本發(fā)明涉及一種光學(xué)鍍膜產(chǎn)品，特別涉及一種光學(xué)鍍膜材料及其加工方法。

背景技術(shù)：

光學(xué)鍍膜是指可以改變光學(xué)組件的光學(xué)性質(zhì)的鍍膜，其目的可以是抗反射抗眩光、濾光等，而依照目的的不同，光學(xué)組件制造商需選用不同的材料進(jìn)行鍍膜。隨著光學(xué)領(lǐng)域發(fā)展塑膠鍍膜產(chǎn)品應(yīng)用范圍不斷的擴(kuò)大化，業(yè)界對(duì)塑膠鍍膜產(chǎn)品要求越來(lái)越高，方法相對(duì)難度較大。目前光學(xué)塑膠產(chǎn)品的常規(guī)鍍膜產(chǎn)品的光學(xué)機(jī)能低。光學(xué)塑膠產(chǎn)品常規(guī)鍍膜工藝需使用離子源進(jìn)行輔助鍍膜，在整個(gè)鍍膜工藝開發(fā)方面如真空度、膜層工藝參數(shù)控制不當(dāng)容易出現(xiàn)膜層脫落及膜裂現(xiàn)象，且在鍍膜過(guò)程中出現(xiàn)異常時(shí)導(dǎo)致整爐報(bào)廢。在鍍膜機(jī)臺(tái)離子源使用耗材相當(dāng)昂貴，鍍膜效率較低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種光學(xué)鍍膜材料，解決了現(xiàn)有技術(shù)中光學(xué)塑膠產(chǎn)品的光學(xué)性能低的技術(shù)問(wèn)題；

本發(fā)明的目的還在于提供一種光學(xué)鍍膜材料的加工方法，解決了現(xiàn)有技術(shù)中光學(xué)塑膠產(chǎn)品的光學(xué)機(jī)能低的技術(shù)問(wèn)題。

為了解決上述問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種光學(xué)鍍膜材料，包括一混合物，所述混合物包括二氧化硅和硅鋁混合物，所述二氧化硅與所述硅鋁混合物的比例為40％～180％∶20％～50％，所述混合物是將所述二氧化硅和所述硅鋁混合物按比例攪拌而成。

依照本申請(qǐng)較佳實(shí)施例所述的一種光學(xué)鍍膜材料，所述二氧化硅和所述硅鋁混合物按比例通過(guò)專用攪拌機(jī)攪拌。

為了解決上述問(wèn)題，本發(fā)明還提供一種光學(xué)鍍膜材料的加工方法，包括以下幾個(gè)步驟：

一、分別打開裝有二氧化硅的真空包裝和裝有硅鋁混合物的真空包裝后，按所需比例進(jìn)行稱量；

二、開啟攪拌機(jī)電源，啟動(dòng)攪拌機(jī)，攪拌機(jī)在轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中，先將稱量好的二氧化硅緩慢倒入攪拌機(jī)的攪拌槽內(nèi)，然后再將稱量好的硅鋁混合物緩慢倒入攪拌機(jī)的攪拌槽內(nèi)；

三、停止攪拌機(jī)后打開攪拌槽的卸料口，使用盛裝容器來(lái)承接攪拌好的混合物；

四、將混合物用真空袋進(jìn)行分裝。

依照本申請(qǐng)較佳實(shí)施例所述的一種光學(xué)鍍膜材料的加工方法，上述操作所需的操作環(huán)境選擇在萬(wàn)級(jí)無(wú)塵車間，所需溫度控制在24±3℃，相對(duì)濕度RH為50％±10％。

依照本申請(qǐng)較佳實(shí)施例所述的一種光學(xué)鍍膜材料的加工方法，步驟三中所述的盛裝容器選用玻璃容器，在攪拌機(jī)開啟電源前將所述玻璃容器內(nèi)使用無(wú)塵布及酒精來(lái)擦拭干凈，確保內(nèi)部保持潔凈狀態(tài)。

依照本申請(qǐng)較佳實(shí)施例所述的一種光學(xué)鍍膜材料的加工方法，在所述步驟四中，使用不銹鋼勺子分別往真空袋內(nèi)進(jìn)行分裝，以電子稱進(jìn)行稱量，每袋重1kg，并通過(guò)真空打包機(jī)進(jìn)行抽真空。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明存在以下技術(shù)效果：

本發(fā)明提供一種光學(xué)鍍膜材料及其加工方法，提高光學(xué)塑膠產(chǎn)品的光學(xué)機(jī)能，達(dá)到或超出日系及歐美光學(xué)工業(yè)信賴性測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)，除此之外，還具有其他優(yōu)點(diǎn)，如，可以取消鍍膜前清掃及鍍膜過(guò)程中輔助功能，降低離子源高額的耗材成本；可降低傳統(tǒng)工藝鍍膜過(guò)程中因離子源異常而導(dǎo)致整爐產(chǎn)品報(bào)廢；提升鍍膜機(jī)臺(tái)加工效率20％～40％；綜合成本可降低10％～50％。

具體實(shí)施方式

本發(fā)明提供一種光學(xué)鍍膜材料，此光學(xué)鍍膜材料為混合物，此混合物包括二氧化硅和硅鋁混合物，二氧化硅與硅鋁混合物的比例為40％～180％∶20％～50％，其中，二氧化硅占40％～180％不等，硅鋁混合物占20％～50％不等。此光學(xué)鍍膜材料采用所述二氧化硅和所述硅鋁混合物按比例通過(guò)專用攪拌機(jī)進(jìn)行攪拌而成，為保證良好安定的品質(zhì)后期導(dǎo)入提煉方式。

本發(fā)明還提供一種光學(xué)鍍膜材料的加工方法，包括以下幾個(gè)步驟：

一、選擇操作環(huán)境，本發(fā)明選在萬(wàn)級(jí)無(wú)塵車間，所需溫度控制在24±3℃，相對(duì)濕度RH為50％±10％；

二、分別打開裝有二氧化硅的真空包裝和裝有硅鋁混合物的真空包裝后，按所需比例進(jìn)行稱量。本發(fā)明選用電子稱進(jìn)行稱量。

三、開啟攪拌機(jī)電源，啟動(dòng)攪拌機(jī)，攪拌機(jī)在轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中，先將稱量好的二氧化硅緩慢倒入攪拌機(jī)的攪拌槽內(nèi)，然后再將稱量好的硅鋁混合物緩慢倒入攪拌機(jī)的攪拌槽內(nèi)。在本實(shí)施例中，攪拌機(jī)的轉(zhuǎn)速控制在30～40轉(zhuǎn)/分鐘。

四、停止攪拌機(jī)后打開攪拌槽的卸料口，使用盛裝容器來(lái)承接攪拌好的混合物。在本實(shí)施例中，兩種材料全數(shù)攪拌約15～30分鐘(可視攪拌現(xiàn)狀來(lái)定)。

在步驟四中所述的盛裝容器選用玻璃容器，在攪拌機(jī)開啟電源前將玻璃容器內(nèi)使用無(wú)塵布及酒精(無(wú)水乙醇)來(lái)擦拭干凈，確保內(nèi)部保持潔凈狀態(tài)。

五、將混合物用真空袋進(jìn)行分裝。在本步驟中，使用不銹鋼勺子分別往真空袋內(nèi)進(jìn)行分裝，以電子稱進(jìn)行稱量，每袋重1kg，并通過(guò)真空打包機(jī)進(jìn)行抽真空。

工藝參數(shù)設(shè)定方式：

鍍膜機(jī)臺(tái)真空度設(shè)定：4.0*10-4Pa～5.0*10-3Pa；

鍍膜參數(shù)設(shè)定：Substrate與新型混合料(代號(hào)：Suj-001)為相互接合層；

離子源設(shè)定：無(wú)(鍍膜前、鍍膜過(guò)程中、鍍膜后均不需要離子源進(jìn)行輔助蒸鍍及清掃)；

膜層厚度：可根據(jù)光譜的需求進(jìn)行設(shè)定；

鍍膜溫度設(shè)定：30℃～100℃(根據(jù)產(chǎn)品的需求進(jìn)行設(shè)定不同溫度)；

新型混合料(代號(hào)：Suj-001)蒸速率：2埃/s～15埃/(根據(jù)產(chǎn)品的需求進(jìn)行設(shè)定不同蒸發(fā)速率)；

新型混合料(代號(hào)：Suj-001)密度：2.1～2.4(g/cm2)；

新型混合料(代號(hào)：Suj-001)蒸發(fā)溫度：1500～2200℃；

新型混合料(代號(hào)：Suj-001)折射率：1.44～1.47；

新型混合料(代號(hào)：Suj-001)透明波段：0.2～9um

在上述參數(shù)中出現(xiàn)的新型混合料是指包括二氧化硅和硅鋁的混合物，即本申請(qǐng)的光學(xué)鍍膜材料。

以上公開的僅為本申請(qǐng)的一個(gè)具體實(shí)施例，但本申請(qǐng)并非局限于此，任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員能思之的變化，都應(yīng)落在本申請(qǐng)的保護(hù)范圍內(nèi)。