1.一種處理鈦精礦的系統(tǒng)，包括：轉(zhuǎn)底爐和磨礦磁選設(shè)備，
所述轉(zhuǎn)底爐包括入料口、出料口和擋墻，
所述擋墻位于所述轉(zhuǎn)底爐的爐體內(nèi)，將所述爐體內(nèi)的環(huán)形空間分隔為氧化焙燒區(qū)和還原焙燒區(qū)，所述轉(zhuǎn)底爐入料口位于所述氧化焙燒區(qū)，所述轉(zhuǎn)底爐出料口位于所述還原焙燒區(qū)；
所述磨礦磁選設(shè)備包括入料口和出料口；
所述轉(zhuǎn)底爐出料口連接所述磨礦磁選設(shè)備入料口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)進(jìn)一步包括細(xì)磨機(jī)、造球機(jī)、干燥裝置，
所述細(xì)磨機(jī)包括出料口；
所述造球機(jī)包括入料口和出料口；
所述干燥裝置包括入料口和出料口；
所述細(xì)磨機(jī)出料口連接所述造球機(jī)入料口，所述造球機(jī)出料口連接所述干燥裝置入料口，所述干燥裝置出料口連接所述轉(zhuǎn)底爐入料口。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述轉(zhuǎn)底爐進(jìn)一步包括還原混合劑入口，所述還原混合劑入口位于所述還原焙燒區(qū)遠(yuǎn)離轉(zhuǎn)底爐出料口端的爐頂。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述擋墻的數(shù)量為兩個(gè)，所述兩個(gè)擋墻之間環(huán)形空間的弧度為150°～180°構(gòu)成所述氧化焙燒區(qū)，所述擋墻底部與所述轉(zhuǎn)底爐的爐底上表面的距離為10～20cm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述轉(zhuǎn)底爐入料口與所述轉(zhuǎn)底爐出料口之間扇形區(qū)域的弧度為10°～20°。