本實(shí)用新型涉及設(shè)備制造技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種蒸鍍坩堝以及一種包括該蒸鍍坩堝的蒸鍍系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

一般的，顯示裝置的顯示方式包括液晶顯示(Liquid Crystal Display，LCD)和有機(jī)發(fā)光二極管顯示(Organic Light-Emitting Diode，OLED)，有機(jī)發(fā)光二極管顯示(OLED)與液晶顯示(LCD)相比，具有輕薄、低功耗、高對(duì)比度、高色域以及柔性顯示等優(yōu)點(diǎn)，成為下一代顯示器的發(fā)展趨勢(shì)。有機(jī)發(fā)光二極管顯示(OLED)包括有源矩陣有機(jī)發(fā)光二級(jí)管(Active Matrix Organic Light Emitting Diode，AMOLED)和無源矩陣有機(jī)發(fā)光二極管(Passive Matrix Organic Light Emitting Diode，PMOLED)。實(shí)現(xiàn)有機(jī)發(fā)光二極管顯示(OLED)顯示時(shí)，使用低溫多晶硅面板(Low Temperature Poly-silicon，LTPS)+高精度金屬掩膜板(Fine Metal Mask，F(xiàn)MM)的方式已初步成熟。

上述高精度金屬掩膜板(FMM)模式，是通過蒸鍍方式將有機(jī)材料(OLED)按照預(yù)定程序蒸鍍到低溫多晶硅面板(LTPS)上，利用高精度金屬掩膜板(FMM)上的圖形形成紅、綠、藍(lán)器件。蒸鍍是在真空腔體中，使用線性蒸鍍坩堝進(jìn)行蒸鍍。

但是，在有機(jī)材料(OLED)的蒸鍍過程中，由于蒸鍍出的有機(jī)材料(OLED)為蓬松結(jié)構(gòu)，很容易在坩堝蓋子的蒸鍍孔部位集結(jié)，直至將蒸鍍孔完全堵住。但由于有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示器件制作工藝的特殊性，需要在持續(xù)的真空環(huán)境下，連續(xù)完成有機(jī)材料(OLED)的蒸鍍，而一旦蒸鍍孔被堵，將使有機(jī)材料(OLED)無法蒸發(fā)，使蒸鍍工藝無法繼續(xù)進(jìn)行，嚴(yán)重影響生產(chǎn)進(jìn)度。這種情況下，傳統(tǒng)的解決方案，將有機(jī)材料(OLED)降溫至室溫，再打開蒸鍍?cè)O(shè)備腔體，處理堵住蒸鍍孔的蒸發(fā)源后，再關(guān)上蒸鍍?cè)O(shè)備腔體，然后才能開始再次加熱有機(jī)材料(OLED)繼續(xù)蒸鍍工藝，通常這一流程需要耗費(fèi)幾十小時(shí)，對(duì)生產(chǎn)計(jì)劃有嚴(yán)重的影響并且影響產(chǎn)品質(zhì)量。另外，有機(jī)蒸鍍坩堝材質(zhì)為鈦材質(zhì)，采用加熱絲加熱方式，鈦低熱傳導(dǎo)性能、加熱絲高溫形變等會(huì)導(dǎo)致坩堝內(nèi)材料受熱不均，造成局部高溫，這會(huì)導(dǎo)致有機(jī)材料(OLED)灰化變性，影響產(chǎn)品性能。

因此，如何設(shè)計(jì)出一種能夠有效疏通蒸鍍孔的蒸鍍坩堝結(jié)構(gòu)成為本領(lǐng)域亟待解決的技術(shù)問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一，提出了一種蒸鍍坩堝和一種包括該蒸鍍坩堝的蒸鍍系統(tǒng)。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，一方面，本實(shí)用新型提供一種蒸鍍坩堝，所述蒸鍍坩堝包括坩堝本體、可分離的設(shè)置在所述坩堝本體出口處的坩堝蓋和至少一個(gè)噴嘴，所述噴嘴固定在所述坩堝蓋上，以將所述坩堝本體的內(nèi)部與外部連通，所述坩堝本體上設(shè)置有至少一個(gè)通孔；所述蒸鍍坩堝還包括至少一個(gè)密封蓋和至少一個(gè)清理組件，所述密封蓋可打開地對(duì)所述通孔進(jìn)行密封，所述清理組件能夠穿過所述通孔進(jìn)入所述坩堝本體內(nèi)部并對(duì)所述噴嘴進(jìn)行清理。

優(yōu)選地，所述通孔設(shè)置在所述坩堝本體的底壁上，且所述通孔的位置與所述噴嘴相對(duì)應(yīng)。

優(yōu)選地，所述蒸鍍坩堝還包括至少一個(gè)容納筒，一個(gè)所述容納筒對(duì)應(yīng)至少一個(gè)所述通孔，所述容納筒固定設(shè)置在所述坩堝本體的底壁上，且所述容納筒的內(nèi)部與相應(yīng)的所述通孔連通，每個(gè)所述容納筒對(duì)應(yīng)一個(gè)所述密封蓋，且每個(gè)所述密封蓋設(shè)置在與其所對(duì)應(yīng)的所述容納筒的頂端開口處。

優(yōu)選地，所述清理組件包括刮板和驅(qū)動(dòng)桿，所述刮板設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)桿的一端，所述驅(qū)動(dòng)桿能夠帶動(dòng)所述刮板沿所述容納筒的軸線方向移動(dòng)，且所述刮板能夠移動(dòng)至所述噴嘴處，并與所述噴嘴接觸。

優(yōu)選地，所述驅(qū)動(dòng)桿中設(shè)置有沿該驅(qū)動(dòng)桿的軸向延伸的容納腔，所述驅(qū)動(dòng)桿上還設(shè)置有激光入口和激光出口，所述容納腔分別連通所述激光入口和所述激光出口，且所述激光出口與所述刮板相鄰，所述清理組件還包括激光傳導(dǎo)件，所述激光傳導(dǎo)件設(shè)置在所述容納腔中，且所述激光傳導(dǎo)件的一端位于所述激光入口中，所述激光傳導(dǎo)件的另一端位于所述激光出口中，以使得該激光傳導(dǎo)件能夠?qū)⒓す鈧鲗?dǎo)至所述清理組件的外部。

優(yōu)選地，所述驅(qū)動(dòng)桿還能夠帶動(dòng)所述刮板繞所述容納筒的軸線轉(zhuǎn)動(dòng)。

優(yōu)選地，所述蒸鍍坩堝還包括至少一個(gè)保護(hù)殼和至少一個(gè)加熱件，每個(gè)所述容納筒對(duì)應(yīng)一個(gè)所述保護(hù)殼和一個(gè)所述加熱件，且每個(gè)所述保護(hù)殼套設(shè)在與其所對(duì)應(yīng)的所述容納筒的外部且與該容納筒間隔設(shè)置，每個(gè)所述加熱件設(shè)置在與其所對(duì)應(yīng)的所述容納筒和所述保護(hù)殼的間隔中。

優(yōu)選地，所述蒸鍍坩堝還包括至少一個(gè)頂桿和至少一個(gè)引導(dǎo)套，每個(gè)密封蓋對(duì)應(yīng)一個(gè)所述頂桿，每個(gè)所述頂桿的一端與其所對(duì)應(yīng)的所述密封蓋的邊部固定連接，每個(gè)所述頂桿能夠沿與其所對(duì)應(yīng)的所述容納筒的軸線方向移動(dòng)，且每個(gè)所述頂桿還能夠繞自身軸線轉(zhuǎn)動(dòng)，每個(gè)所述頂桿設(shè)置在與其所對(duì)應(yīng)的所述保護(hù)殼和所述容納筒的間隔中，每個(gè)所述頂桿的外部均套設(shè)一個(gè)引導(dǎo)套，每個(gè)所述引導(dǎo)套設(shè)置在與其所對(duì)應(yīng)的所述保護(hù)殼的內(nèi)壁上。

優(yōu)選地，所述蒸鍍坩堝還包括收集槽，所述收集槽用于接收由所述清理組件從所述噴嘴上移除的物體。

另一方面，本實(shí)用新型提供了一種蒸鍍系統(tǒng)，所述蒸鍍系統(tǒng)包括蒸鍍坩堝，所述蒸鍍坩堝為上述任意一項(xiàng)所述的蒸鍍坩堝，所述蒸鍍系統(tǒng)還包括抽真空組件，所述抽真空組件能夠與所述噴嘴連通，以通過所述噴嘴對(duì)所述坩堝本體內(nèi)部抽真空。

本實(shí)用新型的蒸鍍坩堝，在進(jìn)行蒸鍍時(shí)，將蒸鍍材料放置于坩堝本體內(nèi)部，保證密封蓋與通孔密閉連接，使得蒸鍍材料能夠從噴嘴噴出以完成蒸鍍工藝。同時(shí)，密封的通孔，還能夠防止蒸鍍材料從該通孔泄漏，造成蒸鍍材料的浪費(fèi)以及環(huán)境的破壞。當(dāng)噴嘴堵塞時(shí)，此時(shí)，可以打開密封蓋，清理組件可以從上述通孔進(jìn)入到坩堝本體內(nèi)部，完成對(duì)堵塞的噴嘴的清理，能夠大大節(jié)省清理時(shí)間，提高蒸鍍工藝產(chǎn)能，節(jié)省成本。

本實(shí)用新型的蒸鍍系統(tǒng)，采用上述任意一種結(jié)構(gòu)的蒸鍍坩堝，能夠大大節(jié)省清理時(shí)間，提高蒸鍍工藝產(chǎn)能，節(jié)省成本。

附圖說明

附圖是用來提供對(duì)本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解，并且構(gòu)成說明書的一部分，與下面的具體實(shí)施方式一起用于解釋本實(shí)用新型，但并不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的限制。在附圖中：

圖1為本實(shí)用新型第一實(shí)施例中蒸鍍坩堝的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型第二實(shí)施例中蒸鍍坩堝的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本實(shí)用新型蒸鍍系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標(biāo)記說明

100：蒸鍍坩堝；

110：坩堝本體；

111：通孔；

120：坩堝蓋；

130：噴嘴；

140：密封蓋；

150：清理組件；

151：刮板；

152：驅(qū)動(dòng)桿；

153：激光傳導(dǎo)件；

154：激光發(fā)生器；

160：容納筒；

170：保護(hù)殼；

180：加熱件；

191a：溫度檢測(cè)件；

191b：頂桿；

191c：引導(dǎo)套；

191d：收集槽；

191e：支撐桿；

200：蒸鍍材料；

300：動(dòng)力源；

400：蒸鍍系統(tǒng)；

410：抽真空組件；

411：抽吸管；

412：移動(dòng)導(dǎo)軌；

413：抽吸管末端罩。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解的是，此處所描述的具體實(shí)施方式僅用于說明和解釋本實(shí)用新型，并不用于限制本實(shí)用新型。

參考圖1，本實(shí)用新型的第一方面，涉及一種蒸鍍坩堝100。該蒸鍍坩堝100包括坩堝本體110、可分離的設(shè)置在坩堝本體110出口處的坩堝蓋120和至少一個(gè)噴嘴130。該噴嘴130固定設(shè)置在坩堝蓋120上，以將坩堝本體110的內(nèi)部與外部連通，坩堝本體110上設(shè)置有至少一個(gè)通孔111。其中，蒸鍍坩堝100還包括至少一個(gè)密封蓋140和至少一個(gè)清理組件150，該密封蓋140可打開地對(duì)通孔111進(jìn)行密封，清理組件150能夠穿過通孔111進(jìn)入坩堝本體110內(nèi)部并對(duì)噴嘴130進(jìn)行清理。

本實(shí)施例結(jié)構(gòu)的蒸鍍坩堝100，在進(jìn)行蒸鍍時(shí)，將蒸鍍材料200放置于坩堝本體110內(nèi)部，保證密封蓋140與通孔111密閉連接，使得蒸鍍材料200能夠從噴嘴130噴出以完成蒸鍍工藝。同時(shí)，密封的通孔111，還能夠防止蒸鍍材料200從該通孔111泄漏，造成蒸鍍材料200的浪費(fèi)以及環(huán)境的破壞。當(dāng)噴嘴130堵塞時(shí)，此時(shí)，可以打開密封蓋140，清理組件150可以從上述通孔111進(jìn)入到坩堝本體110內(nèi)部，完成對(duì)堵塞的噴嘴130的清理，能夠大大節(jié)省清理時(shí)間，提高蒸鍍工藝產(chǎn)能，節(jié)省成本。

需要說明的是，對(duì)于密封蓋140、清理組件150的結(jié)構(gòu)以及如何可打開密封蓋140并沒有作出限定，該密封蓋140應(yīng)當(dāng)與通孔111相適配，以便實(shí)現(xiàn)密封，打開的方式，例如可以采用頂桿結(jié)構(gòu)，頂桿的一端與密封蓋140固定連接，另一端延伸出通孔111外部，以實(shí)現(xiàn)對(duì)密封蓋140的打開或關(guān)閉地操作。再例如，還可以采用密碼鎖的方式，將該密碼鎖設(shè)置在密封蓋140上，密碼鎖的數(shù)字鍵盤位于蒸鍍坩堝100外部，當(dāng)輸入正確的解鎖密碼后，該密封蓋140便可以打開。還可以采用卡扣件，在密封蓋140的一側(cè)上設(shè)置卡槽，利用與該卡槽相適配的卡鉤與卡槽卡接，以實(shí)現(xiàn)密封，當(dāng)需要打開密封蓋時(shí)，從卡槽上拆卸卡鉤，便可以將密封蓋140打開。當(dāng)然，打開的方式以及具體結(jié)構(gòu)并不僅僅限于此，還可以是其他的打開方式以及具體結(jié)構(gòu)。清理組件150應(yīng)當(dāng)滿足能夠自由出入通孔111，且還能夠移動(dòng)至噴嘴130處，以實(shí)現(xiàn)對(duì)噴嘴130的清理。

優(yōu)選地，為了更好地利用上述清理組件150對(duì)噴嘴130進(jìn)行清理，可以將上述通孔111設(shè)置在坩堝本體110的底壁上。其中，該通孔111的位置與上述噴嘴130的位置相對(duì)應(yīng)。

本實(shí)施例結(jié)構(gòu)的蒸鍍坩堝100，通孔111設(shè)置在坩堝本體110的底壁上，且位置與噴嘴130位置相對(duì)應(yīng)，清理組件150可沿通孔111上下移動(dòng)，使得清理組件150的可操作性提高，能夠更好地清理噴嘴130上粘附的蒸鍍材料200。

優(yōu)選地，上述蒸鍍坩堝100還包括至少一個(gè)容納筒160。其中，一個(gè)容納筒160對(duì)應(yīng)至少一個(gè)通孔111，容納筒160固定設(shè)置在坩堝本體110的底壁上，且容納筒160的內(nèi)部與相應(yīng)的通孔111連通，每個(gè)容納筒160對(duì)應(yīng)一個(gè)密封蓋140，且每個(gè)密封蓋140設(shè)置在與其所對(duì)應(yīng)的容納筒160的頂端開口處，以便在進(jìn)行蒸鍍時(shí)，可以將該容納筒160密封。

應(yīng)當(dāng)理解的是，容納筒160的底部開口內(nèi)徑應(yīng)當(dāng)大于或略大于與其所對(duì)應(yīng)的通孔111的內(nèi)徑，以使得容納筒160、密封蓋140以及通孔111之間密閉連接，以確保在進(jìn)行蒸鍍時(shí)，蒸鍍材料200能夠通過噴嘴130噴出，以完成蒸鍍工藝。

本實(shí)施例結(jié)構(gòu)的蒸鍍坩堝100，利用上述設(shè)置的容納筒160，將清理組件150的移動(dòng)限定在該容納筒160內(nèi)部。在進(jìn)行蒸鍍時(shí)，將蒸鍍材料200放置在坩堝本體110內(nèi)，由于坩堝本體110的底部處于密閉連接狀態(tài)，因此蒸鍍材料200全部通過噴嘴130噴出，完成蒸鍍工藝。當(dāng)噴嘴130堵塞時(shí)，將處于容納筒160頂端開口的密封蓋140打開，清理組件150從容納筒160內(nèi)部上升至噴嘴130處，實(shí)現(xiàn)對(duì)噴嘴130的清理，能夠進(jìn)一步地縮短清理時(shí)間，提高蒸鍍工藝產(chǎn)能。

優(yōu)選地，密封蓋140蓋住容納筒160的頂端開口以后，密封蓋140以及容納筒160的總高度應(yīng)當(dāng)?shù)陀谯釄灞倔w110的上邊緣，且應(yīng)當(dāng)高于坩堝本體110內(nèi)蒸鍍材料的最大添加量的頂部(實(shí)際蒸鍍工藝中，最大添加量一般為坩堝本體110高度的四分之三)，當(dāng)密封蓋140打開時(shí)，能夠有效防止蒸鍍材料200從容納筒160內(nèi)部泄漏，避免資源浪費(fèi)以及環(huán)境污染。

優(yōu)選地，上述清理組件150包括刮板151和驅(qū)動(dòng)桿152。其中，刮板151設(shè)置在驅(qū)動(dòng)桿152的一端，驅(qū)動(dòng)桿152能夠帶動(dòng)刮板151沿容納筒160的軸線方向移動(dòng)，且刮板151能夠移動(dòng)至噴嘴130處，并與噴嘴130接觸。

本實(shí)施例結(jié)構(gòu)的蒸鍍坩堝100，是清理組件150的一種具體結(jié)構(gòu)形式，當(dāng)噴嘴130堵塞時(shí)，打開密封蓋140，驅(qū)動(dòng)桿152在動(dòng)力源300(例如，機(jī)械馬達(dá)裝置)的驅(qū)動(dòng)下，可以帶動(dòng)刮板151沿容納筒160的內(nèi)部向上移動(dòng)，直至刮板151處于噴嘴130處，并與噴嘴130接觸，更為具體地，刮板151的外側(cè)邊與噴嘴130接觸，實(shí)現(xiàn)與噴嘴130的線接觸，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，且線接觸能夠提高對(duì)噴嘴130的清理效果，進(jìn)一步地能夠提高蒸鍍工藝產(chǎn)能。

當(dāng)然，上述清理組件150的具體結(jié)構(gòu)并不僅僅限于此，也可以是其他滿足同樣功能的結(jié)構(gòu)。

優(yōu)選地，為了能夠更高效地清理堵塞的噴嘴130，上述驅(qū)動(dòng)桿152還能夠帶動(dòng)刮板151繞容納筒160的軸線轉(zhuǎn)動(dòng)，例如，該驅(qū)動(dòng)桿152可以在動(dòng)力源300的帶動(dòng)下繞自身轉(zhuǎn)動(dòng)，進(jìn)而能夠帶動(dòng)刮板151繞容納筒160的軸線轉(zhuǎn)動(dòng)，能夠徹底清理噴嘴130四周所粘附的蒸鍍材料200，使得清理更加徹底，進(jìn)一步的縮短清理時(shí)間，提高蒸鍍工藝產(chǎn)能。

優(yōu)選地，上述驅(qū)動(dòng)桿152中還設(shè)置有沿該驅(qū)動(dòng)桿152的軸向延伸的容納腔(圖中并未標(biāo)記)，且驅(qū)動(dòng)桿152上還設(shè)置有激光入口(圖中并未標(biāo)記)和激光出口(圖中并未標(biāo)記)，容納腔分別連通該激光入口和激光出口，且激光出口與刮板151相鄰(例如，激光出口可以位于刮板151下方)。其中，清理組件150還包括激光傳導(dǎo)件153，激光傳導(dǎo)件153設(shè)置在容納腔中，且激光傳導(dǎo)件153的一端位于激光入口中，激光傳導(dǎo)件153的另一端位于激光出口中，以使得該激光傳導(dǎo)件153能夠?qū)⒓す鈧鲗?dǎo)至清理組件150的外部。

本實(shí)施例結(jié)構(gòu)的蒸鍍坩堝100，設(shè)置有上述的激光傳導(dǎo)件153，當(dāng)噴嘴130堵塞時(shí)，驅(qū)動(dòng)桿152在動(dòng)力源300的驅(qū)動(dòng)下，帶動(dòng)刮板151向上移動(dòng)至與噴嘴130接觸，同時(shí)，激光傳導(dǎo)件153所傳導(dǎo)的激光將從激光出口傳遞至噴嘴130處，可以加熱氣化粘附于噴嘴130處的蒸鍍材料200，清理能夠更加徹底，更進(jìn)一步的能夠縮短清理時(shí)間，提高蒸鍍工藝產(chǎn)能，當(dāng)然，也可以利用其它加熱方式或結(jié)構(gòu)以實(shí)現(xiàn)氣化粘附于噴嘴130處的蒸鍍材料200，提高清理效果。

優(yōu)選地，為了可以便利地提供上述激光，作為激光的發(fā)射源，上述清理組件150還包括激光發(fā)生器154。其中，激光發(fā)生器154與激光傳導(dǎo)件153的位于激光入口中的一端連接。

優(yōu)選地，上述蒸鍍坩堝100還包括至少一個(gè)保護(hù)殼170和至少一個(gè)加熱件180。其中，每個(gè)容納筒160對(duì)應(yīng)一個(gè)保護(hù)殼170和一個(gè)加熱件180，且每個(gè)保護(hù)殼170套設(shè)在與其所對(duì)應(yīng)的容納筒160的外部且與該容納筒160間隔設(shè)置，每個(gè)加熱件180設(shè)置在與其所對(duì)應(yīng)的容納筒160和保護(hù)殼170的間隔中。

本實(shí)施例結(jié)構(gòu)的蒸鍍坩堝100，設(shè)置有保護(hù)殼170和加熱件180，可以利用加熱件180對(duì)坩堝本體110內(nèi)的蒸鍍材料200進(jìn)行加熱，將加熱件180設(shè)置在保護(hù)殼170和容納筒160的間隔中，能夠防止蒸鍍材料200與該加熱件180接觸，同時(shí)能夠有效提高坩堝本體110內(nèi)的蒸鍍材料200受熱的均一性，避免蒸鍍材料200受熱不均引起局部高溫導(dǎo)致的灰化變性現(xiàn)象。具體的，例如，該加熱件180可以為加熱絲，加熱絲可以纏繞到容納筒160的外表面，該加熱絲將容納筒160加熱，進(jìn)而將熱量傳遞至保護(hù)殼170，加熱后的保護(hù)殼170實(shí)現(xiàn)對(duì)蒸鍍材料200的加熱。

需要說明的是，為了使得蒸鍍坩堝100的結(jié)構(gòu)更加簡(jiǎn)單緊湊，上述結(jié)構(gòu)的保護(hù)殼170可以和容納筒160一體形成。

優(yōu)選地，上述蒸鍍坩堝100還包括溫度檢測(cè)件191a。其中，溫度檢測(cè)件191a用于檢測(cè)蒸鍍坩堝100內(nèi)部的溫度。

本實(shí)施例結(jié)構(gòu)的蒸鍍坩堝100，可以利用溫度檢測(cè)件191a，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)坩堝本體110內(nèi)的溫度。例如，可以采用PLC進(jìn)行控制，一旦監(jiān)測(cè)到坩堝本體110內(nèi)的溫度不符合預(yù)期值，可以通過PLC控制調(diào)節(jié)加熱件180的加熱電流的大小，以保證坩堝本體110內(nèi)的溫度的適當(dāng)性與均一性。

上述對(duì)于溫度檢測(cè)件191a的具體結(jié)構(gòu)并沒有作出限定，例如，該溫度檢測(cè)件191a可以為溫度傳感器，也可以為其他結(jié)構(gòu)的溫度檢測(cè)結(jié)構(gòu)。

優(yōu)選地，上述蒸鍍坩堝100還包括至少一個(gè)頂桿191b。其中，每個(gè)密封蓋140對(duì)應(yīng)一個(gè)頂桿191b，每個(gè)頂桿191b的一端與其所對(duì)應(yīng)的密封蓋140的邊部固定連接。每個(gè)頂桿191b能夠沿與其所對(duì)應(yīng)的容納筒160的軸線方向移動(dòng)，且每個(gè)頂桿191b還能夠繞自身軸線轉(zhuǎn)動(dòng)。每個(gè)頂桿191b設(shè)置在與其所對(duì)應(yīng)的上述保護(hù)殼170和容納筒160的間隔中。

本實(shí)施例結(jié)構(gòu)的蒸鍍坩堝100，是實(shí)現(xiàn)密封蓋140可以打開的一種具體結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)的打開方式，不僅結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，而且操作方便。當(dāng)噴嘴130堵塞時(shí)，頂桿191b在動(dòng)力源300(例如，機(jī)械馬達(dá)裝置)的驅(qū)動(dòng)下可以沿通孔111的軸線方向移動(dòng)，帶動(dòng)密封蓋140脫離容納筒160的頂端開口，同時(shí)，頂桿191b還可以在動(dòng)力源300的驅(qū)動(dòng)下繞自身軸線轉(zhuǎn)動(dòng)，可以帶動(dòng)密封蓋140同步轉(zhuǎn)動(dòng)，由于頂桿191b位于密封蓋140的邊部，因此，轉(zhuǎn)動(dòng)一定角度后，可以打開容納筒160，清理組件150的刮板151在驅(qū)動(dòng)桿152的帶動(dòng)下沿容納筒160內(nèi)部上升至噴嘴130處，完成對(duì)噴嘴130的清理。

優(yōu)選地，為了引導(dǎo)上述結(jié)構(gòu)的頂桿191b，上述蒸鍍坩堝100還包括至少一個(gè)引導(dǎo)套191c。其中，每個(gè)頂桿191b的外部均套設(shè)一個(gè)引導(dǎo)套191c，每個(gè)引導(dǎo)套191c設(shè)置在與其所對(duì)應(yīng)的保護(hù)殼170的內(nèi)壁上。

本實(shí)施例結(jié)構(gòu)的蒸鍍坩堝100，設(shè)置的引導(dǎo)套191c可以將頂桿191b的移動(dòng)軌跡限定在該引導(dǎo)套191c內(nèi)，另外，該引導(dǎo)套191c還能夠防止溫度過高造成頂桿191b結(jié)構(gòu)的破壞，導(dǎo)致密封蓋140不能夠打開。

優(yōu)選地，上述蒸鍍坩堝100還包括收集槽191d。其中收集槽191d用于接收由清理組件150從噴嘴130上移除的物體(粘附于噴嘴130處的蒸鍍材料200)。

需要說明的是，上述收集槽191d可以僅僅包括一個(gè)，針對(duì)不同位置處的噴嘴130進(jìn)行清理時(shí)，該收集槽191d應(yīng)當(dāng)可以移動(dòng)至不同位置處，以便收集清理組件150清理掉的蒸鍍材料200，當(dāng)然，該收集槽191d的數(shù)量可以為多個(gè)，且每個(gè)收集槽191d對(duì)應(yīng)一個(gè)容納筒160，便于更好地收集清理掉的蒸鍍材料200。

本實(shí)施例結(jié)構(gòu)的蒸鍍坩堝100，當(dāng)需要對(duì)噴嘴130進(jìn)行清理時(shí)，通過該收集槽191d可以收集刮板151清理掉的蒸鍍材料200，能夠有效防止蒸鍍材料200掉落到蒸鍍坩堝100外部，造成環(huán)境污染和資源浪費(fèi)。

為了更方便地收集清理組件150清理掉的蒸鍍材料200，該收集槽191d還可以沿容納筒160的軸線移動(dòng)。具體地，蒸鍍坩堝100還包括支撐桿191e，該支撐桿191e的一端與收集槽191d固定連接，另一端與動(dòng)力源300連接，支撐桿191e可以在動(dòng)力源300的驅(qū)動(dòng)下，帶動(dòng)收集槽191d沿容納筒160內(nèi)部移動(dòng)至噴嘴130處，實(shí)現(xiàn)對(duì)清理掉的蒸鍍材料200的收集。

為了使得結(jié)構(gòu)更加緊湊，如圖2所示，上述驅(qū)動(dòng)桿152可以設(shè)置在收集槽191d中，進(jìn)一步地，該驅(qū)動(dòng)桿152與支撐桿191e可以是同一個(gè)結(jié)構(gòu)，此時(shí)，驅(qū)動(dòng)桿152應(yīng)當(dāng)處于收集槽191d的中心位置，通過該驅(qū)動(dòng)桿152帶動(dòng)刮板151的移動(dòng)和轉(zhuǎn)動(dòng)以及收集槽191d的移動(dòng)和轉(zhuǎn)動(dòng)。

更進(jìn)一步，上述噴嘴130的底部還可以設(shè)置有凹槽(圖中并未示出)，該凹槽與收集槽191d相適配，當(dāng)收集槽191d移動(dòng)至噴嘴130處，收集槽191d可以停留在該凹槽中，能夠防止清理過程中蒸鍍材料落到坩堝本體110的外部。

本實(shí)用新型的第二方面，涉及一種蒸鍍系統(tǒng)400。如圖3所示，其中，該蒸鍍系統(tǒng)400包括蒸鍍坩堝100，該蒸鍍坩堝100為上述任意一種結(jié)構(gòu)的蒸鍍坩堝100。

本實(shí)施例結(jié)構(gòu)的蒸鍍系統(tǒng)400，采用上述任意一種結(jié)構(gòu)的蒸鍍坩堝100，能夠大大節(jié)省清理時(shí)間，提高蒸鍍工藝產(chǎn)能，節(jié)省成本。

優(yōu)選地，上述蒸鍍系統(tǒng)400還包括抽真空組件410。具體地，該抽真空組件410包括真空泵(圖中并未示出)和至少一個(gè)抽吸管411，全部的抽吸管411的一端與真空泵連通，每個(gè)抽吸管411對(duì)應(yīng)一個(gè)噴嘴130，且抽吸管411的另一端能夠與其所對(duì)應(yīng)的噴嘴130連通，以通過噴嘴130對(duì)坩堝本體110內(nèi)部進(jìn)行抽真空。

本實(shí)施例結(jié)構(gòu)的蒸鍍系統(tǒng)400，設(shè)置的上述抽真空組件410，當(dāng)蒸鍍坩堝100移動(dòng)至非蒸鍍區(qū)以便對(duì)堵塞的噴嘴130進(jìn)行清理時(shí)，使得抽吸管411與其所對(duì)應(yīng)的噴嘴130連通，可以將清理掉的蒸鍍材料通過該抽吸管411吸收走。

具體地，該抽吸管411可以配合上述具有激光傳導(dǎo)件153的蒸鍍坩堝100使用，該激光傳導(dǎo)件153可以將粘附在噴嘴130處的蒸鍍材料200氣化，抽吸管411可以將氣化后的蒸鍍材料200吸走，以防氣化的蒸鍍材料200污染坩堝本體100，造成蒸鍍不良。

更為具體地，為了使得抽吸管411的與噴嘴130連通的一端能夠完全覆蓋噴嘴130，同時(shí)能夠節(jié)省抽吸管411的成本，可以在抽吸管411與噴嘴130連通的一端增設(shè)抽吸管末端罩413，該抽吸管末端罩413為中空的結(jié)構(gòu)，且其內(nèi)徑大于噴嘴130的內(nèi)徑，以使得該抽吸管411能夠完全將氣化后的蒸鍍材料200吸走。

優(yōu)選地，上述蒸鍍系統(tǒng)400還包括移動(dòng)導(dǎo)軌412。具體地，上述真空泵和抽真空組件410能夠沿移動(dòng)導(dǎo)軌412移動(dòng)，以使得抽真空組件410中的每個(gè)抽吸管411能夠移動(dòng)至與其所對(duì)應(yīng)的噴嘴130處，并與該噴嘴130連通。

本實(shí)施例結(jié)構(gòu)的蒸鍍系統(tǒng)400，當(dāng)需要對(duì)蒸鍍坩堝100進(jìn)行清潔時(shí)，將蒸鍍坩堝100移動(dòng)至非蒸鍍區(qū)，同時(shí)，利用該移動(dòng)導(dǎo)軌412，帶動(dòng)抽吸管411移動(dòng)，以便使得抽吸管411可以移動(dòng)至與其所對(duì)應(yīng)的噴嘴130處，與該噴嘴130連通，以便對(duì)坩堝本體110抽真空，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作方便，能夠大大節(jié)省清理時(shí)間，提高蒸鍍工藝產(chǎn)能。

可以理解的是，以上實(shí)施方式僅僅是為了說明本實(shí)用新型的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本實(shí)用新型并不局限于此。對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本實(shí)用新型的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。