1.一種磁控濺射裝置，其特征在于，包括依次連接的烘烤腔、濺射腔和降溫腔，所述烘烤腔內(nèi)設(shè)置至少一個烘烤燈，所述烘烤燈用于烘烤基片。
2.如權(quán)利要求1所述的一種磁控濺射裝置，其特征在于，所述濺射腔，連接冷卻水制冷劑設(shè)備。
3.如權(quán)利要求1或2所述的一種磁控濺射裝置，其特征在于，所述降溫腔腔體外設(shè)置冷卻水降溫盤。
4.如權(quán)利要求1或2所述的一種磁控濺射裝置，其特征在于，所述烘烤腔、濺射腔和降溫腔分別與單獨的冷泵連接，所述冷泵用于對烘烤腔或濺射腔或降溫腔抽高真空。
5.如權(quán)利要求2所述的一種磁控濺射裝置，其特征在于，所述濺射腔內(nèi)設(shè)置靶材，所述靶材與冷卻系統(tǒng)連接，冷卻水系統(tǒng)的進水管和冷卻水回水管分別設(shè)置水流阻表和/或溫度報警器。
6.如權(quán)利要求1所述的一種磁控濺射裝置，其特征在于，所述烘烤燈設(shè)置于烘烤腔側(cè)部。
7.如權(quán)利要求1所述的一種磁控濺射裝置，其特征在于，所述烘烤燈為兩個。
8.如權(quán)利要求1或7所述的一種磁控濺射裝置，其特征在于，所述烘烤腔底部設(shè)置底座，底座上設(shè)置支撐柱，所述支撐柱用于支撐基片；所述烘烤燈設(shè)置于支撐柱側(cè)部。
9.如權(quán)利要求8所述的一種磁控濺射裝置，其特征在于，所述支撐柱為陶瓷柱。