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      一種PECVD與PVD混合連續(xù)式柔性薄膜鍍膜裝置的制作方法

      文檔序號:11366464閱讀:418來源:國知局

      本實用新型涉及一種PECVD與PVD混合連續(xù)式柔性薄膜鍍膜裝置,特別是一種PECVD與PVD整合在一條生產(chǎn)線的鍍膜裝置。



      背景技術(shù):

      現(xiàn)今卷對卷連續(xù)真空連續(xù)鍍膜設(shè)備都只針對一種沉積模式運作,PECVD模式或PVD模式。受限于不同的制程氣體如何有效地進行隔絕,通常的做法是將PECVD及PVD分別作為兩套獨立運作的系統(tǒng),以避免制程氣體相互影響,設(shè)備建制成本提高,同時增加使用空間。

      或著設(shè)置多個空腔室作為氣體隔離作用,且分別需要配置門閥加強氣體隔離效果;此舉雖然整合PECVD及PVD于一條生產(chǎn)線上,但是設(shè)置多個空腔室還是增加了設(shè)備長度,也并未有效降低設(shè)備建制成本。

      因此,如何設(shè)計一種結(jié)構(gòu)緊湊、占用空間小的整合裝置,以實現(xiàn)同時可執(zhí)行PECVD及PVD兩種模式的鍍膜是本領(lǐng)域技術(shù)人員目前需要解決的技術(shù)問題。



      技術(shù)實現(xiàn)要素:

      本實用新型的目的是提供一種PECVD與PVD混合連續(xù)式柔性薄膜鍍膜裝置,以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

      為實現(xiàn)上述目的,本實用新型提供如下技術(shù)方案:一種PECVD與PVD混合連續(xù)式柔性薄膜鍍膜裝置,包括送卷腔室、收卷腔室、PECVD處理腔室、隔離腔室、氣氛隔離機構(gòu)、PVD處理腔室、腔室狹長縫隙,所述處理腔室設(shè)置腔室狹長縫隙,所述送卷腔室設(shè)置送卷滾輪,所述收卷腔室設(shè)置收卷滾輪,所述隔離腔室設(shè)置氣氛隔離機構(gòu)。

      優(yōu)選的,所述氣氛隔離機構(gòu)設(shè)置進氣孔,直徑5mm-10mm,間隔100mm設(shè)置,共設(shè)置15孔。

      優(yōu)選的,所述氣氛隔離機構(gòu),可設(shè)置一個或多個氣氛隔離機構(gòu)。

      優(yōu)選的,所述PECVD處理腔室,可設(shè)置一個或多個處理腔室。

      優(yōu)選的,所述PVD處理腔室,可設(shè)置一個或多個處理腔室。

      優(yōu)選的,所述之腔室狹長縫隙,可設(shè)置一個或多個腔室狹長縫隙。

      本實用新型的技術(shù)效果和優(yōu)點:該PECVD與PVD混合連續(xù)式柔性薄膜鍍膜裝置,柔性基材由送卷腔室內(nèi)送卷滾輪傳送,透過腔室狹長縫隙進入PECVD處理腔室進行薄膜沉積,透過腔室狹長縫隙進入隔離腔室,隔離腔室內(nèi)設(shè)有氣氛隔離機構(gòu),并通入惰性氣體,使內(nèi)部形成氣簾效果,以阻止PECVD處理腔室的制程氣體向外擴散,柔性基材再透過另一組氣氛隔離機構(gòu)、腔室狹長縫隙傳送至PVD處理腔室進行薄膜沉積,然后進入收卷腔室內(nèi)收卷滾輪收卷。

      透過隔離腔室內(nèi)氣氛隔離機構(gòu),可有效避免PECVD制程氣體進入PVD處理腔室引響制程;同時也可避免PVD制程氣體進入PECVD處理腔室引響其制程。如此,既可整合PECVD及PVD兩種模式于一條生產(chǎn)線,降低設(shè)備建制成本,也無須設(shè)置多個空腔室即可達成目的。

      附圖說明

      通過下面結(jié)合附圖對其示例性實施的描述,本發(fā)明以上特征的優(yōu)點將會變得更加清楚和容易理解。

      圖1是本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖。

      主要組件符號說明

      11...送卷腔室

      12...送卷滾輪

      13...PECVD處理腔室

      14...腔室狹長縫隙

      15...隔離腔室

      16...氣氛隔離機構(gòu)

      17...PVD處理腔室

      18...收卷腔室

      19...收卷滾輪

      具體實施方式

      為了對實用新型的技術(shù)特征、目的和效果有更加清楚的理解,現(xiàn)對照附圖說明本

      實用新型的具體實施方式。

      本實用新型提供了一種PECVD與PVD混合連續(xù)式柔性薄膜鍍膜裝置,包括送卷腔室、收卷腔室、PECVD處理腔室、隔離腔室、氣氛隔離機構(gòu)、PVD處理腔室、腔室狹長縫隙所組成。

      如圖1所示,柔性基材由送卷腔室11內(nèi)送卷滾輪12傳送,透過腔室狹長縫隙14進入PECVD處理腔室13進行薄膜沉積,透過腔室狹長縫隙14進入隔離腔室15,隔離腔室15內(nèi)設(shè)有氣氛隔離機構(gòu)16,并通入惰性氣體,使內(nèi)部形成氣簾效果,以阻止PECVD處理腔室13的制程氣體向外擴散,柔性基材再透過另一組氣氛隔離機構(gòu)16、腔室狹長縫隙14傳送至PVD處理腔室17進行薄膜沉積,然后進入收卷腔室18內(nèi)收卷滾輪19收卷,該組態(tài)設(shè)置有效整合PECVD及PVD兩種模式于一條生產(chǎn)線結(jié)構(gòu)簡單,成本低,節(jié)省建制設(shè)備長度。

      上文所列出的一系列的詳細說明僅僅是針對本實用新型的可行性實施例的具體說明,它們并非用以限制本實用新型的保護范圍,凡未脫離本實用新型技藝精神所作的等效實施例或變更均應(yīng)包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。

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