得多。但是，在初始瞬變期間，充氣室容積空間內(nèi)的壓強(qiáng)會(huì)波動(dòng)，這可能會(huì)導(dǎo)致整個(gè)面板的不平衡流動(dòng)特性。由于這種瞬變流的不可預(yù)測(cè)性，因此在半導(dǎo)體處理過(guò)程中，該瞬變流期間通常是“丟失”的時(shí)間。

在長(zhǎng)時(shí)間的半導(dǎo)體處理過(guò)程中，例如，在具有數(shù)百秒或更長(zhǎng)的循環(huán)時(shí)間的處理過(guò)程中，可能是幾秒鐘的瞬變期間會(huì)構(gòu)成整個(gè)循環(huán)持續(xù)時(shí)間的相對(duì)小的部分，因此“丟失”的時(shí)間可能構(gòu)成整個(gè)循環(huán)時(shí)間的相對(duì)小的部分。然而，在持續(xù)時(shí)間短的半導(dǎo)體處理中，例如在原子層沉積(ALD)中，瞬變期間會(huì)具有更明顯的影響。例如，在ALD中，約幾秒或約十分之一秒的輸送時(shí)間是常見(jiàn)的，如果每個(gè)循環(huán)還必須包含由于瞬變而丟失的時(shí)間，那么很容易理解，瞬變的損失會(huì)如何顯著延長(zhǎng)整個(gè)處理時(shí)間。

在此討論的抗瞬變噴頭提供了用于從半導(dǎo)體處理系統(tǒng)最大限度地減少或降低瞬變流響應(yīng)的或者甚至針對(duì)相關(guān)的循環(huán)時(shí)間完全消除它的新機(jī)制。

抗瞬變噴頭，通常來(lái)說(shuō)，可配置有至少兩個(gè)充氣室，即氣體入口充氣室和氣體分配充氣室。每個(gè)充氣室可限定單獨(dú)的充氣室容積空間。這樣的噴頭還可以包括在第一端與氣體入口充氣室容積空間流體地連接并在第二端與氣體分配充氣室容積空間流體地連接的多個(gè)氣流通道。在許多情況下，隔板可以將氣體入口充氣室與氣體分配充氣室分離，氣流通道可以被加工進(jìn)入隔板的一個(gè)面內(nèi)；位于氣流通道的第二端的孔可使氣體能從入口充氣室容積空間流動(dòng)并流進(jìn)氣流通道內(nèi)，以便隨后穿過(guò)隔板并進(jìn)入氣體分配充氣室容積空間。氣流通道的用途是從入口充氣室容積空間輸送大致相等比例的氣體至氣體分配充氣室容積空間的分配位置。例如，該氣流通道的第二端可被布置在多個(gè)同心的或近乎同心(例如，彼此具有在幾毫米內(nèi)的中心點(diǎn))的圓形圖案以便在不同的分配位置將氣體輸送到氣體分配充氣室容積空間內(nèi)。因此，一些第二端可以位于所述氣體分配充氣室容積空間的外周附近，一些朝向氣體分配充氣室容積空間的中心，以及一些在這兩個(gè)位置之間。

每個(gè)氣流通道可以具有基本上相同的長(zhǎng)度，例如具有±5％的長(zhǎng)度變化，并且可以沿其長(zhǎng)度保持類似的橫截面輪廓或面積，例如，各氣流通道沿其長(zhǎng)度可以具有恒定的橫截面面積。各氣流通道還可以包括一個(gè)或多個(gè)彎曲，這些彎曲導(dǎo)致氣流通道最終從在第一端和第二端之間的一些共同的角度改變方向±X度，例如170°±15°或±20°。舉例而言，這些彎曲可以包括角度為170°的單個(gè)彎曲，角度為100°和70°的兩個(gè)彎曲，角度為50°、40°和80°的三個(gè)彎曲等等。各氣流通道內(nèi)的彎曲的數(shù)量的可以是相同的，或者在不同通道中不同，但是，不管在每個(gè)通道內(nèi)有多少?gòu)澢瑢?duì)于各通道的總彎曲角度可以是在上述的范圍內(nèi)。應(yīng)該理解的是，“總彎曲角度”是對(duì)于給定的氣流通道的彎曲角度的絕對(duì)值的總和。因此，如果氣流通道經(jīng)歷向左90°，然后向右90°的彎曲，則總彎曲角度是180°，而不是0°。通過(guò)包括在每個(gè)氣流通道內(nèi)的相同的標(biāo)稱總彎曲角度、截面積輪廓、和通道長(zhǎng)度，可以引起氣流通道呈現(xiàn)基本上類似的流動(dòng)阻力，這會(huì)導(dǎo)致流動(dòng)通過(guò)氣流通道的氣體以相同的速率通過(guò)所有的通道流動(dòng)，即使在瞬變流動(dòng)期間也如此。在一些實(shí)施方式中，總彎曲角度可以是介于，但不限于，140°至200°之間，即，比上面討論的170°±15°較放寬或較彎曲。

另外的性能提高可通過(guò)包括多個(gè)從面板朝著從氣流通道輸送氣體到氣體分配充氣室容積空間中的孔向上突出的凸臺(tái)來(lái)實(shí)現(xiàn)。這些凸臺(tái)中的每一個(gè)可以居中于這些孔中的相應(yīng)一個(gè)孔的下方，使得流出該孔的氣體沖擊凸臺(tái)的中心，從而導(dǎo)致氣體經(jīng)歷流動(dòng)方向的約90°的改變，例如,氣流從沿孔軸線流動(dòng)改變成沿總體上平行于面板的方向流動(dòng)。凸臺(tái)因此充當(dāng)用于進(jìn)一步以更均勻的方式在整個(gè)氣體分配充氣室容積空間分配氣體的“微型擋板”。

圖1描繪了一示例性的抗瞬變噴頭的等軸測(cè)分解圖。可以看到，抗瞬變噴頭100被示出。該噴頭100包括可被用于輸送第一處理氣體至噴頭100的桿180；該桿可提供氣體至第一氣體入口112(替代地，桿180也可以被認(rèn)為是第一氣體入口112)。桿180可以與背板102例如通過(guò)銅焊連接、擴(kuò)散粘合連接、焊接連接或螺栓連接等連接。背板102可以進(jìn)而與第一隔板108配合。第一隔板108可以包括被加工或以其他方式形成于其內(nèi)的各種特征，這些特征限定第一入口充氣室容積空間142和多個(gè)第一氣流通道138。第一氣流通道138可以具有以與所述第一入口充氣室容積空間142流體連接并且沿著第一入口充氣室容積空間142的外周布置的第一端；第一氣流通道138通?？梢詮牡谝蝗肟诔錃馐胰莘e空間142的外周向外輻射，然后借助于上述的在各第一氣流通道138的彎曲基本反轉(zhuǎn)其方向。

噴頭100也可以包括面板104，面板104包括在整個(gè)面板104布置成圖案的多個(gè)第一氣體分配端口134。面板104可以配合到第一隔板108，使得第一氣體分配充氣室容積空間146被形成。第一氣體分配充氣室容積空間146可以通過(guò)多個(gè)第一氣流通道138與第一入口充氣室容積空間142流體連接。

一般而言，第一入口充氣室容積空間142與第一氣體分配充氣室容積空間146可以至少部分地以各主要表面為界。例如，背板102可提供第一表面116，處理氣體可通過(guò)該第一表面116從第一氣體入口112引入并進(jìn)入第一入口充氣室容積空間142內(nèi)；因此第一表面116可充當(dāng)?shù)谝蝗肟诔錃馐胰莘e空間142的一個(gè)邊界。類似地，面板104可以提供第二表面118，處理氣體可從第一氣體分配充氣室容積空間146途徑第一氣體分配端口134穿過(guò)該第二表面118；因此，第二表面118可以充當(dāng)?shù)谝粴怏w分配充氣室容積空間146的一個(gè)邊界。類似地，第一隔板108可以具有第三表面120和第四表面122，第三表面120和第四表面122可分別充當(dāng)?shù)谝蝗肟诔錃馐胰莘e空間142和第一氣體分配充氣室容積空間146的進(jìn)一步的邊界。

應(yīng)該理解的是，這些表面不必一定由所描繪的確切部件提供。事實(shí)上，在一些實(shí)施方式中，甚至有可能沒(méi)有離散的面板、背板、或隔板。例如，噴頭100可被制造為整體結(jié)構(gòu)，例如，通過(guò)使用添加制造技術(shù)來(lái)制造，添加制造技術(shù)諸如直接金屬激光燒結(jié)，或者，如果陶瓷噴頭是所期望的，則使用陶瓷燒結(jié)工藝。在使用多個(gè)板結(jié)構(gòu)的實(shí)現(xiàn)方式中，如在所描述的例子中，可能希望包括分度銷106或其它類似的特征結(jié)構(gòu)，以確保各板被正確對(duì)齊。應(yīng)該理解的是，如果使用多板結(jié)構(gòu)，則形成整體噴頭結(jié)構(gòu)的各種板可沿它們的配合表面被焊接或擴(kuò)散粘合在一起，以防止氣體在這些板的接觸面之間流動(dòng)。

在圖1中還可以看到有多個(gè)第一凸臺(tái)160，其中的每一個(gè)位于第一氣流通道138中的一個(gè)的第二端的下方。除了第一凸臺(tái)外，還可以任選地包括多個(gè)第一支撐柱164。不同于不接觸第四表面122的第一凸臺(tái)160，第一支撐柱164可以提供結(jié)構(gòu)支撐以及熱傳導(dǎo)路徑給面板104，并且因此可延伸至第四表面122并接觸第四表面122(且可焊接或擴(kuò)散粘合至第四表面122以用作結(jié)構(gòu)支撐件)。

從實(shí)踐的角度而言，在抗瞬變噴頭中包含大量的氣流通道可能是合乎希望的。然而，隨著包含在抗瞬變噴頭中的氣流通道的數(shù)量增加，相應(yīng)的入口充氣室容積空間的尺寸也必定增大，以適應(yīng)沿入口充氣室容積空間的周邊的各氣流通道與入口充氣室容積空間之間的連接點(diǎn)的數(shù)目的增加。在某些時(shí)候，隨著氣流通道的數(shù)量的增加，入口充氣室容積空間的尺寸可以擴(kuò)展到足夠大的程度，使得放置一些孔可能是合乎期望的，這些孔使氣體從氣流通道進(jìn)給至氣體入口充氣室容積空間的周邊內(nèi)的氣體分配充氣室容積空間。為了做到這一點(diǎn)，在保持各氣流通道之間的流體隔離的同時(shí)，可包含若干半島。每個(gè)半島可從入口充氣室容積空間的標(biāo)稱最外周邊伸出到入口充氣室容積空間內(nèi)。每個(gè)半島可以包括可以被用于輸送氣體到這樣的位置的一個(gè)或多個(gè)氣流通道。

圖2描繪了圖1的示例性的抗瞬變噴頭的第一隔板108的俯視圖。在該圖中可以更詳細(xì)地看到，每個(gè)第一氣流通道138具有沿著通道的長(zhǎng)度的某些位點(diǎn)形成的彎曲154。此外，每個(gè)第一氣流通道138與其它第一氣流通道138具有基本上相同的長(zhǎng)度，在這種情況下，長(zhǎng)度為約170mm±5％。為說(shuō)明起見(jiàn)，第一氣流通道138在這個(gè)示例中是約2mm寬。每個(gè)第一氣流通道138在第一端150與第一入口充氣室容積空間142流體連接，并且在第二端152通過(guò)第一孔156流體連接到第一氣體分配充氣室容積空間146。可以看到，第一孔156中的六個(gè)位于第一入口充氣室容積空間142的最外周邊內(nèi)；提供氣體到這些第一孔156的第一氣流通道138通過(guò)半島168與第一入口充氣室容積空間142隔開(kāi)，半島168延伸到第一入口充氣室容積空間142內(nèi)?？稍趪婎^100中看出，有六十個(gè)從第一入口充氣室容積空間142向外輻射的第一氣流通道138。如果第一入口充氣室容積空間被設(shè)定尺寸以處于第一孔156(位于所述半島168內(nèi)的第一孔156)的圖案的最里面內(nèi)，那么這樣高數(shù)量的第一氣流通道138將不能夠(在所指示的通道寬度)沿著第一入口充氣室容積空間142的外周安裝。

圖3描繪了圖1的示例性的抗瞬變噴頭的面板104的俯視圖?？梢钥闯觯谝煌古_(tái)160以在整個(gè)第一氣體分配充氣室容積空間146相對(duì)地分散的方式布置。

圖4描繪了圖1的示例性的抗瞬變噴頭的等角剖視圖?？梢钥闯?，每個(gè)第一孔156定位在對(duì)應(yīng)的第一凸臺(tái)160的正上方。通過(guò)第一氣體入口112流入到第一入口充氣室容積空間142內(nèi)的氣體通?？赏瑫r(shí)到達(dá)所有的第一氣流通道138的第一端150，并且可以憑借具有標(biāo)稱相同的長(zhǎng)度且沿其長(zhǎng)度具有標(biāo)稱相同的總彎曲角度和橫截面的第一氣流動(dòng)通道138，在大致相同的時(shí)間到達(dá)第一氣流通道138的第二端152。這導(dǎo)致在多個(gè)位點(diǎn)(例如，每個(gè)第一孔156)大致同時(shí)引入氣體到第一氣體分配充氣室容積空間內(nèi)。第一凸臺(tái)160可以操作以進(jìn)一步在整個(gè)第一氣體分配充氣室容積空間146分配氣體，使得氣體以大體均勻的方式流過(guò)第一氣體分配端口134，即使當(dāng)噴頭100內(nèi)的氣流還沒(méi)有達(dá)到穩(wěn)定狀態(tài)也如此。

圖5描繪了圖1中的示例性的抗瞬變噴頭的截面圖。描繪了各種板，例如，面板104、背板102和第一隔板108，以及第一表面116、第二表面118、第三表面120和第四表面122。圖5還表示了在圖6中更詳細(xì)地顯示的圓形區(qū)域。

圖6描繪了圖5的一部分的詳圖。該詳圖示出了第一氣流通道138中的一個(gè)的第二端152，以及將第一氣流通道138流體連接到第一氣體分配充氣室容積空間146的第一孔156。圖6中還描繪了跨于第二表面118和第四表面122之間的第一支撐柱164。也可見(jiàn)兩個(gè)第一凸臺(tái)160，包括第一孔156正下方的一個(gè)?？梢悦黠@看出，在第一孔156下方的第一凸臺(tái)160居中于第一孔156下方。此外，第一間隙176存在于第一凸臺(tái)160和第四表面122之間。在所描繪的示例中，第一孔156具有2mm的直徑，第一凸臺(tái)160的直徑為6.5mm，并且第一間隙176為0.5mm。在若干實(shí)施方案中，第一間隙176可為第一凸臺(tái)160的標(biāo)稱直徑的函數(shù)，并且在一些這樣的實(shí)施方案中，第一間隙176可以是在介于凸臺(tái)的標(biāo)稱直徑的1/11到凸臺(tái)標(biāo)稱直徑的1/13之間的范圍內(nèi)，例如，凸臺(tái)直徑的約1/12。在其它實(shí)施方案中，第一間隙176可為第一凸臺(tái)160的標(biāo)稱直徑和第一孔156的直徑的函數(shù)，例如，可選擇第一間隙176，使得第一間隙176除以第一凸臺(tái)160的直徑和第一孔156的直徑之間的差的兩倍是在0.1和1之間。

前面的示例針對(duì)僅支持單一的處理氣體的流動(dòng)的噴頭100。如所討論的，本文所討論的構(gòu)思也可以應(yīng)用于多流或多充氣室噴頭。該構(gòu)思在下面更詳細(xì)討論被配置為使兩種處理氣體同時(shí)流動(dòng)的噴頭。在雙流示例中的結(jié)構(gòu)中的許多對(duì)應(yīng)于前文相對(duì)于單流噴頭100討論的結(jié)構(gòu)。為了避免冗長(zhǎng)，這些部件在下文不會(huì)再描述；在這種情況下，在噴頭100中的類似的結(jié)構(gòu)的前述討論可以被用來(lái)表示描述。在噴頭100和下面討論的雙流噴頭之間相似的部件的附圖標(biāo)記數(shù)字的后兩位數(shù)字可以相同。

圖7描繪了示例性的抗瞬變的雙充氣室噴頭的等軸測(cè)分解圖?？梢钥吹?，桿780被提供，其使得兩個(gè)單獨(dú)的氣體能被提供給噴頭700；桿可以被連接到背板702。桿780可以包括兩組通道，一組包括沿桿780的中心運(yùn)行的通道，而另一組包括置于中心通道和外套筒(示出的桿780的下部)之間的圓形通道陣列。在這個(gè)示例中，桿中的圓形氣流通道陣列為第一氣體入口712(圍繞背板702的中心孔排列的六個(gè)孔)提供氣體，而中心氣流通道為第二進(jìn)氣口714(在背板702內(nèi)的中心孔)提供氣體。噴頭700還可以包括第一隔板708、第二隔板710、擋板778和面板704。

圖8描繪了圖7中的示例性的抗瞬變的雙充氣室噴頭的第一隔板的俯視圖，第一隔板708非常類似于第一隔板108，但至少有兩點(diǎn)不同。例如，可以有位于第一入口充氣室容積空間742的中心的中心凸臺(tái)782；該中心凸臺(tái)782可用于減小第一入口充氣室容積空間742的尺寸，以減少使第一處理氣體流過(guò)第一入口充氣室容積空間所花費(fèi)的時(shí)間，并且還可以在一些實(shí)施方案中幫助使從充當(dāng)?shù)谝粴怏w入口712的六個(gè)端口流出的氣流均勻。在一些實(shí)施方案中，第一入口充氣室容積空間可被劃分成多個(gè)第一入口充氣室子容積空間，每個(gè)子容積空間由第一氣體入口中的不同的一個(gè)進(jìn)給。另一不同之處在于有穿過(guò)第一隔板708的多個(gè)第二孔758。

圖9描繪了圖7的抗瞬變的雙充氣室噴頭的擋板的俯視圖。在該實(shí)施方案中，擋板778是與面板104非常相似的，不同點(diǎn)在于第一支撐柱764數(shù)量更多，并且與第一支撐柱164排列不同。從圖7中可以看出，每個(gè)第一支撐柱764的位置對(duì)應(yīng)于在第一隔板708中的第二孔758中的一個(gè)，以及相應(yīng)的第二孔758繼續(xù)通過(guò)第一支撐柱764。這樣，第一支撐柱764不僅提供結(jié)構(gòu)支撐和在第一隔板708和擋板778之間的熱傳導(dǎo)通路，而且還通過(guò)擋板提供氣體流動(dòng)的途徑，該擋板保持該氣體與在第一氣體分配充氣室容積空間746內(nèi)的氣體分離。如同面板104，擋板778可包括每一個(gè)定位在第一孔756(后面示出)的下方的多個(gè)第一凸臺(tái)760，第一孔756將第一氣流通道738中的一個(gè)與第一氣體分配充氣室容積空間746流體連接。如同面板104，擋板778可以包括多個(gè)第一氣體分配端口734，第一氣體分配端口734可將氣體從第一氣體分配充氣室容積空間746供給到緊接在第一氣體分配充氣室下方的第二氣體分配充氣室容積空間或至噴頭700下方的晶片處理區(qū)。

圖10描繪了圖7的示例抗瞬變的雙充氣室噴頭的第二隔板的俯視圖。第二隔板710可以發(fā)揮與第一隔板708類似的功能，但是，是相對(duì)于第二氣體入口714?？梢钥吹?，多個(gè)基本等長(zhǎng)的第二氣流通道740經(jīng)由第二孔758將第二入口充氣室容積空間744與第二氣體分配充氣室容積空間748(見(jiàn)圖11)流體連接；第二氣體分配充氣室容積空間748在這個(gè)示例中是在擋板778和面板704之間形成的充氣室容積空間。第二氣流通道740在這種情況下并且如同第一氣流通道738，可具有與第二入口充氣室容積空間744連接的第一端750和與第二孔758流體連接的第二端752?？梢钥吹?，每個(gè)第二氣流通道740也可以包括彎曲754，該彎曲754可以是類似于第一氣流通道738中的彎曲754的，但是可以看出，其彎曲角度會(huì)較放寬。類似于在第一入口充氣室容積空間742的第一半島768，第二入口充氣室容積空間744也可以包括多個(gè)第二半島770，該多個(gè)第二半島770使得第二孔758中的一些可以位于第二入口充氣室容積空間744的外周邊內(nèi)。

圖11描繪了圖7的示例抗瞬變的雙充氣室噴頭的面板的俯視圖。面板704可包括多個(gè)第二氣體分配端口736和多個(gè)第一氣體分配端口734。第二氣體分配充氣室容積空間748可在面板704和擋板778之間形成，并且可包括充當(dāng)用于第二孔758的微型擋板的第二凸臺(tái)762的圖案，與第一凸臺(tái)760適用于第一孔756相當(dāng)類似。

在一些實(shí)施方案中，在擋板778中的每個(gè)第一氣體分配端口734可通過(guò)管狀結(jié)構(gòu)784被流體連接到在面板704內(nèi)的對(duì)應(yīng)的第一氣體分配端口734，管狀結(jié)構(gòu)784使流過(guò)第一氣體分配端口734的氣體與流過(guò)噴頭700中的第二氣體分配充氣室容積空間748的氣體分離。

圖12描繪了圖7的示例性的抗瞬變的雙充氣室噴頭的等角剖視圖，并且可以提供對(duì)噴頭700的結(jié)構(gòu)的更深入的了解。

類似于第一入口充氣室容積空間742和第一氣體分配充氣室容積空間746，第二入口充氣室容積空間744和第二氣體分配充氣室容積空間748也可以以各種表面為界。這些表面如在圖7中所示。例如，第二入口充氣室容積空間744可部分地以第五表面724和第七表面728為界，而第二氣體分配充氣室容積空間748可部分地以第六表面726和第八表面730為界。

在多充氣室噴頭中，入口充氣室相對(duì)于氣體分配充氣室的定位可以根據(jù)需要針對(duì)任何特定設(shè)計(jì)重新排序，它們不必定是在所描繪的布置中。例如，在所描繪的實(shí)施方案中，第一入口充氣室容積空間和第一氣體分配充氣室容積空間被界定在第二入口充氣室容積空間和第二氣體分配充氣室容積空間之間。然而，在其它實(shí)施方案中，這種排序可以被改變。舉非限制性示例而言，以下任何順序也可以在該構(gòu)思的不同實(shí)施方案中使用：

在這種情況下，用于第一氣體的充氣室容積空間使用于第二氣體的充氣室容積空間置于它們之間，這些用于第一氣體的充氣室容積空間可通過(guò)下述方式流體連接：使流體連接用于第一氣體的充氣室的孔(例如，第一孔)在用于第二氣體的氣流通道之間穿過(guò)或穿過(guò)用于第二氣體的一個(gè)或多個(gè)充氣室內(nèi)的支撐柱。