本發(fā)明涉及一種鎳基涂層的制備方法，特別涉及一種隙孔隙可調(diào)的鎳基涂層的制備方法。

背景技術(shù)：

激光熔覆技術(shù)作為一種新型的制造技術(shù)，已越來(lái)越多的應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)中。在熔覆的過(guò)程中，由于環(huán)境中的水分、載氣或者熔覆材料存在C，Ti等元素，熔覆層經(jīng)常不可避免隨機(jī)產(chǎn)生氣孔。但隨著使用條件的日益苛刻，對(duì)涂層的性能要求也越來(lái)越高。在某些應(yīng)用場(chǎng)合中，在滿足力學(xué)性能要求同時(shí)，需對(duì)熔覆層的抗震性、熱傳導(dǎo)性提出要求。根據(jù)相關(guān)文獻(xiàn)的研究表明涂層中氣孔的數(shù)量及分布對(duì)上述性能產(chǎn)生重要的影響，因此需對(duì)熔覆層中氣孔進(jìn)行調(diào)節(jié)。但單純依靠改變激光熔覆工藝參數(shù)或者粉末工藝，很難對(duì)熔覆層中氣孔含量及分布進(jìn)行定量控制，為解決上述問(wèn)題本發(fā)明提供了一種孔隙可調(diào)的鎳基涂層制備方法。

關(guān)于外加磁場(chǎng)對(duì)激光焊接和熔覆過(guò)程的調(diào)控技術(shù)，國(guó)內(nèi)外學(xué)者已經(jīng)開(kāi)展了一系列的研究。如德國(guó)的Bachmann等通過(guò)靜態(tài)磁場(chǎng)改善了鋁合金焊接熔池形貌，不萊梅實(shí)驗(yàn)室的Gatzen M等研究發(fā)現(xiàn)交變磁場(chǎng)對(duì)元素分布產(chǎn)生影響，但上述學(xué)者所采用的洛侖茲力均為自身感應(yīng)洛侖茲力，而非外加洛侖茲力且未對(duì)氣孔進(jìn)行研究。國(guó)內(nèi)也有眾多學(xué)者對(duì)其展開(kāi)研究，如公開(kāi)的文件(CN102899661)提出了一種采用磁場(chǎng)輔助激光熔覆的方法，該方法特點(diǎn)是僅采用單純磁場(chǎng)作用激光熔覆熔池得到晶粒取向一致，細(xì)膩均勻的涂層。公開(kāi)的文件(CN102703897)提出了一種旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)輔助激光熔覆制備Fe60復(fù)合涂層的方法，因該方法采用了旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)，這也使得內(nèi)部洛倫茲力是呈周期性變化，其作用結(jié)果往往使得熔覆層組織、元素、顆粒等分布更加均勻，不能調(diào)控氣孔、顆粒等的定向運(yùn)動(dòng)，且未涉及熔覆工藝與磁場(chǎng)的組合調(diào)控；公開(kāi)的文件(CN104195541)，提出一種電磁復(fù)合場(chǎng)輔助激光熔覆的方法及裝置，文件中所提供方法主要采用電磁復(fù)合場(chǎng)調(diào)控對(duì)象為組織、顆粒、元素、表面形貌，未涉及激光熔覆氣泡的生成工藝以及對(duì)氣泡運(yùn)動(dòng)調(diào)控，國(guó)內(nèi)外針對(duì)外場(chǎng)的發(fā)明或者研究大多其中于材料的組織、性能、熔池運(yùn)動(dòng)，而往往將氣孔作為缺陷避免其產(chǎn)生。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明要克服現(xiàn)有激光熔覆技術(shù)不能對(duì)氣孔分布調(diào)控的缺陷，提供一種可控孔隙鎳基涂層的制備方法。

本發(fā)明所述的一種可控孔隙鎳基涂層的制備方法，包括如下步驟：

A：拋光、清洗、除污：對(duì)基材表面進(jìn)行打磨處理，直至表面光亮達(dá)到表面粗糙度小于Ra1.6，再使用丙酮或者酒精進(jìn)行擦拭清洗將表面油污去除，并在通風(fēng)處晾干；

B：激光熔覆：使用同軸送粉器將鎳基粉末送入基材表面，形成激光熔覆熔池，逐層用激光掃描進(jìn)行激光熔覆使熔覆熔池形成氣泡，按以下參數(shù)調(diào)整鎳基粉末Ti、C含量、粉末粒徑、粉末球形度、保護(hù)氣中的水分含量并結(jié)合激光工藝參數(shù)控制熔覆層氣孔數(shù)量；

所述的鎳基粉末質(zhì)量分?jǐn)?shù)為：Ni 50.0～55.0％，Cr 12.0～17.10％，C 0.08～0.2％，Si 0～0.35％，Mn0～0.35％，S 0～0.018％，P0～0.015％，Al 0.30～0.70％，Ti 1.10～2％，Mo 2.8～3.30％，Nb 4.75～5.50％，余量為Fe；

所述粉末粒徑d＝50～150μm；

所述粉末球形度為0.6～0.9；

所述保護(hù)氣中水分含量質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.05～2％；

所述激光工藝參數(shù)控制在激光功率為800～1800W；掃描速度為6～15mm/s；保護(hù)氣流量為10～80HF/min；送粉量8～20g/min；

通常在上述條件下，所述熔覆層產(chǎn)生的氣孔形狀為球形，直徑范圍為5μm～100μm，所述熔覆層氣孔的總體積為熔覆層總體積的0.1～5％；

C:洛倫茲力體積力耦合：在B步驟讓所述熔覆熔池內(nèi)部形成氣泡基礎(chǔ)上(也就是通常所說(shuō)的“起泡”)，同時(shí)引入可調(diào)梯度洛倫茲力,對(duì)步驟B過(guò)程形成的氣泡進(jìn)行分布調(diào)節(jié)使氣泡形成的氣孔在熔覆層中由表面至里面深度方向呈梯度分布或呈均勻分布，這里起初在液態(tài)流體中的氣泡，在激光掃描過(guò)程中氣泡被凝固前沿捕獲，保留在熔覆層中形成氣孔；所述的洛倫茲力調(diào)節(jié)方法為：在基體通入平行于基材表面的直流電流，直至掃描結(jié)束,電流密度大小為0～10⁶A/m²，同時(shí)，將基體置于梯度穩(wěn)態(tài)磁場(chǎng)中，直至掃描結(jié)束,使得熔池表面的磁場(chǎng)強(qiáng)度為0～2T，磁場(chǎng)強(qiáng)度隨著熔池的深度增加而均勻降低，磁場(chǎng)強(qiáng)度下降的梯度為0.01～0.06T/mm。通常所述的保護(hù)氣為惰性氣體，如氬氣。

進(jìn)一步，所述基體在激光熔覆以前與可提供直流電流的外接電源連接以待連通。

通常所述直流電流為穩(wěn)態(tài)直流電流，由低壓大額定電流蓄電池提供，即外接電源為低壓大額定電流蓄電池，所述低壓大額定電流蓄電池的電壓為2～6V，放電能力：300～600Ah。

本發(fā)明優(yōu)選所述鎳基粉末質(zhì)量分?jǐn)?shù)為：Ni 52.5％，Cr 15％，C 0.1％，Si 0.3％，Mn 0.3％，S 0.01％，P 0.01％，Al 0.4％，Ti 1.5％，Mo 3％，Nb 5％，F(xiàn)e 21.88％。

再進(jìn)一步，所述磁場(chǎng)由電磁鐵提供，磁場(chǎng)方向與熔覆熔池表面平行，同時(shí)垂直于所述激光掃描方向，磁場(chǎng)梯度調(diào)節(jié)通過(guò)改變雙側(cè)接觸矩形磁極長(zhǎng)度和\或?qū)挾葋?lái)實(shí)現(xiàn)，所述的所述矩形磁極的寬度為10mm～40mm，所述的長(zhǎng)度為80～120mm。

更進(jìn)一步，所述洛侖茲力的方向通過(guò)改變通入電流方向或者磁場(chǎng)方向進(jìn)行調(diào)節(jié)。

為具體地，所述的可控孔隙鎳基涂層的制備方法，推存所述的激光功率為1600W,掃描速度為10mm/s,送粉量為10g/min,保護(hù)氣流量20HF/min，熔覆層形成球形氣孔，按以上操作，所產(chǎn)生的熔覆層球形氣孔直徑范圍為5μm～100μm，產(chǎn)生氣孔總體積占熔覆層體積的0.1～0.2％，且氣孔無(wú)規(guī)則分布，并且熔覆層形貌良好，無(wú)裂紋。本方案在步驟B工藝及粉末條件下，所述的熔覆層是指通過(guò)激光熔化覆蓋在基體表面的材料并與之形成冶金結(jié)合的涂層。

區(qū)別于其他激光涂層制備方法，本方法所針對(duì)的調(diào)控對(duì)象為氣孔，主要粉末及保護(hù)氣優(yōu)選內(nèi)容還包括：通過(guò)調(diào)整鎳基粉末Ti,C含量分別為1.5％與0.1％，控制保護(hù)氣中的水分含量為2％，為起泡提供原料以產(chǎn)生CO,CO₂等氣體，控制鎳基粉末粒徑(50～75μm)及球形度(0.8～0.9)，提高粉末與保護(hù)氣中水分的結(jié)合能力，對(duì)熔覆層進(jìn)行“起泡”，并在氣泡形核，長(zhǎng)大過(guò)程中施加洛倫茲力，以加速或者抑制氣泡運(yùn)動(dòng)，從而對(duì)熔覆層中氣泡數(shù)量及分布進(jìn)行調(diào)節(jié)。

通常，本發(fā)明通過(guò)步驟C調(diào)節(jié)磁場(chǎng)強(qiáng)度使其為1～2T，電流密度為10⁵～10⁶A/m²，同時(shí)使得洛侖茲力方向與熔覆熔池表面垂直向內(nèi)，這會(huì)使得氣泡溢出數(shù)量增加，得到熔覆層中殘留氣孔體積百分比0～0.1％且分布于熔覆層上部；這樣可以得到的無(wú)氣孔或氣孔含量極少的鎳基涂層。

如果我們?cè)诓襟EC調(diào)節(jié)磁場(chǎng)強(qiáng)度使其為1～2T，電流密度為10⁵～10⁶A/m²，同時(shí)使得洛倫茲力方向與熔覆熔池表面垂直向外，會(huì)使得氣泡溢出數(shù)量減少，熔覆層中殘留氣孔體積百分比5～20％，且分布于熔覆層底部。這樣可以得到的鎳基涂層殘留氣孔較多，并且大多分布在涂層的較底層。

如果，我們調(diào)節(jié)磁場(chǎng)強(qiáng)度為0.1～0.5T，電流密度大小為0～10⁵A/m²，同時(shí)使得洛倫茲力方向垂直熔覆熔池表面向內(nèi)，這會(huì)使得氣泡形核的能量降低，所述熔覆熔池中氣泡增多，此時(shí)洛侖茲力較小，流體的拖曳力占主導(dǎo)，氣泡受到流體攪拌作用而使得熔覆層氣孔變得均勻。

具體的，所述的可控孔隙鎳基涂層的制備方法為：所述的洛倫茲力是在熔覆熔池區(qū)域由磁場(chǎng)與電場(chǎng)相互耦合產(chǎn)生，方向與熔覆熔池表面垂直向內(nèi)或垂直向外，通過(guò)調(diào)節(jié)電流密度值0～10⁶A/m²與磁場(chǎng)值0～2T，使得洛侖茲力值大小范圍為0～2×10⁶N/m³，調(diào)節(jié)磁場(chǎng)梯度0.01～0.06T/mm，使得洛侖茲力從表面至里面深度方向并呈負(fù)梯度分布，洛侖茲力下降的梯度為10²～10⁵N/mm。

本發(fā)明方法具有以下優(yōu)點(diǎn)：

1、本發(fā)明將鎳基粉末材料含量(C和/或Ti含量)、粉末特性及保護(hù)氣含水量與洛侖茲力相調(diào)節(jié)結(jié)合，將定向洛倫茲力間接作用于氣泡，以物理形式調(diào)節(jié)氣孔分布，盡可能的保留了原有涂層的力學(xué)性能及組織特點(diǎn)，可得到不同孔隙的涂層。

2、本發(fā)明采用梯度洛倫茲力體積力，既可增加對(duì)熔池表面這一氣泡溢出關(guān)鍵界面區(qū)域的控制能力，以顯著提高控制效果，又可減少洛倫茲力對(duì)熔池底部氣泡析出過(guò)程的影響。

3、本發(fā)明可以通過(guò)調(diào)整施加在基材表面的直流電流大小及熔池表面的磁場(chǎng)強(qiáng)度來(lái)影響洛侖茲力的下降梯度，從而調(diào)整鎳基涂層內(nèi)的孔隙，以適應(yīng)不同的加工要求。這不僅適用于激光熔覆鎳基涂層，可同時(shí)適用焊接、激光熔凝等產(chǎn)生熔池的加工形式，適用范圍廣。

附圖說(shuō)明

圖1一種可控孔隙鎳基涂層的制備裝置工作狀態(tài)結(jié)構(gòu)圖

圖2實(shí)施例1條件下熔覆層縱截面氣孔分布圖

圖3實(shí)施例2條件下熔覆層縱截面氣孔分布圖

圖4實(shí)施例3條件下熔覆層縱截面氣孔分布圖

圖5實(shí)施例4條件下熔覆層縱截面氣孔分布圖

圖6實(shí)施例5洛倫茲力向上條件下(磁場(chǎng)梯度0.01T/mm)熔覆層縱截面氣孔分布圖

圖7實(shí)施例6洛倫茲力向下條件下(磁場(chǎng)梯度0.06T/mm)熔覆層縱截面氣孔分布圖

圖8實(shí)施例7洛倫茲力向上條件下熔覆層縱截面氣孔分布圖

圖9實(shí)施例8洛侖茲力條件熔覆層縱截面氣孔均勻分布圖

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖，對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步闡述，但本發(fā)明的保護(hù)范圍不限于所述內(nèi)容。

本案的實(shí)施例勻由以下裝置實(shí)現(xiàn)，如附圖1所示，所述的裝置包括：1－激光器、2－激光傳輸通道、3－送粉頭、4－工件夾持器、5－導(dǎo)線、6－低壓大額定電流電源、7—線圈繞組、8—矩形磁極頭、9—基體、10—線圈繞組電源。

具體連接方式：激光器1與激光傳輸通道2可通過(guò)柔性光纖或飛行光路連接，送粉頭3與激光傳輸通道2同軸組合，送粉頭3位于基體9正上方，低壓大額定電流電源6通過(guò)導(dǎo)線5及工件夾持器4與基體9相連接，矩形磁極頭8位于基體兩側(cè)與線圈繞組7組合，線圈繞組與線圈繞組電源10連接。

具體實(shí)施方式：首先將基體與工件夾持器相連，使基體處于水平位置，選取合適的矩形磁極頭(根據(jù)不同磁場(chǎng)梯度選取形狀尺寸)，調(diào)節(jié)雙磁頭相對(duì)位置直至各極頭與基體側(cè)面距離約0.5mm。打開(kāi)直流電源開(kāi)關(guān)，調(diào)節(jié)電流，在基體中通入所需電流值，打開(kāi)線圈繞組電源并調(diào)節(jié)電流值，使極頭產(chǎn)生所需磁場(chǎng)值。準(zhǔn)備完畢后，開(kāi)始激光熔覆，送粉頭按所設(shè)定的軌跡在基材表面熔覆，通電、通磁直至熔覆結(jié)束，將所加工的基體取出。

實(shí)施例1

激光熔覆基材為316奧氏體不銹鋼，機(jī)械加工成100×10×10mm的金屬試樣，表面經(jīng)除油、除銹、打磨處理后，粗糙度小于Ra1.6，再用丙酮清洗將表面油污去除。熔覆粉末為鎳基合金粉末，將所述粉末放于干燥箱內(nèi)，設(shè)置溫度100℃，干燥時(shí)間為60min。待粉末冷卻后，將其放入送粉器中，將待熔覆的試樣水平放置于工作臺(tái)上，開(kāi)啟激光發(fā)生器(功率為1600W)、氣體保護(hù)裝置(保護(hù)氣為氬氣，流量為20HF/min，水分含量0.05％)和送粉器(送粉量為10g/min)，10mm/s的掃描速度按照預(yù)設(shè)熔覆軌跡進(jìn)行熔覆。粉末粒徑為50～75μm，球形度0.8～0.9，其中所述鎳基粉末質(zhì)量分?jǐn)?shù)為為：Ni 52.5％，Cr 15％，C 0.1％，Si 0.3％，Mn 0.3％，S 0.01％，P 0.01％，Al 0.4％，Ti 1.5％，Mo 3％，Nb 5％，F(xiàn)e 21.88％。圖2為上述工藝條件下熔覆層氣孔分布圖，直徑范圍為60μm～100μm，所述熔覆層氣孔的總體積為熔覆層總體積的約為0.2％。

實(shí)施例1的熔覆層縱截面氣孔分布圖見(jiàn)附圖2。

實(shí)施例2

該例為對(duì)比例，將實(shí)施例1中保護(hù)氣中含水量降低為0.04％，粉末化學(xué)成分(質(zhì)量分?jǐn)?shù)，％)與實(shí)施例1中一致：Ni 52.5％，Cr 15％，C 0.1％，Si 0.3％，Mn 0.3％，S 0.01％，P 0.01％，Al 0.4％，Ti 1.5％，Mo 3％，Nb 5％，F(xiàn)e 21.88％。保證其他工藝參數(shù)與實(shí)施例1一致，得到熔覆層縱截面氣孔分布圖(圖3所示)，其中熔覆層氣孔形狀為球形，直徑范圍為5～10μm，所述熔覆層氣孔的總體積為熔覆層總體積的約為0.05％；對(duì)比圖2可以發(fā)現(xiàn)熔覆層氣孔數(shù)量與氣孔直徑明顯減小，說(shuō)明保護(hù)氣中水分含量降低，使得熔覆層中氧含量減少，氣孔含量明顯減少。

實(shí)施例3

該例為對(duì)比例，僅按實(shí)施例1中條件，將鎳基粉末粒徑增加到150μm至180μm時(shí),球形度0.8～0.9,保持激光工藝及粉末化學(xué)成分實(shí)施例1一致，得到了熔覆層縱截面氣孔分布圖(圖4所示)。從圖中可以得到當(dāng)粒徑增加到大于150μm，熔覆層表面有微氣孔，熔覆層氣孔的總體積為熔覆層總體積的約為0.05％，說(shuō)明粒徑的增大使得顆粒表面的載氣能力降低，從而導(dǎo)致氣孔含量降低。

實(shí)施例4

參照?qǐng)D5。該例為對(duì)比例，按實(shí)施例1中條件，將鎳基粉末顆粒球形度增加到約0.98,并保持粉末化學(xué)成分、粒徑與實(shí)施例1一致，即粉末粒徑為50～75μm，球形度0.8～0.9，其中熔覆粉末化學(xué)成分(質(zhì)量分?jǐn)?shù)，％)為：Ni 52.5％，Cr 15％，C 0.1％，Si 0.3％，Mn 0.3％，S 0.01％，P 0.01％，Al 0.4％，Ti 1.5％，Mo 3％，Nb 5％，F(xiàn)e 21.88％。將粉末放于干燥箱內(nèi)，設(shè)置溫度100℃，干燥時(shí)間為60min。保證其他工藝參數(shù)與實(shí)施例1一致，得到了熔覆層縱截面氣孔分布圖(圖5所示)。從圖中可以得到當(dāng)球形度增加，盡管存在微氣孔，但氣孔數(shù)量較實(shí)施例1明顯減少，其原因是粉末球形度增加，載氣結(jié)合能力降低，從而導(dǎo)致外界氣體進(jìn)入熔池的含量發(fā)生變化，使得氣孔尺寸及數(shù)量減小。綜合實(shí)施例3、4可得，粒徑超出150μm以及球形度大于0.9時(shí)，不利于熔覆層“起泡”。

實(shí)施例5

參照?qǐng)D6。通過(guò)對(duì)比實(shí)施例1與實(shí)施例2，實(shí)施例1與實(shí)施例3，實(shí)施例1與實(shí)施例4可知，調(diào)整保護(hù)氣含水量與粉末成分，粉末球形度以及粉末粒徑將對(duì)氣孔數(shù)量與大小產(chǎn)生影響，但是僅依靠工藝，往往很難對(duì)其分布進(jìn)行控制，因此本發(fā)明在實(shí)施例1成功氣泡基礎(chǔ)上同時(shí)外加洛侖茲力體積力來(lái)改變氣泡的等效浮力，以達(dá)到定量調(diào)控分布的目的。本實(shí)施例中激光熔覆基材為316奧氏體不銹鋼，機(jī)械加工成100×10×10mm的金屬試樣，表面經(jīng)除油、除銹、打磨處理后，再用丙酮清洗。所述基體在激光熔覆以前與可提供直流電流的外接電源連接以待連通，所述直流電流為穩(wěn)態(tài)直流電流，外接電源為低壓大額定電流蓄電池(電池規(guī)格為：6V，600Ah)。

將鎳基合金粉末放于干燥箱內(nèi)，設(shè)置溫度100℃，干燥時(shí)間60min。待粉末冷卻后，將其放入送粉器中，合金粉末化學(xué)成分(質(zhì)量分?jǐn)?shù)，％)為：Ni 52.5％，Cr 15％，C 0.1％，Si 0.3％，Mn 0.3％，S 0.01％，P 0.01％，Al 0.4％，Ti 1.5％，Mo 3％，Nb 5％，F(xiàn)e 21.88％。粉末粒徑為50～75μm，球形度0.8～0.9。開(kāi)啟激光發(fā)生器(功率為1400W)、氣體保護(hù)裝置(氬氣流量為10L/h，水分含量2％)和送粉器(送粉量為10g/min)，用7mm/s的掃描速度按照預(yù)設(shè)熔覆軌跡進(jìn)行熔覆。同時(shí)，在基體中通入10⁶A/m²的電流密度，基體兩側(cè)磁場(chǎng)強(qiáng)度為2T，磁場(chǎng)強(qiáng)度下降的梯度為0.01T/mm，在熔覆熔池區(qū)域形成垂直熔覆熔池表面向外的梯度洛倫茲力，其下降梯度值從熔池表面至底部10⁵N/m⁴。由于洛侖茲力的影響，氣泡受到額外向下的力，抑制氣泡向上排出，最終大部分氣孔集中分布在熔覆涂層的底部，如圖6所示，圖中氣孔孔徑范圍為10～120μm，所述熔覆層氣孔的總體積為熔覆層總體積的約為8％。

實(shí)施例6

參照?qǐng)D7熔覆層縱截面氣孔分布圖。該例僅將實(shí)施例5中磁場(chǎng)強(qiáng)度下降的梯度為0.06T/mm，其他激光工藝參數(shù)、粉末參數(shù)、保護(hù)氣、電流大小以及磁場(chǎng)大小與實(shí)施例5保持一致，得到如圖7所示的氣孔分布圖。從圖中可以氣孔孔徑范圍為10～120μm，較圖6氣孔數(shù)量有所減少，總體積占熔覆層總體積的約為6％。

實(shí)施例7

參照?qǐng)D8。該例僅將實(shí)施例5中的洛倫茲力方向變?yōu)榇怪比鄢乇砻嫦騼?nèi)，其他激光工藝參數(shù)、粉末參數(shù)、保護(hù)氣、電流大小以及磁場(chǎng)大小與實(shí)施例5保持一致，得到如圖8所示的氣孔分布圖。從圖中可以發(fā)現(xiàn)氣孔數(shù)量較圖2、6和7明顯減少，得到致密的熔覆層,總體積占熔覆層總體積的約為0。

實(shí)施例8

參照?qǐng)D9。本實(shí)施例在實(shí)施例5基礎(chǔ)上，在基體中施加電流密度大小為10⁵A/m²，磁場(chǎng)強(qiáng)度0.4T，磁場(chǎng)強(qiáng)度下降的梯度為0.01T/mm形成洛侖茲力的方向垂直熔池液面向里，其下降梯度值從熔池表面至底部為400N/mm⁴。激光熔覆基材為316奧氏體不銹鋼，機(jī)械加工成100×10×10mm的金屬試樣，表面經(jīng)除油、除銹、打磨處理至Ra1.6，再用乙醇清洗。將鎳基合金粉末放于干燥箱內(nèi)，設(shè)置溫度100℃，干燥時(shí)間60min。待粉末冷卻后，將其放入送粉器中，合金粉末化學(xué)成分(質(zhì)量分?jǐn)?shù)，％)為：Ni 52.5％，Cr 15％，C 0.1％，Si 0.3％，Mn 0.3％，S 0.01％，P 0.01％，Al 0.4％，Ti 1.5％，Mo 3％，Nb 5％，F(xiàn)e 21.88％，與實(shí)施例1保持一致。開(kāi)啟激光發(fā)生器(功率為1400W)、氣體保護(hù)裝置(氬氣流量為10L/h，水分含量2％)和送粉器(送粉量為10g/min)，用10mm/s的掃描速度按照預(yù)設(shè)熔覆軌跡進(jìn)行熔覆，得到如圖9所示的氣孔均勻分布圖,氣孔直徑10～100μm，氣孔總體積占熔覆層總體積約6％。