本發(fā)明涉及一種校正裝置和一種校正方法。具體地，本發(fā)明涉及一種針對用于拋光基板的斜面部分的斜面拋光系統(tǒng)的校正裝置和方法。

背景技術(shù)：

根據(jù)用于拋光基板(例如晶圓)的斜面部分的慣用斜面拋光系統(tǒng)，稱作拋光或按壓墊片的墊片通過具有適當載荷的拋光帶被按壓抵靠基板的斜面部分。因而，上述系統(tǒng)控制基板的拋光量和基板的形狀。拋光墊片通過例如使用電動氣動調(diào)節(jié)器的氣動控制進行控制。電動氣動調(diào)節(jié)器用于將供應(yīng)至氣缸的氣壓調(diào)節(jié)為所需壓力，從而控制拋光墊片的按壓力，因而控制將拋光帶的拋光表面按壓抵靠基板的壓力(專利文獻1)。

因而，如上所述，斜面拋光系統(tǒng)使用電動氣動調(diào)節(jié)器，用于對氣缸中的氣壓進行精確控制，從而維持拋光性能。因此，需要獲得氣缸中的氣壓與在拋光墊片的端部處的按壓載荷之間的準確關(guān)聯(lián)性。作為實現(xiàn)此需要的方法，在控制的氣壓條件下，校正來自拋光墊片的載荷現(xiàn)在通過使用測力計實際測量按壓載荷而執(zhí)行。

引用列表

專利文獻

專利文獻1：日本專利申請出版物(kokai)no.2012-231191

技術(shù)實現(xiàn)要素：

根據(jù)上述校正作業(yè)，通常，在其上放置有基板的臺階從基板保持旋轉(zhuǎn)機構(gòu)移除。臺階被替換為配備有測力計的附接夾具。在附接夾具安裝在旋轉(zhuǎn)機構(gòu)上之后，相對于拋光墊片的按壓力執(zhí)行一系列調(diào)節(jié)操作。然而，移除臺階和附接附接夾具的操作非常耗時。進一步，為了執(zhí)行可靠的校正作業(yè)，附接夾具需要安裝成使測力計可以準確地定位。此外，在重新附接臺階時，需要再次調(diào)節(jié)臺階，包括調(diào)節(jié)臺階的偏心度和水平度。這不僅使校正作業(yè)復雜，而且造成停機時間，導致每單位時間所處理的基板的數(shù)量減少。

本發(fā)明的一個實施例提供一種校正裝置，該校正裝置能使拋光墊片的按壓力通過簡單方法進行調(diào)節(jié)，而無需移除其上可放置基板的臺階。進一步，本發(fā)明的一個實施例提供一種校正方法，該校正方法使得可以通過簡單方法調(diào)節(jié)拋光墊片的按壓力，而無需移除其上可放置基板的臺階。

根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，提供一種用在斜面拋光裝置中的校正裝置，該斜面拋光裝置被構(gòu)造成拋光基板的斜面部分，該校正裝置包含：載荷測量設(shè)備，該載荷測量設(shè)備被構(gòu)造成測量來自斜面拋光裝置的拋光墊片的按壓載荷；和底板，該底板被構(gòu)造成固定在真空吸附臺上，該真空吸附臺被構(gòu)造成保持放置于其上的基板，底板上放置有載荷測量設(shè)備。利用以上布置，校正裝置可以通過使用現(xiàn)有的真空吸附臺的吸附機構(gòu)，而安裝在用于旋轉(zhuǎn)基板的機構(gòu)上。這消除了移除在慣用技術(shù)中所需要的真空吸附臺的必要性。因為相較于慣用校正作業(yè)，安裝校正裝置可以容易地執(zhí)行，所以在安裝校正裝置期間發(fā)生人為錯誤的風險可以降低。進一步，不同于慣用技術(shù)，在校正之后沒有伴隨安裝真空吸附臺的人為錯誤的可能性。進一步，相較于慣用的校正作業(yè)，本發(fā)明減少了用于校正的操作步驟的數(shù)量，因此抑制了停機時間的出現(xiàn)和每單位時間所處理的基板的數(shù)量的減少。此外，容易通過校正作業(yè)執(zhí)行裝置狀況的定期檢查，這穩(wěn)定了斜面拋光裝置的裝置狀況。

根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，提供一種用于斜面拋光裝置的校正方法，該校正方法包含下列步驟：提供構(gòu)造成拋光基板的斜面部分的斜面拋光裝置，該斜面拋光裝置包括真空吸附臺和多個拋光頭，真空吸附臺被構(gòu)造成保持放置于其上的基板，多個拋光頭沿著真空吸附臺的外周布置，多個拋光頭中的每個拋光頭都包括拋光墊片，該拋光墊片適于朝向基板的斜面部分被按壓；將底板吸附在真空吸附臺上，底板被構(gòu)造成在其上放置有載荷測量設(shè)備；將載荷測量設(shè)備固定至底板；旋轉(zhuǎn)真空吸附臺，從而相對于拋光頭定位載荷測量設(shè)備；將來自拋光墊片的按壓力施加于載荷測量設(shè)備的載荷支承表面；以及獲得施加按壓力時載荷測量設(shè)備的測量值和拋光頭的設(shè)定載荷之間的關(guān)聯(lián)性。

附圖說明

圖1顯示可應(yīng)用本發(fā)明的斜面拋光系統(tǒng)的整體構(gòu)造的一個示例；

圖2是示意性地顯示拋光頭組件的內(nèi)部結(jié)構(gòu)和帶饋送收集機構(gòu)的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的一個示例的截面圖；

圖3是說明拋光頭的按壓機構(gòu)的一個示例的視圖；

圖4是根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的校正裝置的上部立體圖；

圖5是圖4所示的校正裝置的下部立體圖；

圖6是圖4所示的校正裝置的側(cè)視截面圖；

圖7是從拋光頭觀看時的圖4的校正裝置的端部視圖；

圖8是顯示根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的校正方法的流程圖；

圖9是顯示使用根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的校正裝置的狀態(tài)的視圖；

圖10是顯示使用根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的校正裝置的狀態(tài)的視圖；

圖11是顯示使用根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的校正裝置的狀態(tài)的視圖；

圖12是基板的周緣部分的放大截面圖。

具體實施方式

本發(fā)明的具體實施例將在下文參考附圖進行說明。

圖1是顯示可應(yīng)用本發(fā)明的斜面拋光系統(tǒng)100的整體構(gòu)造的一個示例的平面圖。圖1所示的系統(tǒng)在其中心部分包含旋轉(zhuǎn)保持機構(gòu)3，其被構(gòu)造成水平地保持并旋轉(zhuǎn)作為待拋光目標的基板w(諸如晶圓)。更具體地，旋轉(zhuǎn)保持機構(gòu)3包括：真空吸附臺4，其被構(gòu)造成通過真空吸附保持基板w的背面；和軸5(圖1未顯示)，其附接至真空吸附臺4的中心部分。軸5通過馬達(未顯示)旋轉(zhuǎn)，使基板w繞著真空吸附臺4的中心軸線cr旋轉(zhuǎn)。真空通道形成在真空吸附臺4和軸5中，負壓被引入真空通道中，用于將基板w吸附在真空吸附臺4上。

斜面拋光系統(tǒng)100被構(gòu)造成拋光基板w(諸如晶圓)的斜面部分。圖12是水平地放置在真空吸附臺4上的晶圓的側(cè)視圖，并且以放大尺寸顯示晶圓的周緣部分。在圖12中，設(shè)備形成在晶圓的平坦部分d中。平坦部分d位于與端面g相距數(shù)毫米的距離處、晶圓的徑向內(nèi)側(cè)。該設(shè)備不是形成在位于區(qū)域d外部的平坦部分e中。在本說明書中，區(qū)域b被稱作斜面部分。區(qū)域b具有帶角度的表面，其從位于平坦部分e外部的上傾斜表面f延伸通過端面g至下傾斜表面f。

如圖1所示，四個拋光頭組件1a、1b、1c和1d繞著由旋轉(zhuǎn)保持機構(gòu)3保持的基板w布置。帶饋送收集機構(gòu)2a、2b、2c和2d徑向地布置在拋光頭組件1a、1b、1c和1d外部，其被構(gòu)造成將作為拋光工具的拋光帶23饋送至拋光頭組件1a、1b、1c和1d，并在拋光帶23被用過之后加以收集。分隔壁20將拋光頭組件1a、1b、1c和1d與帶饋送收集機構(gòu)2a、2b、2c和2d隔開。由分隔壁20圍繞的內(nèi)部空間形成拋光腔室21。四個拋光頭組件1a、1b、1c和1d與真空吸附臺4布置在拋光腔室21中。帶饋送收集機構(gòu)2a、2b、2c和2d布置在分隔壁20外部(即在拋光腔室21外部)。拋光頭組件1a、1b、1c和1d構(gòu)造相同，并且?guī)ю佀褪占瘷C構(gòu)2a、2b、2c和2d也構(gòu)造相同。參考標號69表示用于斜面拋光系統(tǒng)100的操作控制部分。

拋光頭組件1a具有拋光頭30(圖1未顯示)，其被構(gòu)造成將從帶饋送收集機構(gòu)2a饋送的拋光帶23帶至與基板w的周緣部分接觸。圖2是示意性地顯示拋光頭組件1a的內(nèi)部結(jié)構(gòu)和帶饋送收集機構(gòu)2a的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的截面圖。如圖2所示，拋光帶23以使拋光帶23的拋光表面面向基板w的方式被饋送至拋光頭30。

拋光頭30固定至圖1所示的臂60的一端。臂60被構(gòu)造成可以繞著與切線平行地延伸至基板w的軸線ct旋轉(zhuǎn)。臂60的另一端通過滑輪和皮帶連接至馬達m4。當馬達m4以預(yù)定角度順時針和逆時針旋轉(zhuǎn)時，臂60以預(yù)定角度繞著軸線ct旋轉(zhuǎn)。這使得可以根據(jù)晶圓w的斜面部分的形狀改變拋光頭30的傾斜角度，然后拋光基板w的斜面部分的所需部分。

如圖2所示，拋光頭30的向前和向后位置(換言之，沿著基板w的徑向方向的位置)可通過直接或間接地固定至底部板65的線性致動器67進行調(diào)節(jié)。

圖3是說明拋光頭30的按壓機構(gòu)41的一個示例的視圖。按壓機構(gòu)41包括：拋光墊片50，其布置在由垂直地布置于拋光頭30前面的兩個引導輥46、47支撐的拋光帶23的背側(cè)；墊片保持器51，其被構(gòu)造成保持拋光墊片50；和氣缸52，其被構(gòu)造成朝向基板w移動墊片保持器51。

氣缸52是所謂的單桿氣缸。兩個空氣導管53通過兩個端口連接至氣缸52。每個空氣導管53都設(shè)置有電動氣動調(diào)節(jié)器(例如電磁閥)54。每個電動氣動調(diào)節(jié)器54的主側(cè)都連接至空氣供應(yīng)源(例如壓縮機)55，且每個電動氣動調(diào)節(jié)器54的副側(cè)都連接至氣缸52的對應(yīng)端口。電動氣動調(diào)節(jié)器54根據(jù)從操作控制部分69傳輸?shù)男盘栠M行控制，從而使供應(yīng)至氣缸52的氣壓能夠被調(diào)節(jié)為所需壓力。更具體地，操作控制部分69控制電動氣動調(diào)節(jié)器54，從而產(chǎn)生等于操作員輸入的設(shè)定值的按壓力。對供應(yīng)至氣缸52的氣壓的控制，使得可以推動連接至氣缸52的活塞桿的拋光墊片50，并且控制用于將拋光帶23的拋光表面按壓抵靠晶圓w的壓力。

根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的校正裝置200可應(yīng)用于例如如上所述構(gòu)造的斜面拋光系統(tǒng)100。圖4是根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的校正裝置200的俯視立體圖。圖5是圖4所示的校正裝置200的仰視透視圖。圖6是校正裝置200的側(cè)視截面圖。校正裝置200包括：載荷測量設(shè)備300，其能夠測量來自斜面拋光系統(tǒng)100的拋光墊片50的按壓載荷；和底板400，其上可以放置有載荷測量設(shè)備300。底板400可以固定在斜面拋光系統(tǒng)100的真空吸附臺4上。在圖示示例中，載荷測量設(shè)備300包含測力計301。根據(jù)本示例，測力計301是數(shù)字測力計。參考標號301a表示其上數(shù)字地指示測量值的顯示窗口。然而，本發(fā)明的實施例不限于此示例。

根據(jù)圖示示例，底板400布置成包含直徑不同的基本呈圓形的板狀構(gòu)件，其在豎直方向上同軸地布置。底板400包括具有小直徑的上板部分401和具有大直徑的下板部分402。優(yōu)選地，下板部分402的直徑實質(zhì)上與真空吸附臺4相同。底板400需要同軸地布置在真空吸附臺4上。因此，通過將下板部分402和真空吸附臺4布置成具有相同外輪廓，可以便于當?shù)装?00被吸附至真空吸附臺4上時的定位。下板部分402的背面403被做成平坦的，從而使下板部分402能夠通過吸附容易地固定至真空吸附臺4上。測力計301以使從測力計301的主體延伸的測量軸302可以朝向繞著底板400布置的拋光頭30定向的方式，放置在上板部分401上。圖7是從拋光頭30觀看時的校正裝置200的端部視圖。

載荷測量設(shè)備300可以包含載荷支承構(gòu)件303，其可以固定至測力計301的測量軸302。根據(jù)附圖所示的示例，載荷支承構(gòu)件303具有支架304。支架304具有：附接部分304a，其適于附接至測量軸302；和載荷支承部分304b，其包括載荷支承表面(參考標號省略)，載荷支承部分304b被構(gòu)造成能夠承受來自拋光墊片50的按壓載荷。支架304可以通過螺栓和螺帽經(jīng)由附接部分304a固定至測量軸302。

根據(jù)附圖所示的示例，載荷支承構(gòu)件303具有墊片305，其由樹脂(例如peek)形成并適于固定至金屬制成的支架304的載荷支承表面。墊片305可以通過可從支架304的載荷支承部分304b的后側(cè)附接的螺栓進行固定。當金屬支架304與拋光墊片50直接接觸時，很有可能發(fā)生拋光墊片50的金屬沾污(換言之，金屬污染)。樹脂墊片305在防止此類金屬沾污上有優(yōu)勢。使用樹脂墊片305也使樹脂拋光墊片50在校正期間被按壓抵靠載荷支承表面時受損傷的風險降至最低。然而，在本發(fā)明的其他實施例中，樹脂墊片305可以省略。

在本說明書中，在墊片305如圖所示附接至支架304的載荷支承部分304b的情況下，附接位置上的墊片305的表面提供載荷支承構(gòu)件303的“載荷支承表面”。在墊片305未附接至載荷支承部分304b的情況下，支架304的表面提供載荷支承構(gòu)件303的“載荷支承表面”。在下文中，用語“載荷支承表面”涵蓋這兩種情況。

根據(jù)圖示示例，校正裝置200包括間隔件306。間隔件306可以可拆卸地布置在形成于上板部分401和下板部分402之間的臺階部分404中。優(yōu)選地，間隔件306的一端部分形成為與上板部分401的外周表面相符的形狀?？梢酝ㄟ^將支架304的載荷支承部分304b帶至與間隔件306的另一端部分接觸，而調(diào)節(jié)載荷支承表面305a相對于底板400的位置，并且因此調(diào)節(jié)固定底板400的真空吸附臺4的位置。

載荷測量設(shè)備300可以具有可固定至底板400的安裝板307。測力計301可通過安裝板307固定至底板400。安裝板307可以事先固定至測力計301的主體。

安裝板307具有能夠調(diào)節(jié)安裝板307相對于底板400的位置的調(diào)節(jié)螺釘307a。在這種情況下，安裝板307例如可以具有在與測量軸302的延伸方向基本相同的方向上延伸的槽口307b，且上板部分401可以具有能夠布置成面對槽口307b的槽口。調(diào)節(jié)螺釘307a可以在上述槽口內(nèi)的所需位置處緊固至底板400。

因而，如圖所示構(gòu)造的校正裝置200例如通過下述方法執(zhí)行斜面拋光系統(tǒng)100的校正。圖8是顯示下文將說明的校正方法的示例的流程圖。圖9至圖11是顯示使用校正裝置200的狀態(tài)的立體圖、側(cè)視圖和俯視圖。在圖9至圖11中，拋光帶23在附圖中省略。

首先，停止旋轉(zhuǎn)斜面拋光系統(tǒng)100的旋轉(zhuǎn)保持機構(gòu)3(步驟500)。拋光頭組件1a、1b、1c和1d的每個拋光頭30都調(diào)節(jié)為具有0度的傾斜角度(即如圖2所示調(diào)節(jié)為水平方向)，而每個拋光墊片50的向前和向后位置都調(diào)節(jié)為預(yù)定拋光位置(步驟501)。在隨后的步驟中，底板400通過以使真空吸附臺4的外周與底板400的外周重合(即真空吸附臺4的中心軸線與底板400的中心軸線重合)的方式吸附，而固定至真空吸附臺4上(步驟502)。在此實例中，優(yōu)選地，載荷測量設(shè)備300暫時地固定在上板部分401上，而未牢固地緊固安裝板307的調(diào)節(jié)螺釘307a。為了調(diào)節(jié)載荷測量設(shè)備300的載荷支承表面305a相對于真空吸附臺4的位置，間隔件306布置在載荷支承表面305a和底板400之間(步驟503)。具體地，間隔件306的一端部分布置在底板400的臺階部分404中，且間隔件306的另一端部分帶至與支架304的載荷支承部分304b接觸。底板400的中心軸線(即真空吸附臺4的中心軸線)和墊片305的載荷支承表面305a之間的距離可以是例如150mm。通過在上述狀態(tài)下緊固調(diào)節(jié)螺釘307a，載荷測量設(shè)備300固定在上板部分401上(步驟504)。在固定后，間隔件306沿著臺階部分404滑動并移除(步驟505)。

真空吸附臺4可以例如手動地旋轉(zhuǎn)，以使載荷支承表面305a可以相對于例如拋光頭組件1a的拋光墊片50定位(換言之，載荷支承表面305a可以做成與拋光墊片50的表面平行)(步驟506)。在此實例中，在拋光頭30的拋光帶23中的張力可以減少。

在定位后，操作員將按壓力的設(shè)定值輸入斜面拋光系統(tǒng)100的操作控制部分69中，從而操作拋光頭30(步驟507)。結(jié)果，拋光墊片50被按壓抵靠固定至測力計301的測量軸302的墊片305的載荷支承表面305a。對于已被按壓的墊片305，讀取在測力計301的顯示窗口301a上所指示的載荷的實際測量值(步驟508)。然后，通過比較實際測量值和設(shè)定值，計算校正量(步驟509)。設(shè)定值根據(jù)計算結(jié)果進行校正(步驟510)。具體地，若實際測量值大于設(shè)定值，則執(zhí)行校正以減少設(shè)定值；若實際測量值小于設(shè)定值，則執(zhí)行校正以增加設(shè)定值。若實際測量值等于設(shè)定值，則不執(zhí)行校正。

在隨后的步驟中，旋轉(zhuǎn)真空吸附臺4從而相對于例如拋光頭組件1b的拋光墊片50定位載荷支承表面305a(步驟506)。因而，步驟506至步驟510也以上述方式相對于其余拋光頭組件(即拋光頭組件1b、1c和1d)執(zhí)行，從而相對于斜面拋光系統(tǒng)100的每個拋光墊片50調(diào)節(jié)按壓力。

根據(jù)本發(fā)明的實施例的校正裝置200不僅可以用于設(shè)定拋光載荷，而且可以用于作為例行程序或用于定期維護而檢查載荷。萬一組件故障(這會影響拋光載荷)，例如當電動氣動調(diào)節(jié)器的設(shè)定壓力落在適當范圍以外時，載荷可以在恢復之后使用校正裝置200容易地重新調(diào)節(jié)。

因而，根據(jù)本發(fā)明的實施例，通過使用現(xiàn)有真空吸附臺4的吸附機構(gòu)，校正裝置200可以安裝在旋轉(zhuǎn)保持機構(gòu)3上，無須移除真空吸附臺4。因此，相較于慣用校正作業(yè)，安裝校正裝置200可以容易地執(zhí)行。這降低了在安裝校正裝置200期間發(fā)生人為錯誤的風險。而且，不同于慣用技術(shù)，校正完成之后沒有伴隨真空吸附臺4的安裝而發(fā)生人為錯誤的可能性。

相較于慣用校正作業(yè)，本發(fā)明減少了用于校正的操作步驟的數(shù)量，因此抑制停機時間的發(fā)生和每單位時間所處理的基板的數(shù)量的減少。進一步，本發(fā)明通過校正作業(yè)實現(xiàn)了裝置狀況的容易的定期檢查。這穩(wěn)定了斜面拋光系統(tǒng)100的狀況。

本發(fā)明包括以下實施例。

1.一種用在斜面拋光裝置中的校正裝置，該斜面拋光裝置被構(gòu)造成拋光基板的斜面部分，該校正裝置包含：載荷測量設(shè)備，該載荷測量設(shè)備被構(gòu)造成測量來自斜面拋光裝置的拋光墊片的按壓載荷；和底板，該底板被構(gòu)造成固定在真空吸附臺上，該真空吸附臺被構(gòu)造成保持放置于其上的基板，底板上放置有載荷測量設(shè)備。利用以上布置，校正裝置可以通過使用現(xiàn)有真空吸附臺的吸附機構(gòu)，而安裝在用于旋轉(zhuǎn)基板的機構(gòu)上。這消除了移除在慣用技術(shù)中所需的真空吸附臺的必要性。因為相較于慣用校正作業(yè)，安裝校正裝置可以容易地執(zhí)行，所以在安裝校正裝置期間發(fā)生人為錯誤的風險可以降低。進一步，不同于慣用技術(shù)，在校正之后沒有伴隨真空吸附臺的安裝的人為錯誤的可能性。進一步，相較于慣用校正作業(yè)，本發(fā)明減少了用于校正的操作步驟的數(shù)量，因此抑制了停機時間的發(fā)生和每單位時間所處理的基板的數(shù)量的減少。此外，容易通過校正作業(yè)執(zhí)行裝置狀況的定期檢查，這穩(wěn)定了斜面拋光裝置的裝置狀況。

2.如以上第1項所述的校正裝置，其中，載荷測量設(shè)備包括測力計，該測力計具有測量軸。

3.如以上第2項所述的校正裝置，其中，載荷測量設(shè)備包括載荷支承構(gòu)件，該載荷支承構(gòu)件被構(gòu)造成固定至測力計的測量軸，載荷支承構(gòu)件包括載荷支承表面，該載荷支承表面被構(gòu)造成承受按壓載荷。

4.如以上第3項所述的校正裝置，進一步包含間隔件，該間隔件被構(gòu)造成調(diào)節(jié)載荷支承表面相對于真空吸附臺的位置。

5.如以上第3項或第4項所述的校正裝置，其中，載荷支承構(gòu)件包括支架。

6.如以上第5項所述的校正裝置，其中，載荷支承構(gòu)件包括墊片，該墊片由樹脂形成并且適于固定至支架。

7.如以上第1項至第6項中任一項所述的校正裝置，其中，載荷測量設(shè)備包括安裝板，該安裝板被構(gòu)造成固定至底板。

8.如以上第7項所述的校正裝置，其中，安裝板包括調(diào)節(jié)螺釘，該調(diào)節(jié)螺釘被構(gòu)造成調(diào)節(jié)安裝板相對于底板的位置。

9.一種斜面拋光裝置，該斜面拋光裝置被構(gòu)造成拋光基板的斜面部分，該斜面拋光裝置包含：真空吸附臺，該真空吸附臺被構(gòu)造成保持放置于其上的基板；多個拋光頭，該多個拋光頭沿著真空吸附臺的外周布置，該多個拋光頭中的每個拋光頭都包括拋光墊片，該拋光墊片適于朝向基板的斜面部分被按壓；和如以上第1項至第8項中任一項所述的校正裝置。

10.一種用于斜面拋光裝置的校正方法，該校正方法包含下列步驟：提供構(gòu)造成拋光基板的斜面部分的斜面拋光裝置，該斜面拋光裝置包括真空吸附臺和多個拋光頭，該真空吸附臺被構(gòu)造成保持放置于其上的基板，該多個拋光頭沿著真空吸附臺的外周布置，該多個拋光頭中的每個拋光頭都包括拋光墊片，該拋光墊片適于朝向基板的斜面部分被按壓；將底板吸附至真空吸附臺上，該底板被構(gòu)造成在其上放置有載荷測量設(shè)備；將載荷測量設(shè)備固定至底板；旋轉(zhuǎn)真空吸附臺，從而相對于拋光頭定位載荷測量設(shè)備；將來自拋光墊片的按壓力施加于載荷測量設(shè)備的載荷支承表面；以及獲得施加按壓力時載荷測量設(shè)備的測量值和拋光頭的設(shè)定載荷之間的關(guān)聯(lián)性。

11.如以上第10項所述的校正方法，將載荷測量設(shè)備固定至底板的步驟包括在載荷測量設(shè)備的載荷支承表面和底板之間設(shè)置間隔件從而調(diào)節(jié)載荷支承表面相對于真空吸附臺的位置的步驟。

12.如以上第11項所述的校正方法，將底板吸附至真空吸附臺上的步驟包括將載荷測量設(shè)備的安裝板暫時地固定至底板。

雖然上文已經(jīng)根據(jù)一些示例說明本發(fā)明的實施例，但是所述實施例是為了便于本發(fā)明的理解而不意圖限制本發(fā)明。本發(fā)明可以在不偏離其精神的情況下被修改和改進，并且本發(fā)明包括其相等物。此外，權(quán)利要求書和說明書中所述的元件，可以在至少部分地解決上述問題的范圍內(nèi)，或在實現(xiàn)至少一部分優(yōu)勢的范圍內(nèi)，任意地被組合或省略。

本申請依據(jù)巴黎公約要求2015年11月27日提交的日本專利申請no.2015-231844的優(yōu)先權(quán)。包括說明書、權(quán)利要求書、附圖和摘要的2015年11月27日提交的日本專利申請no.2015-231844的全部公開內(nèi)容通過全文引用而結(jié)合在本文中。包括說明書、權(quán)利要求書、附圖和摘要的日本專利申請no.2012-231191(專利文獻1)的全部公開內(nèi)容通過全文引用而結(jié)合在本文中。

工業(yè)可適用性

本發(fā)明可廣泛地適用于拋光基板的斜面部分的斜面拋光系統(tǒng)。

參考標記列表

3旋轉(zhuǎn)保持機構(gòu)

4真空吸附臺

5軸

1a、1b、1c、1d拋光頭組件

2a、2b、2c、2d帶饋送收集機構(gòu)

20分隔壁

21拋光腔室

23拋光帶

30拋光頭

41按壓機構(gòu)

46、47引導輥

50拋光墊片

51墊片保持器

52氣缸

53空氣導管

54電動氣動調(diào)節(jié)器

55空氣供應(yīng)源

60臂

65底部板

67線性致動器

69操作控制部分

100斜面拋光系統(tǒng)

200校正裝置

300載荷測量設(shè)備

301測力計

301a顯示窗口

302測量軸

303載荷支承構(gòu)件

304支架

304a附接部分

304b載荷支承部分

305墊片

305a載荷支承表面

306間隔件

307安裝板

307a調(diào)節(jié)螺釘

307b槽口

400底板

401上板部分

402下板部分

403背面

404臺階部分

b斜面部分

cr、ct軸線

m3、m4馬達

w基板