1.一種智能源擋板系統(tǒng)，其特征在于：所述系統(tǒng)包括真空室、圓形齒圈、智能源擋板、齒輪減速電機(jī)和磁流體密封傳動軸；
所述真空室為圓柱體結(jié)構(gòu)，其周向側(cè)壁上設(shè)置有至少一種靶材的陰極電弧靶源；所述圓形齒圈吊裝于所述真空室的頂端內(nèi)側(cè)；所述智能源擋板吊裝于所述圓形齒圈的下方；所述齒輪減速電機(jī)安裝于所述真空室的頂端外側(cè)，其動力輸出端裝有傳動齒輪；
所述磁流體密封傳動軸安裝在所述真空室的頂端外側(cè)且上端安裝有外齒輪，所述磁流體密封傳動軸的上端通過所述外齒輪與所述齒輪減速電機(jī)動力輸出端的所述傳動齒輪匹配嚙合；所述磁流體密封傳動軸的下端伸入所述真空室內(nèi)部且安裝有內(nèi)齒輪，所述磁流體密封傳動軸的下端通過所述內(nèi)齒輪與所述圓形齒圈匹配嚙合；
所述齒輪減速電機(jī)通過所述磁流體密封傳動軸驅(qū)動所述圓形齒圈在所述真空室內(nèi)做圓周轉(zhuǎn)動，從而帶動所述智能源擋板在所述真空室內(nèi)做圓周往復(fù)運(yùn)動，以使所述智能源擋板準(zhǔn)確停止在預(yù)設(shè)的擋板位置。
2.如權(quán)利要求1所述的智能源擋板系統(tǒng)，其特征在于：所述真空室的前側(cè)設(shè)有前門，后側(cè)設(shè)有抽氣口。
3.如權(quán)利要求1所述的智能源擋板系統(tǒng)，其特征在于：所述齒輪減速電機(jī)為帶有旋轉(zhuǎn)編碼器的齒輪減速電機(jī)。
4.如權(quán)利要求1所述的智能源擋板系統(tǒng)，其特征在于：所述真空室的周向側(cè)壁上設(shè)有四組陰極電弧靶源，每組所述靶源，由四個單獨(dú)的靶源組成。
5.一種智能源擋板系統(tǒng)制備硬質(zhì)涂層的方法，其特征在于，具體操作流程為：
(1)涂層前的處理
鍍膜前，將高速鋼或硬質(zhì)合金刀具經(jīng)過除油、除銹、噴砂和清洗劑超聲波清洗，再經(jīng)過表面脫水和干燥處理，然后置于鍍膜室內(nèi)；
(2)抽真空
對真空室抽真空至3.0～0.8x10-2Pa，進(jìn)行預(yù)加熱，至溫度400～550℃，加熱功率在4～40KW自動調(diào)整；
(3)啟動氬離子轟擊清洗
將氬氣流量控制在60～300Sccm，真空壓強(qiáng)控制在1.0～3.0Pa，基體偏壓控制在-600～-1200V，進(jìn)行180～1800sec的氬離子轟擊清洗過程；
(4)對真空室繼續(xù)抽真空，待達(dá)到4.0～9.0x10-3Pa后進(jìn)行靶源預(yù)放電清潔過程；
(5)對真空室繼續(xù)抽真空，直到真空度達(dá)到3.0×10-3Pa以上；
(6)檢測真空室壓升率：
關(guān)閉高真空閥，檢測壓升率，確保壓升率≤3.0×10-2Pa/min；
(7)主弧金屬離子轟擊和金屬過渡層
(7.1)主弧金屬離子轟擊過程，即通入氬氣或氮?dú)?，流量?0～200Sccm，基體偏壓調(diào)至-400～-1200V，弧靶電流設(shè)定為50～100A，依次開啟一組靶源，維持轟擊清洗60～1200sec；
(7.2)金屬過渡層，即通入氬氣或氮?dú)猓髁繛?0～600Sccm，基體偏壓調(diào)至-200～-600V，弧靶電流設(shè)定為50～120A，維持一組或多組靶源放電，鍍制金屬過渡層60～600sec；
(8)鍍制氮化物涂層
氮?dú)饬髁空{(diào)至480～2000Sccm，基體偏壓調(diào)至-30～-200V，設(shè)定弧靶電流80～150A，同時開啟2-4組靶源，鍍膜時間為300～7200sec；
(9)鍍膜結(jié)束，真空室溫度冷卻至150～250℃后，向真空室充氣，充完氣后開啟真空室門，取出工件。
6.如權(quán)利要求5所述的智能源擋板系統(tǒng)制備硬質(zhì)涂層的方法，其特征在于，所述步驟(4)具體過程為：向真空室通入氬氣或氮?dú)?00～300Sccm，基體偏壓調(diào)至-200～-1200V；移動智能源擋板，至其中一組靶源前方，設(shè)定弧靶電流80～150A，啟動該組靶源放電，持續(xù)放電60～600sec，以實(shí)現(xiàn)對靶源表面的徹底清潔和除氣，由于靶源蒸發(fā)出來的污物全部收集到智能源擋板上，不會對待鍍工件造成污染；依次移動智能源擋板分別至余下各列靶源前，完成對余下各列靶源表面的放電清潔和除氣。