本實用新型涉及太陽能硅片清洗設備技術領域，尤其涉及一種太陽能硅片清洗酸槽的酸排放結構。

背景技術：

現有技術中，太陽能硅片在清洗的過程中需要用到酸液，而且需要用到不同濃度的酸液現在的酸液無論濃度高低均為統(tǒng)一排放，這樣就給后續(xù)的廢液處理增加了污水處理的成本。

技術實現要素：

為了克服現有技術的不足，本實用新型的目的在于提供一種太陽能硅片清洗酸槽的酸排放結構，其可以降低清洗酸液后續(xù)污水處理的成本。

本實用新型的目的采用以下技術方案實現：

一種太陽能硅片清洗酸槽的酸排放結構，所述酸排放結構包括酸槽，所述酸槽上設置有稀酸排放管和濃酸排放管，所述稀酸排放管和濃酸排放管與所述酸槽連通，所述稀酸排放管(2)上設置有第一控制閥，所述濃酸排放管上設置有第二控制閥。

優(yōu)選的，所述稀酸排放管上設置有流量測量裝置。

優(yōu)選的，所述濃酸排放管上設置有流量測量裝置。

優(yōu)選的，所述稀酸排放管和濃酸排放管上分別設置有流量測量裝置。

優(yōu)選的，所述流量測量裝置為流量傳感器。

優(yōu)選的，所述酸槽中設置有酸度測量裝置。

相比現有技術，本實用新型的有益效果在于：本實用新型可以降低清洗酸液后續(xù)污水處理的成本。

附圖說明

圖1為本實用新型實施例的主視圖；

具體實施方式

下面，結合附圖以及具體實施方式，對本實用新型做進一步描述：

如圖1所示為本實用新型一種太陽能硅片清洗酸槽的酸排放結構的實施例，所述酸排放結構包括酸槽1，所述酸槽1上設置有稀酸排放管2和濃酸排放管5，所述稀酸排放管2和濃酸排放管5與所述酸槽1連通，所述稀酸排放管2上設置有第一控制閥3，所述濃酸排放管5上設置有第二控制閥4。

本實施例中，稀酸排放管2上設置有流量測量裝置。

本實施例中，濃酸排放管5上設置有流量測量裝置。

本實施例中，流量測量裝置為流量傳感器。

酸槽1中設置有酸度測量裝置用于測量酸槽1中使用酸的酸度，當酸度較高的時候則采用濃酸排放管5排放，而酸度較低的時候則采用稀酸排放管2進行排放，本實施例酸槽內濃酸和稀酸單獨排放，降低后期污水處理成本。

對本領域的技術人員來說，可根據以上描述的技術方案以及構思，做出其它各種相應的改變以及形變，而所有的這些改變以及形變都應該屬于本實用新型權利要求的保護范圍之內。