本實(shí)用新型涉及光學(xué)器件技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種光學(xué)晶體研磨拋光用拋光液處理裝置。

背景技術(shù)：

在生產(chǎn)加工光學(xué)零件時(shí)，需要對不斷光學(xué)零件進(jìn)行研磨、拋光，研磨、拋光是非常光學(xué)零件生產(chǎn)過程中的關(guān)鍵加工工序。在研磨、拋光過程中需要使用大量的拋光液，這些拋光液中含有許多細(xì)小的固體顆粒，在靜置一段時(shí)間后，拋光液中的固體顆粒容易出現(xiàn)沉淀使拋光液中的固體顆粒分布不均勻，影響研磨、拋光使用，在研磨、拋光前最好能夠?qū)伖庖夯旌暇鶆颉?/p>

另外在對光學(xué)零件進(jìn)行精密研磨、拋光時(shí)，需要確保拋光液中不能混雜有大顆粒的雜質(zhì)，否則將可能會(huì)損壞光學(xué)零件。因此在研磨、拋光時(shí)需要對拋光液進(jìn)行處理，現(xiàn)有技術(shù)中一般只是采用簡易的靜置過濾裝置對拋光液進(jìn)行過濾，使用時(shí)再手動(dòng)搖勻混合，其過濾和混合效果不是很理想，需要進(jìn)一步改進(jìn)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型提供了一種使用方便、混合均勻、過濾除雜效果好的光學(xué)晶體研磨拋光用拋光液處理裝置。

本實(shí)用新型為達(dá)到上述技術(shù)目的所采用的技術(shù)方案是：一種光學(xué)晶體研磨拋光用拋光液處理裝置，包括一個(gè)拋光液混合容器，所述拋光液混合容器的內(nèi)部側(cè)壁上設(shè)有便于混合拋光液的葉片，所述拋光液混合容器傾斜置于一個(gè)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置上，所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置中設(shè)有三個(gè)能夠支撐驅(qū)動(dòng)所述拋光液混合容器的驅(qū)動(dòng)輥輪，其中設(shè)于最低端的所述驅(qū)動(dòng)輥輪連接有驅(qū)動(dòng)電機(jī)，所述拋光液混合容器的底部設(shè)有一個(gè)拋光液出口，所述拋光液混合容器內(nèi)部靠近所述拋光液出口處設(shè)有一次過濾網(wǎng)片，所述一次過濾網(wǎng)片上設(shè)有便于更換的過濾布，所述拋光液出口連接一個(gè)精密過濾裝置，所述精密過濾裝置中設(shè)有兩層過濾介質(zhì)，兩層所述過濾介質(zhì)之間設(shè)有一個(gè)過渡腔體，所述過渡腔體的側(cè)壁上連接有一個(gè)雜質(zhì)收集槽，所述精密過濾裝置的出口連接拋光液供給裝置，所述精密過濾裝置的出口還設(shè)有一個(gè)過濾介質(zhì)吹氣反清洗接口，所述過濾介質(zhì)吹氣反清洗接口連接有清潔壓縮氣源。

所述拋光液混合容器和精密過濾裝置之間設(shè)有一個(gè)活動(dòng)連接的軟管，所述軟管上設(shè)有自動(dòng)控制的開關(guān)閥門；精密過濾裝置吹氣反清洗時(shí)能夠關(guān)閉閥門。

所述雜質(zhì)收集槽中設(shè)有一個(gè)能夠阻隔雜質(zhì)又能夠透氣的立式過濾柵格；吹氣反清洗時(shí)，氣流將過濾介質(zhì)中的雜質(zhì)顆粒吹送到雜質(zhì)收集槽中的立式過濾柵格上，使過濾介質(zhì)能夠長時(shí)間過濾使用。

本實(shí)用新型的有益效果是：采用上述結(jié)構(gòu)，通過設(shè)置一個(gè)專用的拋光液處理裝置，拋光液處理裝置中的拋光液混合容器能夠在持續(xù)旋轉(zhuǎn)時(shí)進(jìn)行過濾，混合及初步過濾除雜效果好，混合及初步過濾除雜后的拋光液再經(jīng)過精密過濾裝置中的兩層過濾介質(zhì)過濾，過濾后的拋光液中的雜質(zhì)大大降低，過濾后的拋光液能夠直接供給拋光機(jī)使用，精密過濾裝置中還設(shè)置過濾介質(zhì)吹氣反清洗接口和雜質(zhì)收集槽，能夠定期對過濾介質(zhì)進(jìn)行吹氣清潔，使過濾介質(zhì)能夠長時(shí)間過濾使用，確保過濾除雜效果穩(wěn)定可靠。

附圖說明

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。其中：

圖1是本實(shí)用新型光學(xué)晶體研磨拋光用拋光液處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

為詳細(xì)說明本實(shí)用新型的技術(shù)內(nèi)容、構(gòu)造特征、所實(shí)現(xiàn)目的及效果，以下結(jié)合實(shí)施方式并配合附圖詳細(xì)說明。

請參閱圖1所示，本實(shí)用新型光學(xué)晶體研磨拋光用拋光液處理裝置包括一個(gè)拋光液混合容器1，所述拋光液混合容器1的內(nèi)部側(cè)壁上設(shè)有便于混合拋光液的葉片11，所述拋光液混合容器1傾斜置于一個(gè)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置2上，所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置2中設(shè)有三個(gè)能夠支撐驅(qū)動(dòng)所述拋光液混合容器1的驅(qū)動(dòng)輥輪21，其中設(shè)于最低端的所述驅(qū)動(dòng)輥輪21連接有驅(qū)動(dòng)電機(jī)22，所述拋光液混合容器1的底部設(shè)有一個(gè)拋光液出口12，所述拋光液混合容器1內(nèi)部靠近所述拋光液出口12處設(shè)有一次過濾網(wǎng)片13，所述一次過濾網(wǎng)片13上設(shè)有便于更換的過濾布14，所述拋光液出口12連接一個(gè)精密過濾裝置3，所述精密過濾裝置3中設(shè)有兩層過濾介質(zhì)31，兩層所述過濾介質(zhì)31之間設(shè)有一個(gè)過渡腔體32，所述過渡腔體32的側(cè)壁上連接有一個(gè)雜質(zhì)收集槽33，所述精密過濾裝置3的出口連接拋光液供給裝置4，所述精密過濾裝置3的出口還設(shè)有一個(gè)過濾介質(zhì)吹氣反清洗接口34，所述過濾介質(zhì)吹氣反清洗接口34連接有清潔壓縮氣源5。

所述拋光液混合容器1和精密過濾裝置2之間設(shè)有一個(gè)活動(dòng)連接的軟管6，所述軟管6上設(shè)有自動(dòng)控制的開關(guān)閥門61。

所述雜質(zhì)收集槽33中設(shè)有一個(gè)能夠阻隔雜質(zhì)又能夠透氣的立式過濾柵格35。

以上所述僅為本實(shí)用新型的實(shí)施例，并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍，凡是利用本實(shí)用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。