本發(fā)明涉及包裝材料領(lǐng)域，更具體地說(shuō)，本發(fā)明涉及一種鍍鋁薄膜生產(chǎn)工藝。

背景技術(shù)：

鍍鋁薄膜是通過(guò)真空鍍鋁工藝將高純度在鋁絲在1100～1200℃的高溫下蒸發(fā)成氣態(tài)，之后塑料薄膜經(jīng)過(guò)真空蒸發(fā)室時(shí)，氣態(tài)的鋁原子沉淀到塑料薄膜表面而形成的光亮金屬色彩的薄膜。鍍鋁薄膜常應(yīng)用在包裝中，現(xiàn)有的鍍鋁薄膜生產(chǎn)工藝比較落后，加工出來(lái)的鍍鋁薄膜質(zhì)量一般，光澤性差，做為包裝材料難以吸引顧客注意力。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明所要解決的問(wèn)題是提供一種鍍鋁薄膜生產(chǎn)工藝。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采取的技術(shù)方案為：一種鍍鋁薄膜生產(chǎn)工藝，其特征在于，包括如下步驟：

（1）將筒狀被鍍薄膜基材裝在真空蒸鍍機(jī)中，用真空泵抽真空，使鍍膜中的真空度達(dá)到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200～1400℃的溫度下溶化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁；

（2）氣態(tài)鋁微粒在移動(dòng)的薄膜基材表面沉積、經(jīng)冷卻還原即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層；

（3）通過(guò)控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、薄膜基材的移動(dòng)速度以及鍍膜室的真空度等來(lái)控制鍍鋁層的厚度，保障鍍鋁層厚度在25～500nm。

有益效果：該鍍鋁薄膜生產(chǎn)工藝采用真空蒸鍍機(jī)讓鋁絲溶化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁，通過(guò)控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、薄膜基材的移動(dòng)速度以及鍍膜室的真空度等來(lái)控制鍍鋁層的厚度，整個(gè)鍍鋁過(guò)程十分高效，且制造出來(lái)的鍍鋁薄膜具有良好的光澤度，包裝效果好。

具體實(shí)施方式

實(shí)施例1：

該鍍鋁薄膜生產(chǎn)工藝包括如下步驟：

（1）將筒狀被鍍薄膜基材裝在真空蒸鍍機(jī)中，用真空泵抽真空，使鍍膜中的真空度達(dá)到1.3×10－2Pa，加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1400℃的溫度下溶化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁；

（2）氣態(tài)鋁微粒在移動(dòng)的薄膜基材表面沉積、經(jīng)冷卻還原即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層；

（3）通過(guò)控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、薄膜基材的移動(dòng)速度以及鍍膜室的真空度等來(lái)控制鍍鋁層的厚度，保障鍍鋁層厚度在４00nm。

實(shí)施例2：

該鍍鋁薄膜生產(chǎn)工藝包括如下步驟：

（1）將筒狀被鍍薄膜基材裝在真空蒸鍍機(jī)中，用真空泵抽真空，使鍍膜中的真空度達(dá)到０.８×10－2Pa，加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1３00℃的溫度下溶化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁；

（2）氣態(tài)鋁微粒在移動(dòng)的薄膜基材表面沉積、經(jīng)冷卻還原即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層；

（3）通過(guò)控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、薄膜基材的移動(dòng)速度以及鍍膜室的真空度等來(lái)控制鍍鋁層的厚度，保障鍍鋁層厚度在３00nm。

實(shí)施例3：

該鍍鋁薄膜生產(chǎn)工藝包括如下步驟：

（1）將筒狀被鍍薄膜基材裝在真空蒸鍍機(jī)中，用真空泵抽真空，使鍍膜中的真空度達(dá)到1.3×10-3Pa，加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃的溫度下溶化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁；

（2）氣態(tài)鋁微粒在移動(dòng)的薄膜基材表面沉積、經(jīng)冷卻還原即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層；

（3）通過(guò)控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、薄膜基材的移動(dòng)速度以及鍍膜室的真空度等來(lái)控制鍍鋁層的厚度，保障鍍鋁層厚度在１００nm。

以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例，并非因此限制本發(fā)明的專(zhuān)利范圍，凡是利用本發(fā)明說(shuō)明書(shū)及實(shí)施方式內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專(zhuān)利保護(hù)范圍內(nèi)。