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      復(fù)合材料結(jié)構(gòu)及其制備方法與流程

      文檔序號:12347609閱讀:481來源:國知局
      復(fù)合材料結(jié)構(gòu)及其制備方法與流程

      本發(fā)明涉及塑料表面處理技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種復(fù)合材料結(jié)構(gòu)及其制備方法。



      背景技術(shù):

      目前,在塑料基材表面上,通過實(shí)施金屬化的工藝不僅可以增加美觀,而且補(bǔ)償塑料的缺點(diǎn),賦予金屬的性質(zhì),統(tǒng)一結(jié)合了塑料及金屬的特性。

      進(jìn)一步的,在塑料基材表面進(jìn)行金屬化的工藝主要有兩種方式:傳統(tǒng)水電鍍工藝和物理氣相沉積工藝,但是,分別采用這兩種工藝用于實(shí)現(xiàn)塑料基材金屬化均存在缺陷。

      其中,傳統(tǒng)水電鍍化學(xué)鎳層具有附著力強(qiáng)、結(jié)合力高、導(dǎo)電性好的性能特點(diǎn),能夠?yàn)樗苣z表面處理提供一種穩(wěn)定成熟的前處理工藝。然而,傳統(tǒng)水電鍍化學(xué)鎳工藝需要經(jīng)過親水、粗化、中和、鈀水、解膠、化學(xué)鎳電鍍工序,其生產(chǎn)耗水量較大,添加的化學(xué)藥劑種類多,不利于水資源環(huán)境的利用與保護(hù);而且,尤其是由于該結(jié)構(gòu)中的電鍍六價(jià)鉻層工序的存在,六價(jià)鉻毒性大,容易致癌,污水處理費(fèi)用高的弊端,而且產(chǎn)品不能符合歐盟WEEE和ROHS指令要求,造成出口難,不能真正實(shí)現(xiàn)電鍍的清潔生產(chǎn)。

      其中,物理氣相沉積工藝由于缺乏對塑膠基材的處理工序,其所形成的膜層在附著力與結(jié)合力方面不足以滿足要求,這種不足雖然可以通過添加噴漆涂層來彌補(bǔ),但造成成本高額難以推廣應(yīng)用。若采用噴漆涂層與物理氣相沉積膜層相結(jié)合的替代方案,但這種方案的成本高昂,批量生產(chǎn)受到相應(yīng)限制。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      基于此,有必要提供一種能夠毒性較小且各層結(jié)構(gòu)之間的結(jié)合力較強(qiáng)的復(fù)合材料結(jié)構(gòu)及其制備方法。

      一種復(fù)合材料結(jié)構(gòu),包括:

      塑料基層,

      物理氣相沉積層,包括第一沉積分層及第二沉積分層,所述第一沉積分層貼合于所述塑料基層上,所述第二沉積分層貼合于所述第一沉積分層遠(yuǎn)離所述塑料基層的側(cè)面上;

      第一電鍍層,貼合于所述第二沉積分層遠(yuǎn)離所述第一沉積分層的側(cè)面上;

      第二電鍍層,貼合于所述第一電鍍層遠(yuǎn)離所述第二沉積分層的側(cè)面上;及

      第三電鍍層,貼合于所述第二電鍍層遠(yuǎn)離所述第一電鍍層的側(cè)面上。

      在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述第一沉積分層為鈦金屬沉積層。

      在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述第二沉積分層為銅金屬沉積層。

      在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述第一電鍍層為銅金屬電鍍層。

      在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述第二電鍍層包括依次層疊的多層第二電鍍分層。

      在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述第二電鍍分層為光鎳電鍍層、半光鎳電鍍層或珍珠鎳電鍍層。

      在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述第三電鍍層為三價(jià)鉻電鍍層。

      在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述塑膠基材的材質(zhì)為丙烯腈-丁二烯-苯乙烯塑料、聚碳酸酯、聚碳酸酯、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物合金、尼龍、聚苯醚、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚苯醚、聚對苯二甲酸丁二醇酯、玻璃纖維增強(qiáng)的尼龍、玻璃纖維增強(qiáng)的聚對苯二甲酸丁二醇酯、玻璃纖維增強(qiáng)的聚碳酸酯和礦粉增強(qiáng)的尼龍中的任意一種。

      一種復(fù)合材料結(jié)構(gòu)的制備方法,包括如下步驟:

      通過注塑操作,得到塑料基層;

      對所述塑料基層進(jìn)行預(yù)處理;

      在所述塑料基層上進(jìn)行物理氣相沉積操作,依次形成第一沉積分層及第二沉積分層;

      在所述第二沉積分層上進(jìn)行電鍍銅操作,得到第一電鍍層;

      在所述第一電鍍層上進(jìn)行電鍍鎳操作,得到第二電鍍層;

      在所述第二電鍍層上進(jìn)行電鍍鉻操作,得到第三電鍍層。

      在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述預(yù)處理操作具體包括如下步驟:

      將所述塑料基層進(jìn)行碳?xì)湔婵粘筒僮鳎?/p>

      將所述塑料基層進(jìn)行烘烤操作;

      將所述塑料基層進(jìn)行等離子清洗操作。

      上述復(fù)合材料結(jié)構(gòu)通過依次疊加設(shè)置塑料基層、物理氣相沉積層、第一電鍍層、第二電鍍層及第三電鍍層,能夠使得各層結(jié)構(gòu)之間的結(jié)合力更強(qiáng),附著力更好,且制備上述復(fù)合材料結(jié)構(gòu)時(shí),毒性較小。

      附圖說明

      圖1為本發(fā)明一實(shí)施方式的復(fù)合材料結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖;

      圖2為本發(fā)明一實(shí)施方式的復(fù)合材料結(jié)構(gòu)的制備方法的步驟流程圖。

      具體實(shí)施方式

      為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂,下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實(shí)施方式做詳細(xì)的說明。在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本發(fā)明。但是本發(fā)明能夠以很多不同于在此描述的其它方式來實(shí)施,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本發(fā)明內(nèi)涵的情況下做類似改進(jìn),因此本發(fā)明不受下面公開的具體實(shí)施例的限制。

      請參閱圖1,復(fù)合材料結(jié)構(gòu)10包括:塑料基層100、物理氣相沉積層200、第一電鍍層300、第二電鍍層400及第三電鍍層500,塑料基層100、物理氣相沉積層200、第一電鍍層300、第二電鍍層400及第三電鍍層500依次疊加設(shè)置。

      請參閱圖1,塑料基層100作為復(fù)合材料結(jié)構(gòu)10的基底層,起到支撐整體結(jié)構(gòu)的作用。例如,所述塑膠基材的材質(zhì)為烯腈-丁二烯-苯乙烯塑料(ABS)、聚碳酸酯(PC)、聚碳酸酯和丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物合金(PC/ABS)、尼龍(PA6/PA66)、聚苯醚(PPO)、聚對苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚苯醚、聚對苯二甲酸丁二醇酯、玻璃纖維增強(qiáng)的尼龍、玻璃纖維增強(qiáng)的聚對苯二甲酸丁二醇酯、玻璃纖維增強(qiáng)的聚碳酸酯和礦粉增強(qiáng)的尼龍中的任意一種;又如,所述塑膠基材的材質(zhì)為烯腈-丁二烯-苯乙烯塑料(ABS),烯腈-丁二烯-苯乙烯塑料(ABS)結(jié)構(gòu)強(qiáng)度較高,不僅具有優(yōu)良的綜合性能,易于加工成型,而且其表面易于侵蝕而獲得較高的鍍層結(jié)合力,當(dāng)采用物理氣相沉積工藝在塑料基層100上形成物理氣相沉積層200上,塑料基層100與物理氣相沉積層200的結(jié)合力較好,無需額外在兩者之間噴射噴漆涂層作為中間層。

      請參閱圖1,物理氣相沉積層200包括第一沉積分層210及第二沉積分層220,第一沉積分層210貼合于塑料基層100上,第二沉積分層220貼合于第一沉積分層210遠(yuǎn)離塑料基層100的側(cè)面上,例如,第一沉積分層210及第二沉積分層220采用物理氣相沉積工藝(PVD)在塑料基層100依次形成。可以理解,第一沉積分層具有兩側(cè)面,其一貼合于塑料基層上,另一為遠(yuǎn)離塑料基層的側(cè)面,貼合于第二沉積分層,其余實(shí)施例以此類推。

      為了提高所述第一沉積分層與所述塑料基層的結(jié)合力,以及所述第一沉積分層與所述第二沉積分層之間的結(jié)合力,例如,所述第一沉積分層為鈦金屬沉積層,所述鈦金屬沉積層采用物理氣相沉積工藝在所述塑料基層上形成;又如,所述第二沉積分層為銅金屬沉積層,銅金屬沉積層采用物理氣相沉積工藝在所述鈦金屬沉積層上形成;又如,所述第一沉積分層為鉻金屬沉積層,所述鉻金屬沉積層采用物理氣相沉積工藝在所述塑料基層上形成;又如,所述第一沉積分層作為整體金屬結(jié)構(gòu)層的打底層,所述第二沉積分層作為導(dǎo)電層,用于起到導(dǎo)電的作用,如此,能夠提高所述第一沉積分層與所述塑料基層的結(jié)合力,以及所述第一沉積分層與所述第二沉積分層之間的結(jié)合力。

      請參閱圖1,第一電鍍層300貼合于第二沉積分層220遠(yuǎn)離第一沉積分層210的側(cè)面上,例如,第一電鍍層300采用電鍍工藝在第二沉積分層220上形成,這樣,第一電鍍層300與第二沉積分層220的結(jié)合力較好。

      例如,所述第一電鍍層為銅金屬電鍍層,所述銅金屬電鍍層通過電鍍工藝在所述銅金屬沉積層上形成。

      為了進(jìn)一步提高所述第一鍍層與所述物理氣相沉積層的結(jié)合力,例如,所述第一電鍍層為鎳金屬電鍍層與銅金屬電鍍層復(fù)合層,所述鎳金屬電鍍層通過電鍍工藝在第二沉積分層上形成,如,所述鎳金屬電鍍層在所述銅金屬沉積層上形成,在所述鎳金屬電鍍層上繼續(xù)電鍍形成銅金屬電鍍層,所述鎳金屬電鍍層與所述銅金屬電鍍層結(jié)合形成復(fù)合層,如此,通過引入鎳金屬電鍍層能夠進(jìn)一步提高所述第一鍍層與所述物理氣相沉積層的結(jié)合力。又如,所述鎳金屬電鍍層為瓦特鎳層,通過瓦特鎳層能夠提升結(jié)合力。

      例如,為進(jìn)一步提高所述沉積層與第一電鍍層的結(jié)合力,所述第一電鍍層為鎳金屬電鍍層與銅金屬電鍍層復(fù)合層,所述鎳金屬電鍍層通過電鍍工藝在所述銅金屬沉積層上形成,所述銅金屬電鍍層通過電鍍工藝在所述鎳金屬電鍍層上形成,兩者的厚度比為1:(25~40),即鎳金屬電鍍層與銅金屬電鍍層的厚度比為1:25~1:40。

      請參閱圖1,第二電鍍層400貼合于第一電鍍層300遠(yuǎn)離第二沉積分層220的側(cè)面上,例如,第二電鍍層400采用電鍍工藝在第一電鍍層300上形成,這樣,第二電鍍層400與第一電鍍層300的結(jié)合力較好。

      為了提高所述第二電鍍層的厚度以及硬度,用于提高所述復(fù)合材料結(jié)構(gòu)的整體厚度以及整體硬度,例如,所述第二電鍍層包括依次層疊的多層第二電鍍分層;又如,所述第二電鍍分層為光鎳電鍍層、半光鎳電鍍層或珍珠鎳電鍍層,這樣,能夠提高所述第二電鍍層的厚度以及硬度、結(jié)合力及防腐蝕性能,從而提高所述復(fù)合材料結(jié)構(gòu)的整體厚度以及整體硬度、結(jié)合力及防腐蝕性能。

      又如,第二電鍍分層順序?yàn)榘牍怄噷?、光鎳或珍珠鎳層、封口鎳層或裂紋鎳,三者的厚度比為30:(9~16):(9~16),如此,能夠提高所述復(fù)合材料結(jié)構(gòu)的整體厚度以及整體硬度、結(jié)合力及防腐蝕性能。

      為了進(jìn)一步提高所述第二電鍍層的厚度以及硬度,用于進(jìn)一步提高所述復(fù)合材料結(jié)構(gòu)的整體厚度以及整體硬度,例如,所述第二電鍍層包括六層所述第二電鍍分層,由所述第二沉積分層起始,依次為光鎳電鍍層、珍珠鎳電鍍層、半光鎳電鍍層、珍珠鎳電鍍層、珍珠鎳電鍍層及半光鎳電鍍層,六者的厚度比為(1~2.5):(1.6~3.5):(0.1~0.15):(2.1~2.3):(1.8~3.1):(1.6~1.8);又如,所述第二電鍍層包括六層所述第二電鍍分層,由所述第二沉積分層起始,依次為光鎳電鍍層、珍珠鎳電鍍層、半光鎳電鍍層、珍珠鎳電鍍層、珍珠鎳電鍍層及半光鎳電鍍層,六者的厚度比為1.8:3.1:0.12:2.2:2.5:1.7,采用上述厚度比的各第二電鍍分層,一方面可以提高所述第二電鍍層的厚度以及硬度,用于進(jìn)一步提高所述復(fù)合材料結(jié)構(gòu)的整體厚度以及整體硬度;另一方面,還能夠優(yōu)化并充分利用各第二電鍍分層的結(jié)構(gòu)和材料特性,能夠極大地增強(qiáng)所述第二電鍍層中各所述第二電鍍分層之間的結(jié)合力。

      請參閱圖1,第三電鍍層500貼合于第二電鍍層400遠(yuǎn)離第一電鍍層300的側(cè)面上,例如,第三電鍍層500采用電鍍工藝在第二電鍍層400上形成,這樣,第三電鍍層500與第二電鍍層400的結(jié)合力較好。

      為了降低制造所述復(fù)合材料結(jié)構(gòu)時(shí)的毒性,且增強(qiáng)所述第三電鍍層與所述第二電鍍層之間的結(jié)合力,例如,所述第三電鍍層為三價(jià)鉻電鍍層,所述三價(jià)鉻電鍍層采用物理氣相沉積工藝在所述第二電鍍層上形成,如此,能夠降低制造所述復(fù)合材料結(jié)構(gòu)時(shí)的毒性,且增強(qiáng)所述第三電鍍層與所述第二電鍍層之間的結(jié)合力。

      上述復(fù)合材料結(jié)構(gòu)10通過依次疊加設(shè)置塑料基層100、物理氣相沉積層200、第一電鍍層300、第二電鍍層400及第三電鍍層500,能夠使得各層結(jié)構(gòu)之間的結(jié)合力更強(qiáng),附著力更好,且制備上述復(fù)合材料結(jié)構(gòu)10時(shí),毒性較小。

      為了更好地理解上述復(fù)合材料結(jié)構(gòu),又一個(gè)例子是,一種復(fù)合材料結(jié)構(gòu)的制備方法,用于制備上述任一實(shí)施例所述的復(fù)合材料結(jié)構(gòu)。

      請參閱圖2,一實(shí)施方式的復(fù)合材料結(jié)構(gòu)的制備方法,包括如下步驟:

      S110:通過注塑操作,得到塑料基層。

      S120:對所述塑料基層進(jìn)行預(yù)處理。

      為了更好地對所述塑料基層進(jìn)行預(yù)處理,取得較好的清洗效果,例如,所述預(yù)處理操作具體包括如下步驟:將所述塑料基層進(jìn)行碳?xì)湔婵粘筒僮?;將所述塑料基層進(jìn)行烘烤操作;將所述塑料基層進(jìn)行等離子清洗操作,如此,通過上述預(yù)處理過程,能夠更好地去除所述塑料基層表面的雜質(zhì),便于進(jìn)行后續(xù)的物理氣相沉積操作。

      S130:在所述塑料基層上進(jìn)行物理氣相沉積操作,依次形成第一沉積分層及第二沉積分層。

      S140:在所述第二沉積分層上進(jìn)行電鍍銅操作,得到第一電鍍層。

      例如,所述第一電鍍層通過進(jìn)行電鍍銅或電鍍鎳后,再次進(jìn)行電鍍銅操作得到。

      S150:在所述第一電鍍層上進(jìn)行電鍍鎳操作,得到第二電鍍層。

      S160:在所述第二電鍍層上進(jìn)行電鍍鉻操作,得到第三電鍍層。

      為了進(jìn)一步對上述復(fù)合材料結(jié)構(gòu)的制備方法進(jìn)行說明,又一個(gè)例子是,一種復(fù)合材料結(jié)構(gòu)的制備方法,用于制備上述任一實(shí)施例所述的復(fù)合材料結(jié)構(gòu)。

      例如,一種復(fù)合材料結(jié)構(gòu)的制備方法,包括如下步驟:

      S10:注塑操作:提供對應(yīng)的塑料材質(zhì),將所述塑料材質(zhì)放入至高性能注塑設(shè)備,并且調(diào)試好合適的注塑參數(shù),進(jìn)行注塑操作,得到塑料基層,并將所述塑料基層靜置一段時(shí)間,備用。

      S20:預(yù)處理操作:將所述塑料基層放置于烘烤箱中進(jìn)行烘烤,烘烤箱內(nèi)的溫度為75℃~79℃、80℃或者81℃~85℃,烘烤操作持續(xù)時(shí)間為55分鐘~59分鐘、60分鐘或者61分鐘~65分鐘,用于除去所述塑料基層表面或內(nèi)部的水份,用于在進(jìn)行后續(xù)物理氣相沉積操作時(shí),避免水份揮發(fā)出來污染真空環(huán)境;接著,將所述塑料基層放置于鍍爐中進(jìn)行中頻離化清洗,用于去除所述塑料基層表面的灰塵等雜質(zhì),用于提升與后續(xù)形成的第一沉積分層的附著力及結(jié)合力,此時(shí),完成物理氣相沉積工序預(yù)處理操作;當(dāng)然,在進(jìn)行烘烤操作后,還可以采用如下操作進(jìn)行雜質(zhì)去除操作:將所述塑料基層進(jìn)行碳?xì)湔婵粘筒僮?;將所述塑料基層進(jìn)行烘烤操作;將所述塑料基層進(jìn)行等離子清洗操作。

      S30:物理氣相沉積操作:采用物理氣相沉積工藝在所述塑料基層的表面沉積鈦(Ti)或鉻(Cr)作為第一沉積分層,即第一沉積分層作為打底層,用于提高整體的結(jié)合力,接著,在所述第一沉積分層的表面采用物理氣相沉積工藝沉積銅(Cu)作為第二沉積分層,接著,進(jìn)行真空包裝保存,用于避免空氣氧化。

      例如,所述第一沉積分層采用鈦(Ti)進(jìn)行沉積,所述第二沉積分層采用銅(Cu)進(jìn)行沉積,進(jìn)行所述第一沉積分層及所述第二沉積分層的物理氣相沉積(PVD)操作的工藝參數(shù)見表1。

      表1

      通過采用上述工藝參數(shù)進(jìn)行所述物理氣相沉積工藝,能夠得到性能更加優(yōu)異的所述第一沉積分層及所述第二沉積分層,如,各層之間的結(jié)合力和附著力較好。

      需要指出的是,在研究中發(fā)現(xiàn),作為物理氣相沉積工藝的各參數(shù)之間具有關(guān)聯(lián)性,即各參數(shù)之間的變化對物理沉積分層的性能具有至關(guān)重要的影響,例如,上述各參數(shù)為PVD工藝較佳參數(shù),能夠沉積得到性能較好的所述第一沉積分層及所述第二沉積分層。

      例如,上述參數(shù)的選取方法具體包括如下步驟:

      A、選取多個(gè)預(yù)設(shè)PVD參數(shù)范圍;

      B、對多個(gè)所述預(yù)設(shè)PVD參數(shù)范圍進(jìn)行正交設(shè)計(jì)試驗(yàn),所述正交設(shè)計(jì)試驗(yàn)的具體設(shè)計(jì)信息見表2,其中,表2列出了六個(gè)因素,三個(gè)水平的正交試驗(yàn),共18組試驗(yàn)。

      表2

      C、根據(jù)正交設(shè)計(jì)試驗(yàn)結(jié)果,其中,所述正交設(shè)計(jì)試驗(yàn)結(jié)果見表3、表4及表5,并且利用SPSS數(shù)據(jù)分析軟件,尋找出滿足PVD工藝的預(yù)期PVD參數(shù)范圍,如,尋找出滿足PVD取代水鍍后處理工藝的預(yù)期PVD參數(shù)范圍,得到表1中的各預(yù)期PVD參數(shù)范圍。

      表3

      表4

      表5

      通過采用上述參數(shù)的選取方法,并結(jié)合SPSS數(shù)據(jù)分析軟件,得到預(yù)期的物理氣相沉積(PVD)操作的工藝參數(shù),詳見表1,當(dāng)將表1中的各參數(shù)應(yīng)用于物理氣相沉積工藝時(shí),能夠沉積得到性能較好的所述第一沉積分層及所述第二沉積分層。

      d、電鍍操作;

      其中,對沉積有所述第一沉積分層及所述第二沉積分層的所述塑料基層進(jìn)行活化處理,接著,進(jìn)行鍍銅操作,或者進(jìn)行鍍銅或鍍鎳后,再進(jìn)行鍍銅操作,形成第一電鍍層,之后,連續(xù)進(jìn)行多次鍍鎳操作,如,所述鍍鎳操作包括光鎳電鍍操作、半光鎳電鍍操作或珍珠鎳電鍍操作,形成第二電鍍層,最后,進(jìn)行三價(jià)鉻電鍍操作,形成第三電鍍層。

      上述復(fù)合材料結(jié)構(gòu)的制備方法的毒性較小,且采用上述復(fù)合材料結(jié)構(gòu)的制備方法制備得到的復(fù)合材料結(jié)構(gòu),各層結(jié)構(gòu)之間的結(jié)合力和附著力好。

      以上所述實(shí)施例的各技術(shù)特征可以進(jìn)行任意的組合,為使描述簡潔,未對上述實(shí)施例中的各塊技術(shù)特征所有可能的組合都進(jìn)行描述,然而,只要這些技術(shù)特征的組合不存在矛盾,都應(yīng)當(dāng)認(rèn)為是本說明書記載的范圍。

      以上所述實(shí)施方式僅表達(dá)了本發(fā)明的幾種實(shí)施方式,其描述較為具體和詳細(xì),但并不能因此而理解為對本發(fā)明專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是,對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下,還可以做出若干變形和改進(jìn),這些都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。因此,本發(fā)明專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。

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