本發(fā)明公開(kāi)一種消除噴涂涂層孔隙率的方法,屬于噴涂涂層封孔技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù):
噴涂是一種表面強(qiáng)化技術(shù),是表面工程技術(shù)的重要組成部分,噴涂涂層制備的原理決定了它是由微小顆粒相互交錯(cuò)堆疊而成的沉積層。,因此在形成涂層的過(guò)程中會(huì)出現(xiàn)空隙,而且涂層會(huì)出現(xiàn)一定的多孔性,有些孔隙甚至從涂層表面一直延續(xù)到基體的表面。涂層的孔隙率為1%~30%,這些孔隙對(duì)防腐及其它應(yīng)用是有害的,比如腐蝕介質(zhì)穿透氣孔到達(dá)被保護(hù)的基體表面腐蝕產(chǎn)物在界面積累會(huì)使熱噴涂層龜裂脫落。因此,空隙的存在會(huì)降低涂層的綜合力學(xué)性能。采用合理的工藝手段,消除噴涂涂層表面或內(nèi)在的孔隙,是提高噴涂涂層的綜合力學(xué)性能,提高涂層的壽命和工作效率的有效方法。
本發(fā)明中噴涂主要采用熱噴涂或冷噴涂方式,而目前降低噴涂涂層孔隙率的主要方法有:噴涂工藝的改進(jìn)、新的噴涂材料的開(kāi)發(fā)和封孔劑的使用。噴涂工作原理決定了涂層中不可避免的出現(xiàn)空隙,改進(jìn)噴涂的工藝參數(shù),只能有限的降低涂層的空隙率。封孔處理,是采用封孔劑浸透孔隙從而填充到孔隙中,但大多封孔處理只能處理涂層表面的孔隙,對(duì)涂層內(nèi)部孔隙缺乏必要的處理,影響涂層的長(zhǎng)時(shí)間應(yīng)用性能。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是:目前降低噴涂涂層孔隙率的方法只能有限的降低涂層的空隙率,影響涂層的長(zhǎng)時(shí)間應(yīng)用性能。
本發(fā)明的目的在于提供一種消除噴涂涂層孔隙率的方法,具體為:
當(dāng)涂層不能電磁感應(yīng)加熱時(shí),直接利用電磁感應(yīng)加熱噴涂基體,基體熱傳導(dǎo)加熱涂層,使涂層溫度達(dá)到其熔點(diǎn)溫度的40%~90%,在涂層表面施加壓力,然后保溫一段時(shí)間,實(shí)現(xiàn)封孔處理;其中,基體可電磁感應(yīng)加熱。
當(dāng)涂層可電磁感應(yīng)加熱,直接加熱涂層,使涂層溫度達(dá)到其熔點(diǎn)溫度的40%~90%,在涂層表面施加壓力,然后保溫一段時(shí)間,實(shí)現(xiàn)封孔處理。
優(yōu)選的,當(dāng)涂層不能電磁感應(yīng)加熱時(shí),本發(fā)明所述涂層是指以鐵、鈷、鎳、鐵合金、鈷合金或者鎳合金為基體的材料,采用熱噴涂或者冷噴涂在基體上噴涂純Al、純Zn、Mg/Al合金、或者Al/Zn合金制備得到。
優(yōu)選的,當(dāng)涂層可電磁感應(yīng)加熱,本發(fā)明所述涂層是指所述涂層是指以鐵、鈷、鎳、鐵合金、鈷合金或者鎳合金為基體的材料,采用熱噴涂或者冷噴涂在基體上噴涂Ni/Al合金或者Co/Al合金制備得到。
優(yōu)選的,本發(fā)明所述基體的厚度為0.5~4.0㎝基體的涂層厚度為0.2~10㎜。
優(yōu)選的,本發(fā)明通過(guò)軋輥機(jī)或者管狀模具在涂層表面施加壓力,使壓下量大于等于涂層厚度的五分之一。
優(yōu)選的,本發(fā)明所述保溫時(shí)間為40~60min。
本發(fā)明所述熱噴涂為常規(guī)熱噴涂,例如電弧噴涂、等離子噴涂、超音速火焰噴涂等,冷噴涂技術(shù)為常規(guī)冷噴涂技術(shù)。
本發(fā)明采用的技術(shù)方案產(chǎn)生的有益效果如下:
(1)本發(fā)明所述方法可以消除涂層的孔隙率,涂層的孔隙率由1%~30%降到零,提高涂層的致密度,提高涂層的綜合力學(xué)性能,因此提高涂層的壽命和工作效率。
(2)本發(fā)明所述方法可以同時(shí)處理涂層表面和內(nèi)部的孔隙,可以完全消除涂層的孔隙,因而提高涂層的壽命及其應(yīng)用性能。
(3)電磁感應(yīng)在金屬內(nèi)產(chǎn)生大量的焦耳熱,快速使材料升溫,可以很快使涂層達(dá)到熔點(diǎn)溫度40%~90%,能源利用率高。
(4)電磁感應(yīng)溫度達(dá)到涂層熔點(diǎn)40%~90%時(shí)對(duì)涂層施加壓力,工藝簡(jiǎn)單容易操作。
(5)電磁感應(yīng)設(shè)備操作簡(jiǎn)單,加熱過(guò)程中對(duì)溫度可以很好地控制,因而可以有效地提高工作效率。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明的工藝流程圖;
圖2平板樣品消除涂層孔隙率的原理圖;
圖3管狀樣品消除涂層孔隙率的原理圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明,但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不限于所述內(nèi)容。
本發(fā)明實(shí)施例采用常規(guī)的金相法對(duì)涂層的孔隙率進(jìn)行測(cè)試。
實(shí)施例1
(1)選取絲材的直徑為2.0㎜的純鋁絲,把絲材安裝到電弧噴涂設(shè)備上。
(2)工藝參數(shù)為:選用氬氣為噴涂氣氛,霧化氣壓為0.8MPa;噴涂電壓為32V;噴涂電流為180A;噴涂距離選擇180mm;沉積速度為128g/min;涂層厚度為200μm 。
(3)把制備好的涂層放入到電磁感應(yīng)加熱設(shè)備中,把溫度加熱到500℃。
(4)啟動(dòng)軋輥機(jī)使涂層勻速通過(guò)軋輥,壓下量15μm。
(5)保溫50分鐘后隨爐冷卻;此時(shí),涂層的空隙率將會(huì)達(dá)降到零。
實(shí)施例2
(1)選取絲材的直徑為2.2㎜的純鋅絲,把絲材安裝到電弧噴涂設(shè)備上。
(2)選用氬氣為噴涂氣氛,霧化氣壓為0.7MPa;噴涂電壓為32V;噴涂電流為180A;噴涂距離選擇180mm;沉積速度為130g/min;涂層厚度為300μm。涂層孔隙率為14%。
(3)把制備好的涂層放入到電磁感應(yīng)加熱設(shè)備中,把溫度加熱到380℃。
(4)啟動(dòng)軋輥機(jī)使涂層勻速通過(guò)軋輥,壓下量40μm。
(5)保溫60分鐘后隨爐冷卻;此時(shí),涂層的空隙率將會(huì)達(dá)降到零。
實(shí)施例3
(1)選取絲材的直徑為2.5㎜的鎳鋁合金絲,安裝在電弧噴涂設(shè)備上。
(2)選用氬氣為噴涂氣氛,霧化氣壓為0.6MPa;噴涂電壓為32V;噴涂電流為180A;噴涂距離選擇150mm;沉積速度為135g/min;涂層厚度為250μm。涂層空隙率為15%。
(3)把制備好的涂層放入到電磁感應(yīng)加熱設(shè)備中,把溫度加熱到300℃(使涂層達(dá)到熔融或者半熔融狀態(tài)。
(4)啟動(dòng)軋輥機(jī)使涂層勻速通過(guò)軋輥,壓下量37μm。
(5)保溫60分鐘后隨爐冷卻;此時(shí),涂層的空隙率將會(huì)達(dá)降到零。
實(shí)施例4
(1)選取絲材的直徑為2.6mm的純鋅絲、純鋁絲,把絲材安裝到電弧噴涂設(shè)備上。
(2)選用氬氣為噴涂氣氛,霧化氣壓為0.8MPa;噴涂電壓為32V;噴涂電流為180A;噴涂距離選擇180mm;沉積速度為128g/min;在鎳基合金上制備出厚度為300μm 的鋁鋅合金涂層。涂層的孔隙率為18%。
(3)把制備好的涂層放入到電磁感應(yīng)加熱設(shè)備中,把溫度加熱到400℃。
(4) 啟動(dòng)軋輥機(jī)使涂層勻速通過(guò)軋輥,壓下量60μm。
(5)保溫40分鐘后隨爐冷卻,此時(shí),涂層的空隙率將會(huì)達(dá)降到零。
實(shí)施例5
(1)選取粒度為45微米的鈷鋁粉末,放到等離子噴涂設(shè)備中。
(2)等離子噴涂的工藝參數(shù)為:主氣為Ar和N2,氬氣的氣流量為90L/min,氮?dú)獾臍饬髁繛?5L/min,工作電流為380A,工作電壓為120~160V;送粉器送粉氣體為Ar,氣體流量為45L/min;噴嘴距離基體距離為10㎝,噴嘴的移動(dòng)速度為0.005~0.04m/s。在鎳基合金上制備出厚度為0.20㎜的鈷鋁合金涂層。涂層的孔隙率為24%。
(3)把制備好的涂層放入到電磁感應(yīng)加熱設(shè)備中,把溫度加熱到850℃(使涂層達(dá)到熔融或者半熔融狀態(tài))。
(4) 啟動(dòng)管狀模具使涂層勻速通過(guò)模具,壓下量40μm。
(5)保溫50分鐘后隨爐冷卻,此時(shí),涂層的空隙率將會(huì)達(dá)降到零。
實(shí)施例6
(1)選取粒度為45微米的鎳鋁粉末,把鎳鋁粉末放到冷噴涂設(shè)備中。
(2)主氣為氮和氦,送粉速率控制在7kg/h,氣體流量為45L/min;噴嘴距離基體距離為12㎝,氣體壓力為3.5MPa。壓縮空氣加速金屬粒子到臨界速度(超音速), 在鎳基合金上制備出厚度為0.32㎜的鎳鋁合金涂層。涂層的孔隙率為15%。
(3)把制備好的涂層放入到電磁感應(yīng)加熱設(shè)備中,控制設(shè)備相應(yīng)的參數(shù),把溫度加熱到820℃(使涂層達(dá)到熔融或者半熔融狀態(tài))。
(4) 啟動(dòng)管狀模具使涂層勻速通過(guò)模具,壓下量55μm。
(5)保溫60分鐘后隨感應(yīng)爐冷卻,此時(shí),涂層的空隙率將會(huì)達(dá)降到零。