本實用新型涉及鍍膜技術領域，具體涉及一種鍍膜用的石英塊。

背景技術：

眾所周知，鍍膜工藝在工業(yè)界的應用極廣，一般常使用在金屬加工業(yè)、半導體業(yè)以及光電產(chǎn)業(yè)等。近幾年來，又由于半導體業(yè)與光電產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展，使得鍍膜技術又有重大的進展。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

蒸發(fā)鍍膜簡稱為蒸鍍，通常將薄膜材料由固態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)或離子態(tài)，氣態(tài)或離子態(tài)的材料由蒸發(fā)源穿越空間，抵達基本表面，材料抵達基板表面后，將沉積而逐漸形成薄膜。

目前蒸發(fā)鍍膜采用的方法是在一個圓形的大基盤中間設置一個圓形的凹槽，再將與凹槽形狀一致的圓環(huán)形的石英環(huán)或石英砂放入凹槽內(nèi)進行加熱鍍膜，但是這種方法使得石英用量過多，導致浪費，鍍膜過程的溫度也較難控制，且坩堝厚度太厚，生產(chǎn)效率較低。

技術實現(xiàn)要素：

本實用新型為了解決上述問題，提供了一種結(jié)構(gòu)簡單，能夠有效減少生產(chǎn)成本且提高生產(chǎn)效率的鍍膜用石英塊。

本實用新型采用如下技術方案：

一種鍍膜用石英塊，包括基盤和固定盤，所述基盤為圓形結(jié)構(gòu)，基盤內(nèi)設有一個圓形的凹槽，基盤的外圓周與凹槽的外圓周之間設有若干個固定槽，固定槽延基盤的中心向徑向方向均勻分布，所述固定槽內(nèi)嵌套有與固定槽大小相同的坩堝，坩堝內(nèi)設有石英塊，所述固定盤為圓環(huán)形，坩堝通過固定盤固定于固定槽內(nèi)。

作為本實用新型的一種優(yōu)選技術方案，所述固定槽的數(shù)量為1個以上。

作為本實用新型的一種優(yōu)選技術方案，所述石英塊的形狀為圓形或多邊形。

作為本實用新型的一種優(yōu)選技術方案，所述固定盤的外圓周大小與基盤的外圓周大小相同，固定盤的內(nèi)圓周大小與凹槽的外圓周大小相同，所述固定盤上設有固定孔，固定孔的位置與固定槽的位置相對應。

本實用新型的有益效果是：

本實用新型結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，將鍍膜用的石英環(huán)設置成多邊體的石英塊，且將石英塊分布在不同的小坩堝內(nèi)進行鍍膜，使得石英塊的受熱更加均勻，鍍膜溫度更加容易控制，且減少了生產(chǎn)成本，進一步提高了生產(chǎn)效率。

附圖說明

圖1為本實用新型一種鍍膜用石英塊的主視圖；

圖2為本實用新型的固定盤結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3位本實用新型的石英塊的各種形狀結(jié)構(gòu)示意圖；

圖中符號說明：

基盤1，固定盤2，凹槽3，固定槽4，坩堝5，石英塊6，固定孔7。

具體實施例

現(xiàn)在結(jié)合附圖對本實用新型行進一步詳細說明。

如圖1至圖2所示，一種鍍膜用石英塊，包括基盤1和固定盤2，所述基盤1為圓形結(jié)構(gòu)，基盤1內(nèi)設有一個圓形的凹槽3，基盤1的外圓周與凹槽3的外圓周之間設有若干個固定槽4，固定槽4延基盤1的中心向徑向方向均勻分布，所述固定槽4內(nèi)嵌套有與固定槽4大小相同的坩堝5，坩堝5內(nèi)設有石英塊6，所述固定盤2為圓環(huán)形，坩堝5通過固定盤2固定于固定槽4內(nèi)，所述固定槽4的個數(shù)為18個，所述石英塊6的形狀為長方形。

所述固定盤2的外圓周大小與基盤1的外圓周大小相同，固定盤2的內(nèi)圓周大小與凹槽3的外圓周大小相同，所述固定盤2上設有固定孔7，固定孔7的位置與固定槽3的位置相對應。

如圖3所示，與上述實施例不同之處在于，石英塊可以為圓形、菱形、五邊形或六邊形。

最后應說明的是：這些實施方式僅用于說明本實用新型而不限制本實用新型的范圍。此外，對于所屬領域的技術人員來說，在上述說明的基礎上還可以做出其它不同形式的變化或變動。這里無需也無法對所有的實施方式予以窮舉。而由此所引申出的顯而易見的變化或變動仍處于本實用新型的保護范圍之中。