本實(shí)用新型屬于柔性包裝薄膜材料技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種高附著力鍍鋁膜。

背景技術(shù)：

在柔性包裝領(lǐng)域，特別是在食品包裝領(lǐng)域，聚合物薄膜由于具有價(jià)廉、質(zhì)輕、透光性好的等優(yōu)點(diǎn)，越來越多的被人們用于替代玻璃或金屬包裝制品。但是，聚合物薄膜對(duì)氧氣、水蒸氣等小分子物質(zhì)的阻隔性較差，嚴(yán)重地影響其在包裝領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用。在聚合物薄膜表面蒸鍍鋁膜可以提高其阻隔性能，鍍鋁膜表面致密的“鋁光澤”有較好的阻隔效果，從而既起到美化產(chǎn)品包裝，提高產(chǎn)品檔次，又可減少包裝成本。正因?yàn)殄冧X膜產(chǎn)品具有美觀、價(jià)廉及較好的阻隔性能，所以許多廠家都采用鍍鋁膜復(fù)合包裝。目前，鍍鋁膜在國內(nèi)外復(fù)合膜市場中已經(jīng)被使用廣泛，但鍍鋁膜附著力差的問題嚴(yán)重制約著其大規(guī)模推廣和應(yīng)用。如何有效增強(qiáng)鍍鋁膜的附著性能，獲得高附著力鍍鋁膜，成為整個(gè)印刷、包裝行業(yè)亟待解決的問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于提供一種高附著力鍍鋁膜，以克服傳統(tǒng)鍍鋁膜附著性能差、易脫落的問題。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下：

一種高附著力鍍鋁膜，包括鍍膜基材和最外層的鍍鋁層，其特征在于，在鍍膜基材和最外層的鍍鋁層之間有金屬緩沖層，金屬緩沖層的厚度為5-50nm，鍍鋁層的厚度為10-200nm。

在一些具體實(shí)施方案中，鍍膜基材包括常規(guī)鍍鋁基材的聚酯(PET)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、雙向拉伸聚丙烯(BOPP)。

在一些具體實(shí)施方案中，金屬緩沖層的金屬包括：鋁(Al)、銅(Cu)、鉻(Cr)、鈦(Ti)、鐵(Fe)或這些金屬的合金。

在一些具體實(shí)施方案中，金屬緩沖層通過磁控濺射制備。

在一些具體實(shí)施方案中，鍍鋁層可以通過電阻法蒸發(fā)、電子束法蒸發(fā)、高頻感應(yīng)蒸發(fā)或磁控濺射制備，采用磁控濺射制備時(shí)可以和金屬緩沖層在同一套裝置中完成。

本實(shí)用新型在鍍膜基材和最外層的鍍鋁層之間增加金屬緩沖層，可以極大地增強(qiáng)鍍鋁膜的附著性能，可獲得附著力在10N/15mm以上的高附著性能鍍鋁膜，產(chǎn)品附加值高。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型的高附著力鍍鋁膜剖視結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標(biāo)記：1表示鍍鋁層，2表示緩沖層，3表示柔性基材。

具體實(shí)施方式

本實(shí)用新型提供的一種高附著力鍍鋁膜，是在聚合物薄膜表面沉積金屬緩沖層，然后沉積鋁膜，獲得高附著力鍍鋁膜，以克服傳統(tǒng)鍍鋁膜附著性能差、易脫落的問題。

一種高附著力鍍鋁膜，包括鍍膜基材和最外層的鍍鋁層，在鍍膜基材和最外層的鍍鋁層之間有金屬緩沖層，金屬緩沖層的厚度為5-50nm，鍍鋁層的厚度為10-200nm。鍍膜基材選自常規(guī)鍍鋁基材的聚酯(PET)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、雙向拉伸聚丙烯(BOPP)。金屬緩沖層的金屬選自鋁(Al)、銅(Cu)、鉻(Cr)、鈦(Ti)、鐵(Fe)或這些金屬的合金。金屬緩沖層通過磁控濺射制備；鍍鋁層可以通過電阻法蒸發(fā)、電子束法蒸發(fā)、高頻感應(yīng)蒸發(fā)或磁控濺射制備，采用磁控濺射制備時(shí)可以和金屬緩沖層在同一套裝置中完成。

下面舉出幾個(gè)具體實(shí)施例以進(jìn)一步理解本實(shí)用新型：

實(shí)施例1

以PET為鍍膜基材，放入直流磁控濺射裝置樣品臺(tái)固定，然后抽真空至本底氣壓5×10^-3Pa；通入濺射氣體氬氣，氣壓為0.8Pa，以Al靶為濺射靶材，濺射電壓380V，濺射電流6.0A時(shí)，維持穩(wěn)定的濺射狀態(tài)3s，形成金屬Al緩沖層。將鍍有Al緩沖層的PET薄膜送入鎢絲蒸發(fā)鍍膜室蒸鍍鋁膜，鋁膜厚度95nm，獲得附著力為12.15N/15mm的鍍鋁膜。

實(shí)施例2

以PE為鍍膜基材，放入直流磁控濺射裝置樣品臺(tái)固定，然后抽真空至本底氣壓6×10^-3Pa；通入濺射氣體氬氣，氣壓為0.6Pa，以Cr靶為濺射靶材，濺射電壓385V，濺射電流6.2A時(shí)，維持穩(wěn)定的濺射狀態(tài)5s，形成金屬Cr緩沖層。將鍍有Cr緩沖層的PE薄膜送入電子束蒸發(fā)鍍膜室蒸鍍鋁膜，鋁膜厚度120nm，獲得附著力為15.37N/15mm的鍍鋁膜。

實(shí)施例3

以PET為鍍膜基材，放入高功率脈沖磁控濺射裝置樣品臺(tái)固定，然后抽真空至本底氣壓5×10^-3Pa；通入濺射氣體氬氣，氣壓為0.5Pa，以Cr靶為濺射靶材，高功率脈沖電壓1000V，頻率200Hz，脈寬：50us，維持穩(wěn)定的濺射狀態(tài)30s，形成金屬Cr緩沖層。將鍍有Cr緩沖層的PET薄膜送入鎢絲蒸發(fā)鍍膜室蒸鍍鋁膜，鋁膜厚度100nm，獲得附著力為16.58N/15mm的鍍鋁膜。

實(shí)施例4

以BOPP為鍍膜基材，放入高功率脈沖磁控濺射裝置樣品臺(tái)固定，然后抽真空至本底氣壓5×10^-3Pa；通入濺射氣體氬氣，氣壓為0.5Pa，以Ti靶為濺射靶材，高功率脈沖電壓900V，頻率200Hz，脈寬：100us，維持穩(wěn)定的濺射狀態(tài)60s，形成金屬Ti緩沖層。將鍍有Ti緩沖層的BOPP薄膜送入鎢絲蒸發(fā)鍍膜室蒸鍍鋁膜，鋁膜厚度90nm，獲得附著力為11.62N/15mm的鍍鋁膜。

實(shí)施例5

以PET為鍍膜基材，放入中頻磁控濺射裝置中，然后抽真空至本底氣壓6×10^-3Pa；通入濺射氣體氬氣，氣壓為0.8Pa，以Al靶為濺射靶材，中頻濺射功率11kW，維持穩(wěn)定的濺射狀態(tài)10s，形成金屬Al緩沖層。將鍍有Al緩沖層的PET薄膜送入高頻感應(yīng)蒸發(fā)鍍膜室蒸鍍鋁膜，鋁膜厚度150nm，獲得附著力為10.25N/15mm的鍍鋁膜。