技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明屬于磁控濺射領(lǐng)域，針對靶材散熱技術(shù)，特別涉及一種濺射靶材自循環(huán)冷卻裝置。該裝置包括靶材和散熱結(jié)構(gòu)，靶材采用合成射流方法降溫，靶材對接密封在金屬陰極上端，合成射流發(fā)生器固定在合成射流腔體內(nèi)部，產(chǎn)生間歇射流氣體，射流氣體由合成射流腔體儲存，沿噴嘴噴出，噴出的射流氣體沖擊靶材內(nèi)側(cè)肋片達到降溫作用，升溫后的氣體進入散熱通道，經(jīng)降溫的氣體重新回到合成射流腔體循環(huán)使用。

技術(shù)研發(fā)人員：喬憲武
受保護的技術(shù)使用者：喬憲武
文檔號碼：201610477880
技術(shù)研發(fā)日：2016.06.21
技術(shù)公布日：2017.02.15