技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型涉及旋轉(zhuǎn)真空鍍膜室，包括真空泵、導(dǎo)氣管、反應(yīng)室、蒸發(fā)源、鍍膜支架、旋轉(zhuǎn)臺(tái)，其特征在于真空泵通過導(dǎo)氣管與反應(yīng)室連通，反應(yīng)室中央位置設(shè)置有旋轉(zhuǎn)臺(tái)，鍍膜支架設(shè)置在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上方，鍍膜支架頂部朝上方突起，旋轉(zhuǎn)臺(tái)位于鍍膜支架頂部突起的正下方，蒸發(fā)源為多個(gè)，多個(gè)蒸發(fā)源放射狀分布在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上方。鍍膜支架為三腳支架。鍍膜支架頂部呈圓形。旋轉(zhuǎn)臺(tái)上的蒸發(fā)源為三個(gè)。由于本實(shí)用新型所述的旋轉(zhuǎn)真空鍍膜室的鍍膜支架頂部朝上方突起，旋轉(zhuǎn)臺(tái)位于鍍膜支架頂部突起的正下方，多個(gè)蒸發(fā)源放射狀分布在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上方，因此蒸發(fā)源與鍍膜支架上不同位置的直線距離差極小，盡量減小了鍍膜支架上工件的鍍膜速率差，保證了鍍膜的均勻。

技術(shù)研發(fā)人員：許峰
受保護(hù)的技術(shù)使用者：蘇州市博飛光學(xué)有限公司
文檔號(hào)碼：201621233494
技術(shù)研發(fā)日：2016.11.17
技術(shù)公布日：2017.04.26