本發(fā)明涉及OLED顯示器的制作領域，尤其涉及一種真空蒸鍍裝置。

背景技術：

有機發(fā)光二級管(Organic Light Emitting Diode，OLED)顯示器是一種極具發(fā)展前景的平板顯示技術，它具有十分優(yōu)異的顯示性能，特別是自發(fā)光、結構簡單、超輕薄、響應速度快、寬視角、低功耗及可實現柔性顯示等特性，被譽為“夢幻顯示器”，再加上其生產設備投資遠小于TFT-LCD，得到了各大顯示器廠家的青睞，已成為顯示技術領域中第三代顯示器件的主力軍。目前OLED已處于大規(guī)模量產的前夜，隨著研究的進一步深入，新技術的不斷涌現，OLED顯示器件必將有一個突破性的發(fā)展。

OLED具有依次形成于基板上的陽極、有機發(fā)光層和陰極。在OLED的制作工藝中，有機發(fā)光層的圖案化技術雖有許多方式，但目前量產的使用方式仍是以通過真空蒸鍍裝置加金屬掩模板(Mask)進行真空蒸鍍工藝為主，此有機發(fā)光層的圖案化方法由于可達成良好的屏幕效能，故廣為各家所采用。

其中，金屬掩模板的作用是使OLED材料蒸鍍到設計的位置，因此金屬掩模板的開孔位置、形狀以及表面平整度都相當重要。如圖1所示，通常金屬掩模板10由掩模邊框(Mask Frame)11、及設于所述掩模邊框1上的掩模(Mask Sheet)12所組成，該掩模12上形成有數個間隔排布的掩模單元121，其中，每一掩模單元121與所需要形成的一個OLED產品的形狀相對應，其具有均勻分布的數個開孔以定義相應OLED產品上的像素(pixel)區(qū)域，從而使蒸鍍材料沉積在pixel區(qū)域內。

如圖2所示，真空蒸鍍裝置包括蒸鍍室、及設置在蒸鍍室內的冷卻板21、磁板22與驅動機構23；在蒸鍍過程中，金屬掩模板10用于定義pixel，從而使蒸發(fā)的有機材料沉積在pixel區(qū)域內，冷卻板21貼合在基板30的一側面，且通過基板30對貼合在基板30另一側面的金屬掩模板10進行冷卻；磁板22設置在冷卻板21上，在驅動機構23帶動下而下壓，通過磁力將金屬掩模板10的掩模12吸附在基板30的側面上，從而使掩模12和基板30緊密貼合，減小蒸鍍過程中的陰影效應(Shadow Effect)。現行技術中，由于磁板22為整體下壓，掩模12的中間和兩端部分同時受力，致使掩模12的變形不能完全通過兩端的應力緩沖區(qū)釋放，未釋放的變形量造成掩模12的起皺變形(wrinkle)，進而導致產品的混色良率降低。

技術實現要素：

本發(fā)明的目的在于提供一真空蒸鍍裝置，磁板包括相對獨立驅動的數個磁板單元，能夠有效改善因掩模變形釋放不完全而導致的產品混色現象，從而提升OLED產品的良率。

為實現上述目的，本發(fā)明提供一種真空蒸鍍裝置，通過與金屬掩模板結合使用對基板進行真空蒸鍍；

所述真空蒸鍍裝置包括冷卻板、磁板、及磁板驅動機構；

所述冷卻板用于設置在基板上，以對金屬掩模板和基板進行冷卻；

所述磁板設置在冷卻板上方，用于通過磁板的磁力將金屬掩模板吸附在基板的下表面上；

所述磁板包括數個分別對應于金屬掩模板上不同區(qū)域的磁板單元，所述磁板通過磁板單元的磁力將金屬掩模板上的相應區(qū)域吸附在基板的下表面上；

所述磁板驅動機構包括數個與所述數個磁板單元一一對應連接的驅動單元，所述數個磁板單元獨立地在相應的驅動單元的驅動下進行上下移動。

所述磁板包括三個及以上的磁板單元。

所述磁板包括并列排列的三個磁板單元，其中設于中間的磁板單元為中部磁板單元，位于中部磁板單元左右兩側的磁板單元位于中部磁板單元左右兩側的磁板單元為側部磁板單元；

使用過程中，所述磁板的中部磁板單元、側部磁板單元在相應的驅動單元的驅動下依次向下移動，從而通過磁力使金屬掩模板上對應于中部磁板單元的中間區(qū)域、及對應于側部磁板單元的兩側區(qū)域依次吸附在基板的下表面上。

每一驅動單元包括驅動電動機、及設于相應的磁板單元上以允許該磁板單元上升和下降的驅動軸。

每一磁板單元包括填料、及數個被填料包圍的磁體。

所述金屬掩模板包括掩?？颉⒓霸O于所述掩?？蛏系难谀＃龃虐逵糜谕ㄟ^其磁力將金屬掩模板的掩模吸附在基板的下表面上。

所述真空蒸鍍裝置還包括蒸鍍室，所述冷卻板、磁板、及磁板驅動機構均設置在蒸鍍室內。

所述蒸鍍室的頂部設置有基板位置調整單元和基板位置觀測單元。

所述蒸鍍室的側部設置有抽真空單元。

所述蒸鍍室的底部設置有蒸鍍氣體發(fā)生單元。

本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明提供的一種真空蒸鍍裝置，包括冷卻板、磁板、及磁板驅動機構，通過與金屬掩模板結合使用對基板進行真空蒸鍍；所述磁板設置在冷卻板上方，用于通過磁板的磁力將金屬掩模板吸附在基板的下表面上，其中，所述磁板包括數個分別對應于金屬掩模板上不同區(qū)域的磁板單元，所述磁板驅動機構包括數個與所述數個磁板單元一一對應連接的驅動單元，所述數個磁板單元獨立地在相應的驅動單元的驅動下進行上下移動，從而可通過調節(jié)數個磁板單元的移動順序，充分釋放金屬掩模板的掩模在吸附于基板過程中所產生的應力，降低金屬掩模板設計難度，提升產品良率，并且可根據產品的混色情況實時調整相應的磁板單元，提高設備稼動率，可針對產品局部混色情況單獨調節(jié)金屬掩模板上相應區(qū)域所受到的磁力。

為了能更進一步了解本發(fā)明的特征以及技術內容，請參閱以下有關本發(fā)明的詳細說明與附圖，然而附圖僅提供參考與說明用，并非用來對本發(fā)明加以限制。

附圖說明

下面結合附圖，通過對本發(fā)明的具體實施方式詳細描述，將使本發(fā)明的技術方案及其它有益效果顯而易見。

附圖中，

圖1為現有的金屬掩模板的結構示意圖；

圖2為現有的真空蒸鍍裝置的結構示意圖；

圖3為本發(fā)明的真空蒸鍍裝置的結構示意圖。

具體實施方式

為更進一步闡述本發(fā)明所采取的技術手段及其效果，以下結合本發(fā)明的優(yōu)選實施例及其附圖進行詳細描述。

請參閱圖3，本發(fā)明提供一種真空蒸鍍裝置，通過與金屬掩模板200結合使用對基板300進行真空蒸鍍；

所述真空蒸鍍裝置包括冷卻板110、磁板120、及磁板驅動機構130；

所述冷卻板110用于設置在基板300上，以對金屬掩模板200和基板300進行冷卻；

所述磁板120設置在冷卻板110上方，用于通過磁板120的磁力將金屬掩模板200吸附在基板300的下表面上；

所述磁板120包括數個分別對應于金屬掩模板200上不同區(qū)域的磁板單元121，所述磁板120通過磁板單元121的磁力將金屬掩模板200上的相應區(qū)域吸附在基板300的下表面上，所述磁板驅動機構130包括數個與所述數個磁板單元121一一對應連接的驅動單元131，所述數個磁板單元121獨立地在相應的驅動單元131的驅動下進行上下移動，從而可單獨控制數個磁板單元121對金屬掩模板200上相應區(qū)域的磁力。

具體地，所述金屬掩模板200包括掩?？?、及設于所述掩模框上的掩模，所述磁板120在磁板驅動機構130的驅動下向下移動，通過其磁力將金屬材質的掩模拉向基板300，使掩模吸附在基板300的下表面上。

具體地，所述磁板單元121在相應的驅動單元131的驅動下向下移動，通過其磁力將掩模的對應區(qū)域拉向基板300，使掩模的對應區(qū)域吸附在基板300的下表面上。

本發(fā)明的真空蒸鍍裝置，將磁板120設計為包括數個可相對獨立控制的磁板單元121，從而可通過調節(jié)數個磁板單元121的移動順序，充分釋放金屬掩模板200的掩模在吸附于基板300過程中所產生的應力，降低金屬掩模板200的設計難度，提升產品良率，并且可針對產品局部混色情況單獨調節(jié)金屬掩模板200上相應區(qū)域所受到對應磁板單元121的磁力，根據產品的混色情況實時調整相應的磁板單元121，提高設備稼動率。

具體地，所述磁板120包括三個及以上的磁板單元121。

優(yōu)選地，所述磁板120包括并列排列的三個磁板單元121，其中設于中間的磁板單元121為中部磁板單元，位于中部磁板單元左右兩側的磁板單元121為側部磁板單元；

使用過程中，所述磁板120的中部磁板單元、側部磁板單元在相應的驅動單元131的驅動下依次向下移動，從而通過磁力使金屬掩模板200上對應于中部磁板單元的中間區(qū)域、及對應于側部磁板單元的兩側區(qū)域依次吸附在基板300的下表面上。相較于現行技術中通過磁板整體下壓而使得掩模的中間和兩端部分同時受力而吸附于基板上的方案，本發(fā)明可通過調節(jié)數個磁板單元121的移動順序，充分釋放金屬掩模板200的掩模在吸附于基板300過程中所產生的應力，降低金屬掩模板200的設計難度，提升產品良率。

具體地，每一驅動單元131包括驅動電動機、及設于相應的磁板單元121上以允許該磁板單元121上升和下降的驅動軸。

具體地，每一磁板單元121包括填料、及數個被填料包圍的磁體。

具體地，本發(fā)明的真空蒸鍍裝置還包括蒸鍍室，所述冷卻板110、磁板120、及磁板驅動機構130均設置在蒸鍍室內，對基板300的蒸鍍發(fā)生在蒸鍍室內。

具體地，所述蒸鍍室的頂部設置有基板位置調整單元和基板位置觀測單元，以觀察和調整基板300的位置，實現與金屬掩模板200的準確對位。

具體地，所述蒸鍍室的側部設置有抽真空單元，以實現真空環(huán)境下的蒸鍍。

具體地，所述蒸鍍室的底部設置有蒸鍍氣體發(fā)生單元，以產生蒸鍍氣體。

綜上所述，本發(fā)明的真空蒸鍍裝置，包括冷卻板、磁板、及磁板驅動機構，通過與金屬掩模板結合使用對基板進行真空蒸鍍；所述磁板設置在冷卻板上方，用于通過磁板的磁力將金屬掩模板吸附在基板的下表面上，其中，所述磁板包括數個分別對應于金屬掩模板上不同區(qū)域的磁板單元，所述磁板驅動機構包括數個與所述數個磁板單元一一對應連接的驅動單元，所述數個磁板單元獨立地在相應的驅動單元的驅動下進行上下移動，從而可通過調節(jié)數個磁板單元的移動順序，充分釋放金屬掩模板的掩模在吸附于基板過程中所產生的應力，降低金屬掩模板設計難度，提升產品良率，并且可根據產品的混色情況實時調整相應的磁板單元，提高設備稼動率，可針對產品局部混色情況單獨調節(jié)金屬掩模板上相應區(qū)域所受到的磁力。

以上所述，對于本領域的普通技術人員來說，可以根據本發(fā)明的技術方案和技術構思作出其他各種相應的改變和變形，而所有這些改變和變形都應屬于本發(fā)明權利要求的保護范圍。