技術總結
本實用新型公開了一種多功能單雙面連續(xù)式卷繞磁控濺射鍍膜設備，包括電控裝置、真空腔、抽真空裝置、磁控濺射鍍膜裝置和卷繞機構，卷繞機構主要由放卷機構、收卷機構和輸送機構組成，輸送機構包括鍍膜支承輥，鍍膜支承輥和磁控濺射鍍膜裝置分別為一對，鍍膜支承輥為半環(huán)形，放卷機構位于其中一個鍍膜支承輥圍括的區(qū)域內，收卷機構位于另一個鍍膜支承輥圍括的區(qū)域內，每個鍍膜支承輥的輥面分別與一個磁控濺射鍍膜裝置相對應，經過兩個鍍膜支承輥的柔性襯底的外表面分別是該柔性襯底的兩個面。本實用新型可實現(xiàn)一次性同時雙面鍍膜，提高了生產效率，也可根據(jù)工藝需求選擇單面鍍膜以及單面鍍雙層復合膜，且節(jié)約了腔體內部空間，減小了腔體體積。

技術研發(fā)人員：高進偉;容齊坤;金名亮
受保護的技術使用者：華南師范大學;深圳市星國華先進裝備科技有限公司
文檔號碼：201620801957
技術研發(fā)日：2016.07.26
技術公布日：2016.12.14